テクセンドフォトマスク株式会社

3 【事業の内容】当社は、半導体用フォトマスクの製造・販売会社として、TOPPANグループから吸収分割により事業を継承する会社として設立され、2022年4月より営業を開始しました。当社グループは当社、連結子会社13社及び持分法適用会社2社の計16社で構成されており、世界各地に広がるサービスネットワークと主要な半導体需要地域に所在する8つの製造拠点を活用し、EUVマスク生産などを手掛ける等、業界最先端の技術開発力で、外販フォトマスク市場のリーディングカンパニーとして事業活動を行っております。また、微細加工技術を応用し、ナノインプリントモールド等の新事業領域の開拓を進めております。当社グループの事業は、前身であるTOPPANグループにおいて印刷テクノロジーの一つである微細加工技術を応用し、1968年にトランジスタ用のマスクの量産を開始したことに端を発しております。以来、半世紀以上に及ぶ歴史の中で、台湾に中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)を設立し、また、DuPont Photomasks, Inc.を買収することで、今日では世界各国に製造拠点を有する外販フォトマスクメーカーとして、2024年において半導体向け外販フォトマスク市場におけるシェア37.8％というトップの位置におります。(出典 SEMI「2024 PHOTOMASK CHARACTERIZATION STUDY」)当社グループの報告セグメントはフォトマスク事業の単一セグメントでありますが、事業の内容の記載にあたりましては、以下「フォトマスク事業領域」と「新事業領域」に区分して記載いたします。 (フォトマスク事業領域)フォトマスクとは、フォトリソグラフィ技術※において、対象物に任意の図形(パターン)を転写するための原版となるガラス基板であり、一般に写真のネガに例えられます。今日では半導体製造工程の一つである露光(リソグラフィ)プロセスにおいて広く使用されており、フォトマスク上の半導体回路パターンをシリコンウェハ上に縮小露光することにより微細な回路パターンを形成することが可能となります。当社グループでは半導体メーカーや研究機関等の顧客から量産及び試作・研究開発用途で、様々な高精細フォトマスクの製造を受託しております。半導体用フォトマスクは、半導体製造プロセスにおける「金型」として極めて重要な役割を果たすものであり、微細かつ高精度な製品を短納期で納入することが求められます。フォトマスクは、顧客より支給された半導体回路のパターンデータをもとに、電子ビーム等でマスクブランクス(ガラス基板上に遮光膜を成膜し、その上に感光材であるフォトレジストをコーティングしたもの)上に回路パターンを描画し、現像・エッチングを経て製造されます。顧客に納入するに際しては、この後、各種寸法の測定や外観形状の検査を経て、顧客が要求する精度・仕様に合致していることの品質保証が必要となります。 半導体用フォトマスクの使用イメージ (光マスク)半導体用フォトマスクの製造工程 (1) 半導体用フォトマスクについて① 業界構造及び当社グループの事業領域について半導体市場におけるビジネスモデルは、時代とともに大きく変化しており、かつては設計から製造まで一貫して行う垂直統合型が主流でしたが、1980年代後半以降、微細化競争の激化に伴い、水平分業型が台頭しました。今日の市場は、半導体の設計から製造、販売までを一貫して行う垂直統合型デバイスメーカー「IDM(Integrated Device Manufacturer)」が存続している一方、水平分業型モデルにおける自社で製造工程を持たない「ファブレス」と呼ばれるモデルとして、半導体設計のみを手掛ける「デザインハウス」と、実際にその半導体製造を請け負う「ファウンドリ」と呼ばれるプレイヤーによって構成されております。IDMがフォトマスクを自社で内製する方針を継続してきた一方、水平分業化の潮流の中で、ファウンドリにおいてはフォトマスクの生産を100％外部委託するモデルも確立されました。これにより、半導体用フォトマスクは内製と外販という2つの大きな市場を形成しております。当社グループは外販フォトマスクメーカーとして、内製機能を持たないファウンドリからの需要に加え、内製において生産キャパシティを超過した際のフォトマスク需要についても製造を委託されております。半導体デバイス製造工程におけるフォトマスクの位置づけを図に示すと以下のとおりとなります。 ② 需要構造について半導体デバイスは、主にロジック半導体とメモリ半導体に大別されます。ロジック半導体は、電子機器の頭脳とも呼べるもので、情報を処理し、論理演算や制御を行うものであり、CPU(中央処理装置)やGPU(画像処理装置)等がこれに該当します。汎用的なものから特定のアプリケーションに特化したものまで幅広い製品が存在しますが、基本的にはアプリケーションごとに開発設計がなされます。近年は微細化技術の進展に伴う設備投資負担の高まりから、フォトマスクの外販化が進んできております。メモリ半導体は、データを記憶するための半導体であり、短期記憶向けのDRAMや長期記憶向けのNAND型フラッシュメモリ等が該当します。メモリ半導体は主に同一製品を大ロットで量産・在庫販売するものであるため、メモリ半導体メーカーは規模の経済を追求する必要があります。そのため、ロジック半導体と比較して、メモリ半導体用フォトマスクはIDMによる内製の割合が高い市場となります。当社グループにおいては、ロジック半導体用フォトマスクが主軸製品となりますが、HBM(High Bandwidth Memory：高帯域幅メモリ)など開発競争の高まりに加え、メモリ需要の拡大・供給能力の逼迫などの影響を受け、メモリ半導体用フォトマスクの外販化需要も増加しております。 当社グループにおける半導体用フォトマスクの生産量は、フォトマスクが回路原版として使われるため、単に半導体市場全体の製造ボリュームに比例するものではなく、回路パターンの複雑さや半導体デバイスの設計件数に影響を受けます。そのため、同一製品を大量生産するメモリ半導体市場よりもロジック半導体市場の動向に左右されやすい傾向にあるといえます。また、半導体市場においては微細化の度合いを、回路線幅等に基づくプロセスノード※によって分類し、「〇〇ナノメートル」と表現しております。基準値はその時代々々によって流動的であるものの、プレイヤーの限られる先端技術を用いて作られるものを「先端ノード」、技術的に普及が進んだものを「レガシーノード」と大別されております。かつては微細化が進むことで既存のレガシーノード需要が先端ノードに置き換えられてしまうという、プロセスマイグレーションの考え方が一般的でしたが、現代ではIoT※や車載向けなど、必ずしも最先端の技術を必要としない半導体デバイスの量的需要が増加したことで、先端ノードはもちろんのこと、レガシーノードにおいても市場規模の拡大が続いております。 半導体用フォトマスクの需要は、半導体デバイスメーカーにおける新たな技術ノードへの対応や、新たな生産プロセス構築のための「研究開発・試作生産フェーズ」と既に確立した生産プロセスを用いる「量産フェーズ」のそれぞれにおいて発生します。そのため、半導体デバイスそのものの量的需要とは別に、半導体デバイスメーカーの技術開発・製品開発が続く限り、一定の需要が継続安定的に発生いたします。また、研究開発段階において半導体用フォトマスクを提供するパートナーに選ばれることにより、当社グループのフォトマスクが顧客の生産プロセスにおける基準として採用されるため、以後の量産段階における半導体用フォトマスク需要において、当社に最適化された製造仕様が適用されることで、セカンドベンダーとして他社が参入を図る際の技術的な参入障壁となります。そのため、当社グループでは自社における研究開発や顧客等との共同開発等に対して積極的な人的投資・設備投資を実行し、顧客の上流段階からの技術要求に精確かつ柔軟に対応できる技術・開発体制、並びに生産体制を構築しております。 半導体用フォトマスクの構造半導体デバイスは、同一のシリコンウェハ上にフォトリソグラフィ工程を複数回繰り返し、回路パターンを多層(レイヤー)構造で成形することで生産されます。したがって、一つの半導体デバイスに対しフォトリソグラフィの回数分だけ複数枚のフォトマスクが必要となり、これらは一つのセットとして使用されます。フォトマスクに要求される微細化の精度は各レイヤーにおいて異なり、一般に、微細化が進むと高精度なレイヤー(クリティカルレイヤー)において要求される加工精度がより微細なものとなるとともに、回路パターンの積層にあたっては低精度(ラフレイヤー)～中精度のレイヤー(ミドルレイヤー)も必要となるため、セットあたりのフォトマスク枚数も増加し、マスクセット単価が上昇する構造となっております。また、ウェハ工程の歩留まり向上など、デバイスメーカーにおいてフォトマスクをセットで効率的に運用するには、フォトマスクの仕上がりの傾向やレイヤー間の重ね合わせ精度が重要となります。このことから、通常フォトマスクを外注する場合は同一のフォトマスクベンダーにセット単位で発注されます。 (2) 当社グループ製品当社グループは顧客より支給される仕様に基づく完全受注生産のため、当社グループの独自の製品ラインナップと呼べるものは存在しません。他方、フォトマスクはその構造に基づき、以下のように大別することができ、当社グループでは顧客の要求仕様に合わせて各種フォトマスクの生産を受託しております。 ① バイナリマスクバイナリマスクとは単純な遮光膜のパターンのみで形成されるマスクであります。単純に光を透過する／遮断するという機能のみのマスクで、主として露光波長以上の太さのパターン形成に用いられます。 当社グループではブランクスベンダーとの共同開発により、加工性の高い新型バイナリマスク(OMOG※材)を開発、寸法精度及び解像度の高いバイナリマスクの製造を可能にしました。② 位相シフトマスク 位相シフトマスク(Phase-Shifting Mask：PSM)とは、光の位相や透過率を制御する事で、ウェハへの露光時の解像度や焦点深度(DOF：Depth of Focus)を改善し、転写特性を向上させたフォトマスクであります。露光波長以下のリソグラフィでは標準的に使用されている技術であり、代表的なものに「ハーフトーン型(Attenuated PSM)」※や「レベンソン型(Alternative PSM)」※等があります。 当社グループではブランクスベンダーとの共同開発により、高い転写特性と長寿命を両立させた新型位相シフトブランクスを実現しました。 ③ EUVマスクEUVマスクは既存のDUV光※(ArF※：193nm)よりもさらに短い波長のEUV光(13.56nm)を用いるので、より微細なパターンの露光が可能となります。従来のDUV光を用いた技術とは異なり、EUVはガラスに吸収されてしまい透過することができず、ガラスレンズによる光の屈折現象で集光が出来ないため、半導体製造プロセスにおけるウェハ露光機及びフォトマスクはいずれも透過型ではなく反射型の光学系となります。当社グループでは2000年初頭から業界に先駆けてEUVマスクの研究・開発に取り組んできました。現在は製造技術の構築と先端設備の導入を推進し、量産体制を確立しております。 (3) 当社グループの生産体制について当社グループではアジア5工場、米国1工場、欧州2工場の計8工場でフォトマスクの製造を行っております(現在、シンガポールのみフォトマスク製造工程において前工程にあたるデータ処理工程のみを行っているが、2026年度中に新工場が稼働予定)。外販フォトマスクの生産においては納期が非常に重要であり、顧客デバイスメーカーより回路パターンのデータを受領後、通常、最先端品でも2週間程度、レガシー品では2～3日程度と、極めて短い納期で納入することが要求されます。そのため、基本的に地産地消によって顧客の近くに工場を構え生産することが最良とされております。他方で、半導体需要はその時々、地域や顧客の事情により変動が大きいため、ある工場において単一の顧客又は工場が立地する地域顧客のみをもって工場の稼働率を常に高く維持することは困難であり、現地の最大需要に合わせて設備投資をすることは事業上のリスクを高めると考えられます。同様に、安易に設備投資、キャパシティ拡張を行うことが難しいため、繁忙期には需要が現地の生産キャパシティを超過する事態も発生し得ます。当社グループではアジア・北米・欧州すべての地域で現地供給できる体制を整えており、現地顧客に対し短納期で製品を提供することはもちろん、繁忙期において現地工場のみでは対応しきれない顧客需要について、グループ内部の生産委託によって他地域の工場から供給する柔軟な製造体制を構築しております。これにより複数工場間で生産需要・キャパシティを平準化し、グローバル全体での工場稼働率を高く維持することを可能としております。 当社グループの生産体制 (4) 当社グループの優位性① 技術開発の優位性について当社グループでは材料ベンダーと共同で先端マスクブランクスの開発を行っております。これにより材料の組成に関与し深い知見を得ることで、先端マスクの生産において、自社の加工プロセスを最適化することが可能となっております。フォトマスクブランクスの特性はウェハの生産プロセスにも影響を与えるため、顧客プロセスへの最適化も企図したブランクスを開発し、同材料の採用を顧客に提案することで、先端マスク需要をいち早く取り込むことにも寄与しております。過去の開発成果の一つとして、バイナリマスクでありながら高い精度を実現するOMOG材は、当社での採用にとどまらず、共同開発者であるブランクスベンダーを通して販売され、広く業界内に普及しております。現在は次世代EUV技術であるHigh-NA※向けEUVマスクブランクスの開発にも取り組んでおり、EUV領域においても当社の開発した技術が業界標準となることを目指しております。 材料開発は、同時に知的財産権による当社グループの優位性構築にも寄与しており、導入初期において販売制限によって他社の参入を排除することはもちろんのこと、普及期においてはロイヤリティ収入を得る形で当社の業績に寄与することになります。生産技術においても、過去の技術開発ノウハウとそのデータ蓄積に加え、AIの活用により、精度・効率の高いプロセス条件を早期に確立し生産性や良品率の向上を図っております。当社グループのノウハウは当社グループの生産プロセス改善のみならず、顧客プロセスの生産性向上のため、特に、HAZE※と呼ばれる顧客の生産プロセスにおいて同じフォトマスクを繰り返し使用することで発生するフォトマスクの品質低下に対し、それを抑制する取り組みを強化しております。HAZEが発生した際は当該フォトマスクのHAZEを除去するメンテナンス作業が必要となるところ、HAZEの抑制は顧客生産ラインの稼働率の維持・向上に直結するため、そのような課題を抱える顧客からは高い評価を得ているものと認識しております。 ② 高度な生産キャパシティ管理について当社グループではクリティカルレイヤーで必要となる先端生産設備のみならず、成熟レイヤー・ミドルレイヤーで必要となるレガシー生産設備も多数保有しております。これにより先端半導体デバイスにおけるフォトマスクの需要に対し、クリティカル～ラフレイヤーまで、セット単位で対応することができることに加え、量的需要が旺盛なレガシー半導体向けにも対応することが可能であり、広範囲なテクノロジーノードの需要に対応することが可能となっております。過去に普及したレガシーノード向け生産設備は、既に市場から同じ機種を調達することが困難となっており、新たに調達する場合はオーバースペックとなる先端ノード向けの生産設備を購入せざるを得ません。当社グループではレガシーノード向けフォトマスク生産設備の延命・維持管理にも力を入れており、セルフメンテナンスのノウハウ構築や、EOL※を迎えたパーツの代替品開発まで幅広く取り組んでおります。これによってレガシー設備の更新投資を最小化し、競合他社、とりわけ参入障壁の低いレガシーノード領域において新興フォトマスクメーカーに対し大きなコストアドバンテージを得ることにつなげております。 ③ グローバル生産体制によるタイムリーかつ柔軟な製品供給について当社グループでは複数の製造拠点が連携して生産を行っており、製造拠点間のバックアップによって短納期での製品供給とBCP(事業継続計画)を実現しております。通常、フォトマスクの生産に用いる描画機や検査機といった主要設備は、フォトマスク生産の受注前に顧客の使用許諾(認定)が必要であり、仮に同型機種であっても、その性能において個々に異なる傾向を示すことがあるため、工場が異なれば別個に認定を要求されることも少なくありません。当社グループでは各生産設備のパラメータに補正をかけプロセス条件を最適化することで、異なる工場の生産設備を使用しても同じ特性の仕上がりとなるよう、サイト間・設備間のデータマッチング技術の高度化に注力しており、その成果として、短期間で複数の生産工場について認定を取得することを可能としております。 複数拠点での生産認定に加え、AIを用いた生産管理システムを構築することで、過去の生産データから各設備の工程能力や出荷までの工数を試算し、納期及び設備稼働の最適化を実現すべく、同生産管理システムの開発と改善に取り組んでおります。フォトマスクは顧客の半導体デバイスの設計に合わせた一点一様の製品であり、製品の仕様とその時々の各生産設備の稼働状況に合わせて、多岐に渡る使用すべき装置の組み合わせから、最適な工程順を検討する必要があります。特に、検査工程で欠陥が見つかった場合は修正工程と検査工程を複数回繰り返す可能性があるため、出荷納期のコントロールは容易ではありません。本生産管理システムを用いることで、納期予測の精度向上と、迅速かつ正確な顧客への納期回答を可能とし、得意先からの信頼向上や出荷枚数の増加を目指しております。 ④ 最先端領域での取り組みについて当社グループでは最先端領域において様々なパートナーとの共同開発プロジェクトに取り組んでおります。フォトマスクの材料ベンダー、生産設備ベンダーのみならず、Interuniversity Microelectronics Centre(imec)などの研究開発機関を介してウェハ工程も含めた様々な先端技術開発プレイヤーとの協働を展開しており、特に直近ではInternational Business Machines Corporation(IBM)社と2nm半導体向けEUVマスクのプロセス共同開発契約を締結しております。 また、当社内部の取り組みとしてもマルチビーム描画装置※を用いたEUVマスク生産の技術深耕に加え、半

1 【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】当社グループの経営方針、経営環境及び対処すべき課題等は、以下のとおりであります。なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1) 経営方針当社グループは、2025年4月1日、グループ全体が目指す方向性と価値創造の基本的な考え方を明確化した「Mission・Vision・Values(MVV)」を制定し、この「MVV」のもと、事業環境の変化に的確に対応しながら、中長期的な企業価値の向上を図ることを経営方針として掲げております。制定した「MVV」では、Mission(使命)として、「先端微細加工技術で革新的な未来を描く」を掲げ、半導体産業の発展を支えるフォトマスク分野において、最先端技術と高品質な製品・サービスを提供することにより、社会及び産業の持続的な成長に貢献してまいります。Vision(ありたい姿)としましては、「常に選ばれる存在へ」を掲げ、世界を変える「テクノロジー」、ステークホルダーと築く「共通価値」、多様な人財が活躍する「人と組織」という視点を基盤に据え、様々な期待を超え続け、常に選ばれる企業の実現を目指し、EUVマスクをはじめとする先端領域を中心とした継続的な研究開発並びに設備投資を行い、技術力と供給力のさらなる高度化を図ってまいります。また、Values(価値観)として、「誠実さ」「顧客志向」「多様性が生む革新」「世界を見据え、地域とともに」「不断の改善」という思いを共有し、誠実さを貫き社会的責任を果たすとともに、お客さまの成功の先に当社の成長があるとの考えのもと、文化や価値観の交わりから新たなソリューションを創出し、グローバルな視点を持ちながら地域とともに持続的な成長を実現してまいります。これらのMVVに基づき、当社グループは、世界各地に展開する生産・サービス拠点を活用した安定供給体制の強化、品質・安全・環境に配慮した事業運営の徹底、人財育成及びガバナンス体制の高度化に取り組んでまいります。加えて、積極果敢な挑戦と不断の改善を通じて、既存事業の競争力向上にとどまらず、微細加工技術を応用した新たな事業領域の創出にも取り組むことで、中長期的な企業価値の向上を目指してまいります。 (2) 経営環境 フォトマスク市場に大きな影響を与える半導体市場は、最終製品分野別の需要動向には引き続き濃淡が見られるものの、生成AIの普及拡大やクラウドサービス需要の増加を背景としたデータセンター向け投資が引き続き高水準で推移しました。高性能演算を担うロジック製品や、データ処理量の増加に対応するメモリ製品を中心に需要の回復及び成長が進み市場を大きくけん引するなど、半導体市場全体としては回復・拡大基調が継続する事業環境となりました。 このような半導体市場の拡大を背景に、フォトマスク市場においては、先端ノードから成熟ノードまで、すべてのプロセスにおいて需要が堅調に推移しました。先端領域では、半導体の微細化及び高集積化の進展に伴い、高精度かつ高付加価値なフォトマスクに対する需要が引き続き堅調であり、安定した受注環境が継続しました。また、成熟プロセス向けにおいても、幅広い用途での需要が維持され、底堅く推移しました。 外販フォトマスク市場においては、フォトマスクを内製しないファウンドリからの外注需要の拡大に加え、フォトマスクを内製する半導体メーカーにおいても、内部リソース不足を背景として外注需要が高まりました。 (3) 優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題① フォトマスク事業の拡大(ⅰ)フォトマスク事業成長領域の戦略的連携強化と成長当社グループが持続的な成長を実現していくためには、市場成長が予想される地域に対し適切に設備投資を行い、生産能力を拡大するとともに、新たな技術領域に対して技術力・研究開発力を強化し差別化していくことが不可欠であります。地域戦略では、各国・地域における業界動向や産業政策、輸出規制等を注視しながら投資機会を見極めてまいります。特に、量的需要の拡大が見込まれる米国及び中国を除くアジア各国の需要を重視し、生産能力拡大に向けた設備投資を進めてまいります。一方、これまで市場成長をけん引してきた中国市場については、米中間のデカップリングの進展及び同国政府による国産化政策を背景として現地競合企業との競争が激化していることから、収益性を重視した選択的な事業展開と設備投資を行ってまいります。また、いずれの地域においても、現地当局との関係構築や有力顧客との長期供給契約の締結を通じて、安定的な取引関係を構築し、強固な事業基盤を確立することにより、当社グループの市場におけるポジションをより盤石なものとしていくことが重要であると考えております。先端技術領域においては、当社グループは既に、フォトマスクの技術開発及び生産に不可欠なマルチビーム描画装置を朝霞工場及びドレスデン工場に導入しEUVマスクの開発・生産を開始するとともに、Curvilinear等の最新技術を用いた光マスクの生産への適用を進めております。特に、EUVマスクについては、ブランクスメーカーとの協業によるHigh-NAリソグラフィ向け新規ブランクス開発や、IBM社とのプロセス共同開発等を推進し、次世代EUVマスク分野において競合他社に先行することを目指しております。 (ⅱ)レガシー領域の戦略的強化半導体市場では、28nm以細の先端ノードのみならず、いわゆるレガシー領域においても今後の成長が見込まれております。これは、AIやデータセンター向けに比較的高性能な半導体需要が増加していることに加え、レガシー領域においてはIoTや自動運転等多様なアプリケーションの開発と普及により、必ずしも高度な性能を必要としない半導体の量的需要が増加していることに起因しております。当社グループでは、こうした需要に対してタイムリーにフォトマスクを供給する体制を維持するため、各工場におけるレガシー装置について、グループ全体最適の目線で更新投資計画を策定し、効率的かつ計画的な更新を進めております。加えて、装置延命や自社内保守技術の高度化により、稼働率の維持・向上及び原価低減を図るとともに、装置ベンダーとは異なる後発ベンダーとの連携による代替パーツの共同開発等も進めることで、競争力のある生産設備ラインナップの確保に努めてまいります。 (ⅲ)グローバル製造拠点のバーチャル「1」工場化当社グループは、得意先と同一国内に所在する製造拠点での生産を原則としつつ、顧客要求仕様や各製造拠点における設備の稼働状況及び生産能力等を勘案し、拠点間で互いに生産委託を行うことにより、グループ全体で需給最適化及び生産量の最大化に取り組んでおります。本施策をさらに高度化するため、8つの製造拠点が連携し、あたかも1つの工場として機能する「バーチャル『1』工場」化を推進しております。具体的には、拠点間の生産委託プロセスの自動化や、生産日程計画におけるAIエンジンの開発・適用を進めることで、ワークフロー改革を通じた生産効率の向上及び供給力の強化に取り組んでまいります。 ② 新事業開拓当社グループでは、フォトマスク事業で培った微細加工技術を応用し、ナノインプリント技術において金型として用いられるモールドを製品化しております。ナノインプリント技術は多様な用途で応用が期待されておりますが、当社では特に今後大きな市場形成が期待されるARグラスに用いられるWaveguide※用モールドを事業化すべく、現在普及しているバイナリー構造に加え、各種3D構造マスターモールド※による競争力のある製品の開発と顧客開拓を進めております。現在、日本及び欧州において3D構造マスターモールドの生産体制を構築しており、3Dモールド市場における当社グループのプレゼンスを強化し、顧客ニーズに迅速に応えられる体制の確立を推進しております。さらに、中期的な戦略として、ナノインプリント技術を活用した受託加工サービスを日本で展開すべく、その中核となる試作ラインを朝霞工場に構築しました。ARグラスやメタレンズなどのフォトニクス市場が求める高品質な光学部品の開発能力を強化し、量産に向けた体制の構築を進めております。 ③ サステナビリティに関する取り組み当社グループは、持続的な成長と環境・社会への貢献を実現するために重点的に取り組む課題として、環境・社会・ガバナンスそれぞれの領域におけるマテリアリティを特定し、課題解決に向けた取り組みを進めております。特定したマテリアリティについては、「第2 事業の状況 2 サステナビリティに関する考え方及び取組 (1) サステナビリティ全般への対応 ④ 戦略」に記載しております。 (4) 経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等当社グループは、持続的な企業価値の向上につながる収益性の管理に加え、積極的な事業投資と財務の健全性の両立及び利益成長に応じた株主還元の強化を図るべく、「売上収益成長率」「営業利益率」を経営上の重要な経営指標として位置付けております。なお、各指標の算定方法は以下の通りであります。 売上収益成長率＝(当連結会計年度の売上収益－前連結会計年度の売上収益)÷前連結会計年度の売上収益 営業利益率＝営業利益÷売上収益 (※用語)Waveguide光を特定の方向に導くための光学デバイスのことで、AR／VRヘッドセットなどのデバイスで使用される。マスターモールドナノインプリント技術において使用される金型のこと。当社では3D構造のマスターモールドをフォトマスク事業で培ったリソグラフィ技術により作成している。

3 【事業等のリスク】本書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主なリスク、リスクの顕在化の可能性、顕在化の時期、連結業績等への影響度及びリスクへの対応は、以下のとおりであります。なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において当社グループが判断したものであります。 (1) 経営に関するリスク① 半導体業界の需要変動に関わるリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：中期～長期、影響度：大)当社グループの主力事業を取り巻く半導体業界は、需要変動が大きく、経済環境や地政学リスク等の影響を受けやすい事業環境にあります。世界経済の動向次第では、景気後退等を背景として半導体を使用する電子機器の需要が減少し、半導体市場全体の需要が縮小する可能性があります。また、IDMやファウンドリの事業戦略の変化により外販フォトマスクの需要が変動する可能性があるほか、特定地域における政治・経済的な不安定化や貿易摩擦等が半導体サプライチェーンに影響を及ぼした場合、フォトマスク需要に変動が生じる可能性があります。これらのリスクが顕在化した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループはEUVマスクやCurvilinear技術等の次世代技術の開発及び設備投資を継続的に実施し、半導体市場の技術革新に対応しております。フォトマスク需要のうち、研究開発フェーズにおける需要は量産フェーズに比べて経済動向の影響を受けにくい特性があることから、顧客や装置ベンダー等との共同開発を通じて、研究開発段階から技術パートナーとして参画できる体制を構築することにより、量産前の段階から一定の需要を確保し、半導体市場の需要変動が業績に与える影響の低減に努めております。 ② 競合に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：中期～長期、影響度：大)フォトマスク市場は、半導体メーカーが自社で製造する「内製」と、外部ベンダーが供給する「外販」に大別され、外販市場は当社グループを含む比較的少数のフォトマスクベンダーにより構成されております。このため、主要な販売先であるIDMやファウンドリが内製による調達方針を強化した場合や、外販フォトマスクベンダー間における価格競争等が激化した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローに影響を及ぼす可能性があります。また、近年、中国において新興のフォトマスクベンダーが多数台頭しており、価格競争や技術競争の激化が懸念されております。加えて、将来的に半導体メーカーの内製部門が外販事業を展開する可能性も否定できず、これら競合環境の変化が当社グループの事業環境に不確実性をもたらすリスクがあります。 (リスクへの対応)当社グループは、最先端ノードからレガシー領域まで幅広く対応可能な技術開発や設備投資を推進するとともに、生産効率の向上やコスト競争力の強化に取り組んでおります。また、研究開発段階から顧客と連携し、フォトマスク製造専業としての独立性と信頼性を活かすことで、継続的な取引関係の構築に努めております。さらに特定顧客への依存度を抑制するため、幅広い販売先との取引関係の構築を進めております。 ③ サプライチェーンに関するリスク(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：―、影響度：大)当社グループは、事業に必要となる原材料、製造設備・部品及びエネルギー等を、外部のサプライヤーや協力企業から調達しております。半導体製造においては、特定の原材料や製造設備において限られたサプライヤーが大きなシェアを有する場合があり、これらの供給に支障が生じた場合、半導体サプライチェーン全体に大きな影響を及ぼす可能性があります。特に、フォトマスクの製造受託においては、使用する材料や製造設備が顧客の認定(使用許諾)により指定されるケースが多く、当社グループの判断のみで代替材料や設備へ切り替えることが困難な場合があります。加えて、認定範囲の拡大には、顧客による評価が必要となり、許諾取得までに一定の期間を要することがあります。このため、認定済みサプライヤーや協力企業が地政学的な事象や災害により被災、倒産、廃業した場合、又は品質問題が発生した場合には、原材料等の安定的な調達が困難となり、当社グループの業績及び財務状況に影響を及ぼす可能性があります。また、原材料やエネルギー価格の高騰についても、当社グループの業績及び財務状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、顧客から提示されるフォーキャスト情報に基づき、サプライヤーや協力企業との間で密な情報共有を行い、安定的な調達体制の構築に努めております。また、BCPの観点から、需要の多い材料や使用設備について、代替となる認定対象や認定範囲の拡大を顧客に適宜提案する取り組みを進めております。加えて、不測の事態に備え、各拠点において適切な在庫水準を確保するとともに、拠点間で在庫を融通可能な体制を構築することで、供給リスクの低減を図っております。 ④ 国際取引に伴う外部環境の変動によるリスク(顕在化の可能性：中～高、顕在化の時期：短期～中期、影響度：大)当社グループは、国内外において生産及び販売活動を展開しており、海外市場向けに製品・サービスを提供しております。このため、外貨建て取引に伴う為替相場の変動は、短期的に当社グループの業績に影響を及ぼす可能性とともに、海外子会社の現地通貨建て財務諸表の円換算においても、為替相場の変動が影響する可能性があります。また、米国政府による関税措置の強化や輸出入規制の変更をはじめとする、各国・地域の安全保障政策や産業政策の変化によって、当社グループの競争力が相対的に低下し、売上高及び利益に悪影響を及ぼす可能性があり、輸出規制等に抵触した場合には、輸出禁止、罰金等の行政処分や刑事罰を受けるリスクがあります。これらの国際取引に伴う外部環境の変動や為替相場の変動が顕在化した場合には、当社グループの事業活動、経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローに影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、各国・地域における通商政策や安全保障政策の動向を継続的にモニタリングし、当社グループ事業への影響を分析するとともに、事前に対応策についての検討を行うことでリスク低減に努めております。為替変動については、グループ全体で受注・製造・出荷・売上等の財務情報や金利動向に係わる情報共有のもと、金融機関による市場分析を踏まえつつ、必要に応じて適時為替予約等のリスクヘッジ手段を活用しております。また、関税に関しては、各国・地域における需要に応じた製造拠点の見直しを通じた関税コストの最小化を図るとともに、必要なコストについては顧客との協議により販売価格への適正な反映を図っております。加えて、輸出規制や関連法令への対応については、政策当局や業界団体、並びに各国・地域の関係当局とのコミュニケーションを通して早期に情報収集を行い、輸出規制、技術開発に関する規制等をテーマとした教育を定期的に行うなど、グループ役職員の輸出規制等に対する知識習得と規制遵守への取り組みを強化しております。 ⑤ 中期事業目標の未達に関わるリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：中期、影響度：中)当社グループが策定した中期事業目標は、顧客の需要見通しを踏まえた適切なタイミングでの設備投資や生産プロセスの立ち上げ、顧客の生産認定取得を通じた市場シェアの維持・拡大、並びに、業務効率の向上を通じた収益の拡大と収益性の向上を前提としております。しかしながら、外販フォトマスク市場における競争の激化等、市場環境が目標策定時の想定を超え変化した場合の他、関連法令・規制・税制の不利益な変更、エンジニア等の人財を確保・育成できない場合や、技術動向の変化への対応が十分に行えない場合、又は、こうしたリスクへの対応に想定を超える費用が発生した場合には、中期事業目標を達成できない可能性があります。これらのリスクが顕在化した場合、当社グループの事業活動、経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローに影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、多様な顧客基盤とグローバルな生産体制を構築することにより、特定の顧客需要や特定拠点に過度に依存しない事業構造の構築を図っております。また、営業部門による顧客動向の継続的な把握に加え、工場及びスタッフ部門において各国・地域の政策、規制及び技術動向を注視し、定期的な情報共有を通じた戦略の見直し、実効施策の修正を適時適切に遂行可能とする、環境変化に柔軟に対応した政策立案・施策執行の仕組み、運用体制を整えております。 ⑥ 労務管理に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループは、各拠点が所在する国・地域において適用される労務関連法令及び規則に基づき、適正な労務管理を行っております。しかしながら、長時間労働、ハラスメント、差別や人権侵害等のコンプライアンス違反や、従業員の健康状態・メンタルヘルスの悪化等が発生した場合には、法令等に基づく処罰や制裁を受ける可能性があるほか、社会的信用や企業イメージの低下、補償等に係る費用の発生により、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、労務関連法令及び規則を遵守した適正な労働時間管理並びに安全衛生管理の徹底に取り組んでおります。また、労務管理に関する研修・教育の実施に加え、「2 サステナビリティに関する考え方及び取組 (3) 人的資本に関する戦略、指標及び目標」に記載のとおり、従業員のエンゲージメント向上や健康・安全の維持及び向上を目的とした各種制度や施策を継続的に展開しております。 ⑦ 税務に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループは、各拠点が所在する国・地域の税制に準拠した税務処理及び適正な納税に努めております。しかしながら、各国・地域における租税制度の改正、税務行政の運用変更、又は税務申告に関する税務当局との見解の相違等により、想定を超える税負担が生じる可能性があります。これらのリスクが顕在化した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、税務が経営及び業績に与える影響を理解した上で、税務リスクを継続的かつ包括的に把握・評価する体制の整備に努めております。また、税務専門人財の育成及び知見の蓄積を進めるとともに、必要に応じて外部の税務専門家を活用することで、適切な税務対応の強化に取り組んでおります。 ⑧ 環境規制に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：小)当社グループは、各拠点が所在する国・地域において、水質汚染、大気・土壌汚染、化学物質の管理、騒音・振動等に関する環境関連法令及び規制の遵守が求められております。当社グループでは法令・規制の遵守に向けた対処策を講じておりますが、これら法令・規制に違反した場合や、法令・規制の強化又は環境負荷低減の追加的な対応が求められ、環境保全に係る費用が増加した場合、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、環境保全に係る規程・社内ルール等を整備するとともに、環境関連設備・機器について定期的な点検・修繕を実施するなど、各種環境保全活動に取り組んでおります。併せて、サステナビリティ委員会及び危機管理委員会において、マテリアリティの目標達成に向けた進捗管理を定期的に行うとともに、環境に係る問題発生時における事業への影響を最小化すべく迅速な対応が取れる体制整備を進めております。 ⑨ 有形固定資産の減損損失リスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループは、生産能力の維持及び拡大を目的として継続的に設備投資を行っており、多くの有形固定資産を保有しております。設備投資にあたっては、客観的な数値に基づき各種の承認プロセスでの慎重な検討を行った上で投資判断をしておりますが、想定を超える経営環境の変化や事業状況の悪化等により、有形固定資産の収益性(資産価値)が低下し、十分なキャッシュ・フローを創出できないと判断される場合には、当該資産に対する減損損失を計上することにより、当社グループの業績及び財務状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、設備投資に関する投資基準の精度向上に取り組むとともに、適切な投資タイミングや収益性の検証を行っております。また、必要に応じて外部調査機関等の情報も活用し、市場環境の変化を継続的に把握することで、減損損失リスクの低減に努めております。 ⑩ 知的財産に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：小)当社グループは、事業競争力の維持・強化の観点から、保有技術や製品に関する知的財産権の保護及び権利化に取り組んでおります。しかしながら、第三者による当社グループの知的財産権の侵害、又は当社グループが第三者の知的財産権を侵害した場合には、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、研究開発部門、技術部門、事業戦略部門及び法務部門が連携し、必要に応じて外部専門家の支援を得ながら、知的財産戦略の策定及び運用を行っております。また、役職員に対する知的財産に関する教育を定期的に実施し、リスク低減に努めております。 ⑪ 製品の品質等に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：中)当社グループが製造する半導体用フォトマスクに対しては、顧客である半導体メーカーから高度な品質管理が要求されております。当社グループでは、製品品質の維持・向上に向けた教育制度を整備するとともに、内部監査の実施により潜在的な品質に係る問題を顕在化させ是正する品質管理体制の強化に努めております。また、品質に係る設備トラブル等が発生した場合を想定し、各製造拠点における情報伝達・対応フローを明確に定めております。しかしながら、製品品質に起因する不具合や設備トラブル等を起因として、万が一、顧客に損失が発生した場合には、損害賠償費用の発生等により、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、各製造拠点における作業の標準化や製造レシピの整理を進めるとともに、MES(製造実行システム)を活用した生産・品質管理を行っております。また、製造拠点間の製造連携においては、高精度なデータマッチング技術を活用し、拠点間で均質な品質を確保する体制を構築しております。加えて、品質問題発生時には、他拠点の知見も活用することで、早期是正及び再発防止に取り組んでおります。 ⑫ 情報セキュリティ等に関するリスク(顕在化の可能性：中、顕在化の時期：長期、影響度：大)当社グループにおいて、不正アクセスやサイバー攻撃、その他不測の事態により、情報システムの障害や重要なデータの破壊、改ざん又は漏洩等が発生した場合には、社会的信用の低下、ノウハウの流出、対応・復旧に係る多額の費用の発生、さらには事業活動の一時的な停止を余儀なくされる可能性があります。これらの事象が発生した場合、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、「情報セキュリティ基本方針」に基づき、情報セキュリティに関する規程類の整備及び運用を行っております。また、各国・地域に所在する拠点におけるセキュリティ対策状況を定期的に評価・改善するとともに、サイバー攻撃への技術的対策や、情報セキュリティマネジメントシステム(ISMS)認証の取得、全役職員を対象とした教育を通じて、情報セキュリティへの意識向上とリスク低減に取り組んでおります。 ⑬ コンプライアンスに関するリスク(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：短期～長期、影響度：中～大)当社グループは、国内外において事業を展開するにあたり、各国・地域の法令・規制、業界ルール及び社会的規範の遵守徹底を図るため、危機管理委員会、コンプライアンス委員会等の会議体において業務執行状況の検証を行う等の対策を講じております。しかしながら、これら法令・規範等に反する事象が生じた場合、法令等に基づく処分や事業活動に対する制約等が課せられるほか、レピュテーションの低下等により、当社グループの経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、コンプライアンス委員会を中心として、社内規程の整備、教育・研修の実施、内部通報制度の運用を図るほか、経営監査室による監査体制の強化に取り組んでおります。また、法令・規範等に反する事象が生じた場合には、事実関係の早期把握並びに再発防止策の策定を適切に行う体制を整備し、コンプライアンスリスクの低減に努めております。 ⑭ 訴訟等に関わるリスク(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：短期～長期、影響度：小～中)当社グループは、法令及び契約の遵守に努めておりますが、事業活動を遂行する過程において、取引先等から訴訟を提起される可能性や、訴訟に至らないものの紛争や請求等を受ける可能性があります。これらには、労働問題、製品の品質に関する保証又は責任、知的財産権の侵害、機密情報の漏洩等に関連するものが含まれます。これらの訴訟や紛争については、当社グループが必ずしも有利な結果を得られる保証はなく、その内容や結果によっては、当社グループの事業活動、社会的評価、経営成績、財政状態及びキャッシュ・フローの状況に影響を及ぼす可能性があります。 (リスクへの対応)当社グループは、法務部門を中心として関係部門が連携し、必要に応じて外部専門家の助言を得ながら、訴訟や紛争の未然防止及び発生時の適切な対応に取り組んでおります。 ⑮ 朝霞工場等、事業用資産及びユーティリティ供給設備に関わるリスク(顕在化の可能性：低、顕在化の時期：長期、影響度：大)当社グループは、当社朝霞工場の他、事業活動に必要な土地・建物の一部について、TOPPANホールディングス株式会社等の第三者から賃借しており、事業活動に必要な電力、ガス、水等のユーティリティ供給設備の一部について、その運営を外部事業者に委託しております。事業用資産の賃借、並びにユーティリティ設備の運営委託に際しては、契約に基づき長期安定的に使用を可能とする法的な権利を確保しておりますが、契約更新時の条件変更や賃料の改定、又は契約更新がなされない場合には、事業活動の継続に影響が生じる可能性があります。また、契約相手先との関係の変化、法令の改正、周辺環境の変化等により、事業用資産、並びにユーティ

4 【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】(1) 経営成績等の状況の概要当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー(以下「経営成績等」という。)の状況の概要は次のとおりであります。なお、当社グループは「フォトマスク関連事業」の単一セグメントであるため、セグメント別の記載を省略しております。 ① 財政状態及び経営成績の状況(ⅰ)財政状態当連結会計年度末における総資産は、前連結会計年度末に比べ62,973百万円増加し、230,725百万円となりました。これは現金及び現金同等物が23,837百万円、有形固定資産が21,154百万円、その他の金融資産が7,298百万円、それぞれ増加したこと等によるものであります。負債は、前連結会計年度末に比べ4,848百万円増加し、56,218百万円となりました。これは契約負債が1,495百万円減少したものの、その他金融負債が4,814百万円、借入金が661百万円増加したこと等によるものであります。資本は、前連結会計年度末に比べ58,125百万円増加し、174,507百万円となりました。これは利益剰余金が25,125百万円、新規上場に伴う新株の発行により資本金が10,040百万円、資本剰余金が10,026百万円、その他の資本の構成要素が12,933百万円、それぞれ増加したこと等によるものであります。 (ⅱ)経営成績当連結会計年度における世界経済は、地政学リスクや金融政策の動向等、不透明な要因が残るものの、米国を中心とした堅調な個人消費や企業投資を背景に、総じて緩やかな回復基調で推移しました。欧州や中国では景気回復の足取りにばらつきが見られた一方で、デジタル化やグリーン投資といった中長期的な成長分野への投資は継続しており、世界経済全体としては底堅さを維持する環境となりました。このような状況のもと、半導体市場においては、生成AIの普及拡大やクラウドサービスの需要増加を背景としたデータセンター向け投資が引き続き高水準で推移しました。その結果、高性能演算を担うロジック製品や、データ処理量の増加に対応するメモリ製品を中心に需要の回復及び成長が進み、半導体市場全体を大きくけん引する状況となりました。最終製品分野による需要動向には引き続き濃淡が見られるものの、全体としては回復基調が継続する事業環境となりました。半導体市場の拡大を背景に、フォトマスク市場においては先端から成熟まですべてのノードにおいて需要が堅調に推移しました。先端領域では、半導体の微細化・高集積化の進展に伴い、高精度かつ高付加価値なフォトマスクに対する需要が引き続き堅調であり、安定した受注環境が継続しました。また、成熟プロセス向けにおいても幅広い用途での需要が維持され、底堅く推移しました。外販フォトマスク市場においては、フォトマスクを内製しないファウンドリからの外注需要拡大に加え、フォトマスクを内製する半導体メーカーにおいても、内部リソース不足を背景に外注需要が高まりました。このような事業環境のもと、当社グループは、EUVマスクをはじめとする先端微細加工技術における強みと、世界8拠点からなるグローバル生産ネットワークを活用し、世界各地の顧客及びパートナーに対して高品質のフォトマスクを安定した納期で提供してまいりました。その結果、当連結会計年度の当社グループの業績は、売上収益は129,576百万円(前期比9.8％増)となりましたが、材料費及び減価償却費の増加に加え、上場に伴う一過性費用の増加により営業利益は27,530百万円(前期比2.4％減)となりました。税引前利益は33,432百万円(前期比8.6％増)、親会社の所有者に帰属する当期利益は24,947百万円(前期比150.9％増)となりました。 ② キャッシュ・フローの状況当連結会計年度末における現金及び現金同等物の残高は、前連結会計年度末に比べ23,837百万円増加し、51,552百万円となりました。 当連結会計年度における各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は以下のとおりであります。 (営業活動によるキャッシュ・フロー)営業活動によるキャッシュ・フローは、税引前利益33,432百万円、減価償却費及び償却費18,486百万円、法人所得税の支払額8,621百万円等により、36,061百万円の収入(前年同期は26,227百万円の収入)となりました。 (投資活動によるキャッシュ・フロー)投資活動によるキャッシュ・フローは、有形固定資産の取得による支出33,207百万円、貸付けによる支出2,961百万円等により、35,150百万円の支出(前年同期は32,885百万円の支出)となりました。 (財務活動によるキャッシュ・フロー)財務活動によるキャッシュ・フローは、株式の発行による収入19,992百万円、短期借入金の純増減額1,064百万円、リース負債の返済による支出2,413百万円等により、19,862百万円の収入(前年同期は28,536百万円の支出)となりました。 ③ 生産、受注及び販売の状況(ⅰ)生産実績当社グループは受注から納品までの期間が短いため、生産実績は販売実績と概ね同等の金額となります。そのため、生産実績に関しては販売実績を記載しております。 セグメントの名称金額(百万円)前年同期比(％)フォトマスク事業129,576109.8 (ⅱ)受注実績当社グループは受注生産を行っておりますが、受注から納品までの期間が短いため、受注実績に関する記載を省略しております。 (ⅲ)販売実績当連結会計年度の販売実績は次のとおりであります。 セグメントの名称販売高(百万円)前年同期比(％)フォトマスク事業129,576109.8 (注) 主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合は次のとおりであります。相手先前連結会計年度(自 2024年4月1日 至 2025年3月31日)当連結会計年度(自 2025年4月1日 至 2026年3月31日)金額(百万円)割合(％)金額(百万円)割合(％)Samsung Electronics Co., Ltd.－－15,06311.6 (注) 前連結会計年度におけるSamsung Electronics Co., Ltd.に対する販売実績は、総販売実績に対する割合 が10％未満であるため、記載を省略しております。 (2) 経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりであります。なお、文中の将来に関する事項は、当連結会計年度末現在において判断したものであります。 ① 重要な会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定当社グループの連結財務諸表は、IFRS会計基準に基づき作成しております。連結財務諸表の作成にあたって、過去の経験及び利用可能な情報を収集し、合理的と考えられるさまざまな要因を勘案した上で、見積もり及び判断を行っておりますが、見積り特有の不確実性があるため、実際の結果はこれらの見積りと異なる場合があります。連結財務諸表の作成にあたって用いた会計上の見積り及び仮定のうち、重要なものは「第5 経理の状況 1 連結財務諸表等 (1) 連結財務諸表 連結財務諸表注記 4．重要な会計上の見積り及び判断」に記載しております。 ② 財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容当社グループの当連結会計年度の財政状態及び経営成績に関する認識及び分析・検討内容については、「(1) 経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。経営成績に重要な影響を与える要因については、「第2 事業の状況 3 事業等のリスク」に記載のとおりであります。 ③ キャッシュ・フローの状況の分析・検討内容並びに資本の財源及び資金の流動性に係る情報当社グループの当連結会計年度のキャッシュ・フローの状況の分析・検討内容につきましては、「(1) 経営成績等の状況の概要 ② キャッシュ・フローの状況」に記載のとおりであります。資本の財源及び資金の流動性に係る情報について、当社グループにおける資金需要は運転資金及び設備投資であり、自己資金から賄っております。また、不測の事態に備えて金融機関とコミットメントライン契約を締結しており、必要な資金を適時に確保する体制を整えております。 ④ 経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標につきましては、「第2 事業の状況 1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等 (4) 経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等」に記載のとおり、持続的な企業価値の向上につながる収益性の管理に加え、積極的な事業投資と財務の健全性の両立及び利益成長に応じた株主還元の強化を図るべく、「売上収益成長率」「営業利益率」を経営上の重要な経営指標として位置付けております。当連結会計年度における各指標は以下のとおりであります。 2023年3月期2024年3月期2025年3月期2026年3月期売上収益成長率―106.3％110.2％109.8％営業利益率28.5％18.5％23.9％21.2％ 2026年3月期は、半導体市場の拡大を背景に、フォトマスク市場においても先端から成熟まですべてのノードにおいて需要が堅調に推移し、売上収益成長率は109.8％となりましたが、材料費及び減価償却費の増加に加え、上場に伴う一過性費用の増加により営業利益率は21.2％と低下しました。今後も売上収益成長率と営業利益率の向上に向けた施策を講じてまいります。 (参考情報) 当社グループは、経営成績の推移を適切に把握するために、調整後営業利益、調整後EBITDA及び調整後親会社の所有者に帰属する当期利益を算出しております。これらは、IFRS会計基準により規定された指標ではなく、当社グループが、投資家にとって当社グループの業績を評価するために有用であると考える財務指標であり、上場後には発生しないと見込まれる上場関連費用や、非経常的損益項目(通常の営業活動の結果を示していると考えられない項目)の影響を除外しております。 (1)調整後営業利益(単位：百万円) IFRS会計基準第2期第3期第4期第5期2023年3月期2024年3月期2025年3月期2026年3月期営業利益28,68019,82728,19927,530(調整額) ＋減損損失672,580－482＋スタンドアローン・上場準備費用8071234348＋株式報酬費用5183645＋資本再編の検討に要した費用－91－調整額 計1522,677270876調整後営業利益28,83222,50428,46928,407 (2)調整後EBITDA(単位：百万円) IFRS会計基準第2期第3期第4期第5期2023年3月期2024年3月期2025年3月期2026年3月期当期利益22,15916,1059,94524,947＋法人所得税費用7,2066,79620,8258,484－金融収益△ 601△ 2,851△3,411△7,151＋金融費用3043161,3481,800＋減価償却費及び償却費8,48015,87615,24018,486EBITDA37,54836,24243,94746,567(調整額) ＋減損損失672,580－482＋スタンドアローン・上場準備費用8071234348＋株式報酬費用5183645＋資本再編の検討に要した費用－91－調整額 計1522,677270876調整後EBITDA37,70038,91944,21747,444 (3)調整後親会社の所有者に帰属する当期利益(単位：百万円) IFRS会計基準第2期第3期第4期第5期2023年3月期2024年3月期2025年3月期2026年3月期親会社の所有者に帰属する当期利益22,15916,1059,94524,947(調整額) ＋減損損失672,580－482＋スタンドアローン・上場準備費用8071234348＋株式報酬費用5183645＋資本再編の検討に要した費用－91－＋資本再編に伴う株式譲渡課税－－6,247－＋欧州連結子会社の繰延税金資産の回収可能性見直し－－8,221－＋調整項目に対する税金調整額△ 47△ 820△83△268調整額 計1061,85814,656608調整後親会社の所有者に帰属する当期利益22,26517,96324,60125,556 (注) 1．調整後営業利益＝営業利益＋減損損失＋スタンドアローン・上場準備費用＋株式報酬費用＋資本再編の検討に要した費用2．調整後EBITDA＝当期利益－金融収益＋金融費用＋法人所得税費用＋減価償却費及び償却費＋減損損失＋スタンドアローン・上場準備費用＋株式報酬費用＋資本再編の検討に要した費用3．調整後親会社の所有者に帰属する当期利益＝親会社の所有者に帰属する当期利益＋減損損失＋スタンドアローン・上場準備費用＋株式報酬費用＋資本再編の検討に要した費用＋資本再編に伴う株式譲渡課税＋欧州連結子会社の繰延税金資産の回収可能性見直し＋調整項目に対する税金調整額

(1) 【コーポレート・ガバナンスの概要】① コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方当社は、コーポレート・ガバナンスを経営上の最重要事項の一つとして考え、広く社会に貢献するとともに、企業価値の継続的な向上と、経営の健全性、効率性及び透明性を確保するための取り組みを推進しており、株主、投資家、顧客、取引先、従業員、そして地域社会、生活者などのステークホルダーから信頼される企業グループを目指しております。 ② 企業統治の体制の概要及び当該体制を採用する理由当社は株主総会、取締役会、監査役会を設置するとともに、また日常的に業務を監視する経営監査室を設置しております。これら各機関の相互連携により、経営の健全性、効率性及び透明性が確保できるものと判断し、この体制を採用しております。当社のコーポレート・ガバナンス体制を図示すると、次のとおりであります。 (ⅰ)取締役会当社の取締役会は、2026年3月31日現在、取締役8名で構成されており、提出日現在においても構成に変更はありません。なお、当社は、2026年6月25日開催予定の定時株主総会の議案(決議事項)として、「取締役7名選任の件」を提案しており、当該議案が承認可決されますと、取締役7名(うち社外取締役3名)となる予定であります。取締役会は、取締役会規則に基づき、原則として毎月1回定例で開催するほか、全体方針や戦略の立案及び執行を迅速かつ機動的に遂行するため、必要に応じて臨時取締役会を開催しております。具体的には、法令・定款・取締役会規則及び職務権限規程に基づく重要事項についての意思決定を行うほか、取締役から業務執行状況の報告を適時に受け、取締役の業務執行の監督等を行っております。当事業年度においては、合計20回の取締役会を開催いたしました。個々の役員の出席状況は次のとおりであります。なお、当事業年度においては、当社の株式上場に関する事項、中長期の事業計画、新工場建設を含む設備投資、関連当事者との取引、CO2排出量削減目標値、取締役会実効性評価、社内規程、エンゲージメントサーベイ、株式報酬制度の導入等について審議しました。 役職氏名出席回数／開催回数代表取締役 社長執行役員 CEO二ノ宮 照雄 ◎20／20取締役 執行役員 COOMichael G. Hadsell20／20取締役 執行役員 CFO糸雅 誠一20／20取締役植木 哲朗7／7取締役大矢 諭7／7取締役黒部 隆13／13社外取締役山崎 壯20／20社外取締役屋城 勇仁7／7社外取締役(独立役員)須原 忠浩20／20社外取締役(独立役員)所 千晴20／20社外取締役(独立役員)鄧 茂松20／20 (注) 1．◎は議長を示しております。2．取締役黒部隆氏は2025年9月4日開催の臨時株主総会において取締役に就任しておりますので、就任後に開催された取締役会の出席状況を記載しております。3．取締役植木哲朗氏、大矢諭氏は2025年9月4日開催の臨時株主総会終了の時をもって取締役を退任しておりますので、退任までの期間に開催された取締役会の出席状況を記載しております。4．社外取締役屋城勇仁氏は2025年9月4日開催の臨時株主総会の終了の時をもって取締役を退任しておりますので、退任までの期間に開催された取締役会の出席状況を記載しております。 (ⅱ)監査役会当社は監査役会設置会社であり、財務及び会計に関する相当程度の知見を有する監査役3名から構成されております。詳細については、「(3) 監査の状況 ① 監査役監査の状況」に記載のとおりであります。 (ⅲ)経営監査室当社は経営の健全性、並びに、内部統制の適正性及び有効性を高めるために、経営監査室を設置し、業務執行部門から独立した立場から、主に会計監査と業務監査の視点に基づき、当社グループを構成する各社を含む各事業所や工場への、年間の監査計画に基づいた監査を実施しております。詳細については、「(3) 監査の状況 ② 内部監査の状況」に記載のとおりであります。 (Ⅳ)経営会議当社は、代表取締役社長を議長とし、取締役及び取締役が指名した者を構成員とする経営会議を設置し、原則として隔週に開催をしております。経営会議では、取締役会決議事項の事前検討・審議を行うとともに、取締役会に付議する事項を除く一定の意思決定を行い、経営の効率化、迅速化を図っております。また、取締役会及び経営会議にて決定した事項に対する定期的な事後評価を行っております。 (Ⅴ)特別委員会(主要株主との取引等の適正に関する委員会)当社は、当社の主要株主と当社の少数株主との利益が相反する取引又は行為を通じて、当社及び株主共同の利益が損なわれることを防止するため、取締役会の任意の諮問機関として特別委員会を設置し、主要株主との取引等の適正性を確保する体制を構築しております。特別委員会においては、主として当社の主要株主との間に行われる取引の必要性や取引金額の妥当性の他、当社事業の独立性に関わるリスクの有無について審議が行われております。特別委員会は独立社外取締役である須原忠浩氏を委員長とし、委員として独立社外取締役2名及び当社代表取締役社長が就任しており、委員の過半数は、独立社外取締役で構成され、随時開催しております。 (Ⅵ)指名・報酬委員会当社は、取締役の指名・報酬等に関する手続き及びその内容についての公正性・透明性・客観性を担保するため、取締役会の諮問機関として任意の指名・報酬委員会を設置しております。指名・報酬委員会は独立社外取締役である須原忠浩氏を委員長とし、委員として独立社外取締役1名及び当社代表取締役社長が就任しており、委員の過半数は、独立社外取締役で構成されております。指名・報酬委員会は、取締役会の諮問に応じて、次の事項について審議し、取締役会に対して答申を行っております。 (指名関係) (a) 株主総会に付議する取締役の選任・解任に関する事項 (b) 代表取締役及び役付取締役の選定・解職に関する事項 (c) 執行役員の選任・解任及び役付に関する事項 (d) 役員の候補者案、後継者計画等に関する事項 (e) 重要な子会社の役員の選任・解任又は選定・解職等に関する事項 (f) その他、取締役会が指名・報酬委員会に諮問した役員の指名に関する事項 (報酬関係) (a) 株主総会に付議する取締役の報酬に関する事項 (b) 取締役及び執行役員の個人別の報酬等の内容に関する事項 (c) 役員報酬に関する基本方針及び報酬制度に関する事項 (d) 重要な子会社の役員報酬に関する事項 (e) その他、取締役会が指名・報酬委員会に諮問した役員の報酬に関する事項 当事業年度における委員の出席状況は表のとおりであります。役職氏名出席回数／開催回数社外取締役須原 忠浩 ◎8／8社外取締役所 千晴8／8代表取締役 社長執行役員 CEO二ノ宮 照雄8／8取締役 執行役員 CFO糸雅 誠一1／1常勤監査役薄井 優彰1／1 (注) 1．◎は委員長を示しております。 2．取締役糸雅誠一及び常勤監査役薄井優彰氏は2025年4月1日付で退任しております。 当事業年度の具体的な検討内容としては、取締役・監査役体制について、候補者の略歴、選定理由等を参照しながら審議するとともに、後継者育成計画の策定、株式報酬制度の導入を含めた役員報酬額制度の見直しに関する審議、当該事業年度に業績評価等を踏まえた役員報酬額についての審議を行いました。 各会議体の構成員は次のとおりであります。役職名氏名取締役会監査役会経営会議特別委員会指名・報酬委員会代表取締役 社長執行役員 CEO二ノ宮 照雄◎―◎〇〇取締役 執行役員 COOMichael G. Hadsell〇―〇――取締役 執行役員 CFO糸雅 誠一〇―〇――取締役黒部 隆〇――――社外取締役山崎 壯〇――――社外取締役須原 忠浩〇――◎◎社外取締役所 千晴〇――〇〇社外取締役鄧 茂松〇――〇―常勤社外監査役薄井 優彰〇◎〇――社外監査役齊藤 和子〇〇―――社外監査役本村 健〇〇――― (注) 1．◎は議長、委員長、〇は出席者を示しております。2．役員のみを表示しております。 ③ 企業統治に関するその他の事項(ⅰ)内部統制システムの整備の状況当社は、会社法及び会社法施行規則に基づき、当社の業務の適正性を確保するための体制及び財務報告の信頼性を確保するための体制を構築・整備するとともに、適正かつ継続的に運用していくための基本方針である内部統制システムに関する基本方針を制定しております。内部統制に関する基本方針、業務執行に関する体制及び監査に関する体制についての概要は以下のとおりであります。 (a) 取締役及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保するための体制イ 当社は、企業倫理の責任体制を明確化するため、危機管理委員会・コンプライアンス委員会を設置し、企業倫理の確立、コンプライアンスの推進、教育・研修を実施する。ロ 取締役及び従業員がとるべき行動の基準・規範を示した「企業行動規範」等に基づき、職制を通じて適正な業務執行の管理・監督を行う。ハ 法的・倫理的問題を早期に発見し、是正するため、当社の人事部部長及び当社が別途指定する法律事務所の弁護士による内部通報の窓口を設置し、すべての役員及び従業員からの通報・相談を受け付ける。ニ 内部監査規程に則り、業務プロセスの適切性、有効性、法令等の遵守、財務報告の信頼性並びに適正性確保を目的に関係会社を含めて、計画的に監査を実施し、各部門及び関係会社に指導・啓発を行う。また、重要な事項については、取締役会、監査役会へ適切に報告する。 (b) 取締役の職務の執行に係る情報の保存及び管理に関する体制イ 当社は、取締役会その他の重要な会議の意思決定に係る情報(文書・議事録)及び重要な決裁に係る情報(稟議書)は、取締役会規則・稟議規程等各種規程に従い作成し、文書管理規程に基づき保存・管理する。 (c) 反社会的勢力排除に向けた基本的な考え方及び体制イ 当社は、反社会的勢力・団体・個人とは一切関わりを持たず、不当・不法な要求にも応じないことを基本方針とする。その旨を取締役及び使用人に周知徹底するとともに、平素より関係行政機関などからの情報収集に努め、事案の発生時には関係行政機関や法律の専門家と緊密に連絡を取り、組織全体として速やかに対処できる体制を整備する。 (d) 損失の危険の管理に関する規程その他の体制イ 当社は、危機管理に関する規程を定め、これに基づいて、代表取締役社長を委員長とし、各部門を担当する取締役等から構成する危機管理委員会を設置することで各部門のリスクマネジメントを統括し、リスクマネジメントの基本方針、推進体制その他重要事項を決定する。ロ 各部門長は、担当職務の業務内容を整理し、存在するリスクを把握・分析・評価したうえで適切な対策を実施し、それに係るリスクマネジメント状況を監督、定期的に見直しを行う。ハ 経営に重大な影響を与えるリスクが顕在化する場合に備え、危機管理体制図を策定し、発現したリスク損失を最小限度に抑えるために必要な対応を行う。 (e) 取締役の職務の執行が効率的に行われることを確保するための体制イ 当社は、取締役会規則に則り、原則月1回開催される取締役会において、経営に関する重要事項について、関係法規、経営判断の原則等に基づき決定を行うとともに、取締役会の下に、代表取締役社長及び当社の業務を執行する取締役並びに執行役員をメンバーとする執行役員会議を定期的に設け、取締役会の議論を充実させるべく審議を行う。 (f) 当社及び当社の子会社から成る企業集団における業務の適正を確保するための体制イ 当社は、関係会社管理規程に則り、適切な経営管理を行う。ロ コンプライアンス、情報の保存・管理及びリスク管理については、適切な経営管理指導を行う。 (g) 監査役がその職務を補助すべき使用人を置くことを求めた場合における当該使用人に関する事項及び当該使用人に対する監査役の指示の実効性の確保に関する事項イ 当社は、監査役が補助すべき使用人を置くことを求めた場合、監査役と人数、体制、独立性に関する事項等を協議し、必要な措置を講ずる。ロ 使用人への指揮命令権は監査役に属するものとし、当該使用人の適切な職務の遂行のため、使用人に関する人事事項については監査役と事前協議を行うものとする。 (h) 取締役及び使用人が監査役に報告をするための体制その他の監査役への報告に関する報告体制イ 取締役、使用人及び当社子会社の取締役並びに監査役は、下記の事項について監査役に報告する。なお、緊急事態、重要事項については遅滞なく報告する。(イ) 会社に著しい損害を及ぼす恐れのある事項(ロ) 会社に重大な影響を及ぼす見込みのある法令・定款違反又は財務上に係る事項(ハ) 業績及び業績見込の発表内容、重要開示書類の内容(ニ) 重要な会計方針、会計基準及びその変更(ホ) 内部監査の状況(ヘ) 重要な社内稟議書、契約書類、会議議事録の監査役への閲覧(ト) 内部通報制度の運用及び通報の内容ロ 監査役への報告を行った取締役及び使用人に対して、当該報告を行ったことを理由として不利な取り扱いを行うことを禁止する。 (i) 監査役の監査が実効的に行われることを確保するための体制イ 監査役は、「監査役会規則」及び「監査役監査基準」に則り、取締役の職務執行を監査する。ロ 監査役は、代表取締役、会計監査人及び内部監査人と、定期的又は必要に応じて意見交換を行う。ハ 監査役は取締役会に出席するほか、その他重要な会議に出席することができる。ニ 監査役は、その必要性を認めた場合は、外部の専門家から監査業務に関する助言を受けることができる。 (j) 監査役の職務の執行について生ずる費用の前払又は償還の手続その他の当該職務の執行について生ずる費用又は債務の処理に係る方針に関する事項イ 当社は、監査役が職務の執行について生ずる費用等の請求をしたときは、当該監査役の職務の執行に必要でないと認められた場合を除き、速やかに当該費用の精算処理を行う。 (ⅱ)リスク管理体制等の整備の状況(a) 危機管理委員会当社は、代表取締役社長を委員長とし、グループ各社の業務執行責任者及び経営監査部門から構成される組織として危機管理委員会を設置し、常勤監査役の出席のもと四半期ごとに1回開催しております。同委員会は

(4) 【役員の報酬等】① 役員の報酬等の額又はその算定方法の決定に関する方針に係る事項当社は、取締役会において、取締役の個人別の報酬等の内容にかかる決定方針を決議しております。当該取締役会の決議に際しては、あらかじめ決議する内容について、独立社外取締役が過半数を占める任意の指名・報酬委員会へ諮問し、答申を受けております。取締役の個人別の報酬等の内容にかかる決定方針の内容は次のとおりであります。なお、監査役の報酬については、監査役の協議により決定しております。 ＜取締役の個人別の報酬等の内容についての決定に関する基本方針＞(ⅰ)基本方針当社は、将来に向けた事業の拡大、持続的な企業価値の向上を実現するべく、各職責に応じて、それぞれが適切に発揮されるよう、役員報酬制度を定めております。 (ⅱ)決定方針の内容の概要(a) 各取締役の報酬は、「固定報酬」及び「業績連動報酬」により構成し、個々の取締役の報酬の決定に際しては、各国・地域の半導体又は関連業界における報酬水準を参考に、適切な競争力のある設計とします。ただし、業績連動報酬は、業務執行取締役に限るものとしております。 (b) 「固定報酬」は、担うべき機能・役割等に応じて支給する金銭報酬となります。「固定報酬」は、毎月一定の時期に支給します。 (c) 「業績連動報酬」は、短期インセンティブ(STI)、長期インセンティブ(LTI)の2種類で構成し、STIは、前連結会計年度の業績を基に、売上収益成長率、営業利益率、EBITDAマージン、ROICの期間計画達成状況、並びに個人業績結果をベースに算出され、LTIは、連続する3事業年度を評価期間とし、当該期間の営業利益計画の達成度及び個人業績貢献度を基に、算出されます。「業績連動報酬」は、STI、LTIともに金銭による報酬とし、年1回支給します。 基準事業年度の業績連動報酬は、2026年3月期の期間計画の達成度合いに応じて算出しており、STIは計画比116.4％、LTIは計画比108.0％であったことを受けて支給額を決定しております。 STI及びLTIの業績指標として、上記の指標を選択した理由は、当社の業績や取締役の貢献度をはかるうえで相応しい指標と判断したためであります。 (ⅲ)当事業年度に係る取締役の個人別の報酬等の内容が当該方針に沿うものであると取締役会が判断した理由当事業年度に係る取締役の個人別の報酬等は、独立社外取締役が過半数を占める任意の指名・報酬委員会で審議され、当該基本方針に基づき算定していることが確認されていることから、これらが当該方針に沿うものであると判断しております。 (Ⅳ)取締役及び監査役の報酬等についての株主総会の決議に関する事項当社の取締役の報酬等に関する株主総会の決議年月日は2025年6月20日であり、取締役の報酬等の額は年額620百万円以内(決議時の取締役の員数は10名)、監査役の報酬等に関する株主総会の決議年月日は2025年6月20日であり、監査役の報酬等の額は年額80百万円以内(決議時の監査役の員数は5名)と決議されております。 (Ⅴ)当事業年度における当社の役員の報酬等の額の決定過程における指名・報酬委員会の活動開催日審議内容2025年4月16日・役員報酬に関する基本方針に関する審議・2025年度の業績連動報酬における業績指標に関する審議2025年5月14日・取締役の報酬並びに2024年度業績に応じた業績連動報酬について審議2025年6月5日・取締役、執行役員の報酬額の改定案並びに2024年度業績に応じた業績連動報酬支給案について審議2025年12月18日・株式報酬制度導入に関する討議2026年3月23日・業績連動型譲渡制限付株式報酬制度導入(案)に関する審議・取締役、執行役員の報酬額の改定案、2025年度業績に応じた業績連動報酬支給案に関する審議2026年4月20日・業績連動型譲渡制限付株式報酬制度導入(案)に関する審議・業務執行取締役、執行役員の報酬額の改定案並びに2025年度業績に応じた業績連動報酬支給案に関する審議2026年5月15日・業績連動型譲渡制限付株式報酬制度導入(案)に関する審議・業務執行取締役、執行役員の報酬額の改定案並びに2025年度業績に応じた業績連動報酬支給案に関する審議2026年6月5日・業績連動型譲渡制限付株式報酬制度導入(案)に関する審議・役員報酬に関する基本方針改定(案)に関する審議・業務執行取締役、執行役員の報酬額の改定案並びに2025年度業績に応じた業績連動報酬支 給案に関する審議 (Ⅵ)取締役の個人別の報酬等の内容の決定に係る委任に関する事項取締役会は、代表取締役 社長執行役員 CEO 二ノ宮照雄に対し、当事業年度に係る各取締役の固定報酬の額及び管理部門担当取締役、社外取締役を除く各取締役の担当部門の業績等を踏まえた賞与の評価配分の決定を委任しております。委任した理由は、当社全体の業績等を勘案しつつ各取締役の担当部門について、評価を行うには代表取締役社長が適していると判断したためであります。なお、委任された内容の決定にあたっては、各取締役の基本報酬の額及び賞与の支給額案を独立社外取締役が過半数を占める任意の指名・報酬委員会に諮問し、指名・報酬委員会はその妥当性等について協議・確認を行ったうえで答申を行い、その後取締役会の承認を得ることとしております。 ② 役員区分ごとの報酬等の総額、報酬等の種類別の総額及び対象となる役員の員数2026年3月期における役員区分ごとの報酬の内訳は以下のとおりであります。役員区分報酬等の総額(百万円)報酬等の種類別の総額(百万円)対象となる役員の員数(名)固定報酬業績連動報酬退職慰労金取締役(社外取締役を除く。)388120267－6監査役(社外監査役を除く。)00－－1社外役員5151－－9 ③ 役員ごとの連結報酬等の総額等氏名報酬等の総額(百万円)役員区分会社区分報酬等の種類別の総額(百万円)固定報酬業績連動報酬退職慰労金二ノ宮 照雄118取締役提出会社26920Michael G. Hadsell217取締役提出会社791380 (注)連結報酬等の総額が1億円以上の者に限定して記載しております。 ④ 2026年度以降の取締役の個人別の報酬等の内容についての決定に関する方針当社は、中長期的な企業価値の向上を図るインセンティブを付与するとともに、株主の皆様との価値共有を重視した経営を行うことを目的として、金銭によるLTIに替えて、業績連動型譲渡制限付株式報酬制度(以下「株式報酬」という。)を導入することを決議し、株式報酬に関する議案を2026年6月25日開催予定の定時株主総会(以下「本株主総会」という。)に付議することといたしました。なお、取締役に支給する報酬等の額は、金銭による報酬及び今回導入する株式報酬を含め、年額620百万円以内とし、当該上限額に変更はありません。また、本制度に基づき交付する当社普通株式の数は、年10万株以内とします。株式報酬に関する議案が、本株主総会にて承認されることを前提に、2026年度以降における取締役の個人別の報酬等の内容についての決定に関する方針を記載しております。 (ⅰ)基本方針当社は、将来に向けた事業の拡大、持続的な企業価値の向上を実現し、各職責に応じて、それぞれが適切に発揮されるよう、役員報酬制度を定めております。 (ⅱ)報酬等の内容 (a) 報酬の水準報酬水準は、各国・地域の半導体又は関連業界における報酬水準を参考に、適切な競争力を備えるよう設計します。 (b) 報酬の構成各取締役の報酬は、「固定報酬」及び「業績連動報酬」により構成します。ただし、業績連動報酬は、業務執行取締役に限るものとしております。 イ 固定報酬「固定報酬」は、担うべき機能・役割等に応じて支給する金銭報酬となります。「固定報酬」は、毎月一定の時期に支給します。 ロ 業績連動報酬「業績連動報酬」は、短期インセンティブ(STI)、長期インセンティブ(LTI)の2種類で構成されます。STIは、前連結会計年度の業績を基に、売上収益成長率、営業利益率、EBITDAマージン、ROICの期間計画達成状況、並びに個人業績結果に応じて支給する金銭報酬となります。STIの業績指標として、上記の指標を選択した理由は、当社の業績、並びに取締役の貢献度をはかるうえで相応しい指標と判断したためであります。なお、同報酬は、当該事業年度に係る定時株主総会後の一定の時期に支給します。LTIは、原則として連続する3事業年度を業績評価期間として、業績指標の目標達成度合いに応じて支給する業績連動型の株式報酬(パフォーマンス・シェア・ユニット、PSU)制度となります。同報酬の額は、固定報酬に職責毎に設定される一定の割合を乗じた額を各事業年度の基準額として、あらかじめ設定した業績指標の達成度に基づき算出する支給率に応じて変動します。具体的な指標とその上限値、下限値、計算式及び支給率の変動幅については、独立社外取締役が過半数を占める任意の指名・報酬委員会で審議をした上で、取締役会で決定されます。なお、同報酬は、当該事業年度に係る定時株主総会後の一定の時期にユニットとして支給し、あらかじめ設定した業績評価期間終了後に当社普通株式を交付します。 株式報酬制度の概要は以下のとおりであります。 最終交付株式数(1株未満の場合は、1株に切り上げ) 付与ユニット数(イ)×支給率(ロ) (イ) 付与ユニット数 以下の式により算出されます。 個人別基準額(ａ)×適用為替レート(ｂ)÷適用株価(ｃ)ａ 個人別基準額 固定報酬に職責毎に設定される一定の割合を乗じた額を各事業年度の基準額とします。ｂ 適用為替レート 対象期間開始当初において、前事業年度の1月～3月の平均を用いることとします。ｃ 適用株価 対象期間開始当初において、前事業年度の1月～3月の東京証券取引所における当社株式の 普通取引の終値の平均を用います。 (ロ) 支給率 各業績評価期間における業績指標の目標達成度に応じて算出されます。客観性及び透明性を確保するため、独立社外取締役が過半数を占める任意の指名・報酬委員会で審議をした上で、取締役会であらかじめ決定した範囲で算出します。 なお、2026年度の業績評価期間(2026年度～2028年度)における当該業績評価指標には、当社の企業価値向上との連動性が高いと考えられる、相対TSR(株主総利回り)、ROE(自己資本利益率)、連結営業利益率、売上収益成長率、戦略実行指標を用いて算出します。 LTIの業績指標として、上記の指標を選択した理由は、当社の持続的な企業価値や業績、並びに取締役の貢献度をはかるうえで相応しい指標と判断したためであります。 (ハ) 譲渡制限 本制度に基づき交付される当社普通株式に関して、取締役在任期間中及び退任後1年を経過するまでは株式の 譲渡制限を設け、当該期間中、対象取締役は当該株式について、自由に譲渡、担保権の設定その他の処分をすることができないものとします。 (ニ) クローバック条項 本制度に基づき交付される当社普通株式に関して、重大な会計不正や巨額損失等の一定の事由が発生した場合は、対象取締役の責任に応じ、支給済みの株式報酬の全部又は一部を無償返還する旨のクローバック条項を設定します。 (ホ) 前各号のほか、本制度の導入及び運営に関し必要な事項は、本決議の範囲内において、取締役会に一任します。

(2) 【従業員の状況】① 連結会社の状況2026年3月31日現在セグメントの名称従業員数(名)フォトマスク事業1,944[158]合計1,944[158] (注) 1．従業員数は、出向社員を除き、受入出向社員を含む就業人員数であります。2．従業員数の［外書］は、臨時従業員の年間平均雇用人員数であります。3．臨時従業員は、契約社員、パートタイマー及びアルバイトであります。4．当社グループの報告セグメントはフォトマスク事業の単一セグメントであるため、セグメント別の従業員数の記載はしておりません。 ② 提出会社の状況 2026年3月31日現在従業員数(名)平均年齢(歳)平均勤続年数(年)平均年間給与(千円)平均年間給与の対前事業年度増減率(％)49943.53.38,0701.5[80] (注) 1．従業員数は、出向社員を除き、受入出向社員を含む就業人員数であります。2．従業員数の［外書］は、臨時従業員の年間平均雇用人員数であります。3．平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。4．当社はフォトマスク事業の単一セグメントであるため、セグメント別の記載はしておりません。 ③ 労働組合の状況当社の労働組合は、テクセンドフォトマスク労働組合と称し、2026年3月31日現在の組合員数は413人であり、上部団体の全日本電機・電子・情報関連産業労働組合連合会(電機連合)に所属しております。なお、労使関係については円滑な関係にあり、特記すべき事項はありません。 ④ 管理職に占める女性労働者の割合、男性労働者の育児休業取得率及び労働者の男女の賃金の差異(ⅰ)提出会社 当事業年度補足説明管理職に占める女性労働者の割合(％)(注1)男性労働者の育児休業取得率(％)(注2)労働者の男女の賃金の差異(％)(注1)全労働者正規雇用労働者うち管理職パート・有期労働者8.4100.080.180.396.657.9― (注) 1．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」(平成27年法律第64号)の規定に基づき算出したものであります。2．「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」(平成3年法律第76号)の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」(平成3年労働省令第25号)第71条の6第1号における育児休業等の取得割合を算出したものであります。 (ⅱ)連結子会社連結子会社は、海外籍であり、また、「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」(平成27年法律第64号)又は「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」(平成3年法律第76号)の規定による公表義務の対象外となるため、記載を省略しております。

4 【関係会社の状況】 名称住所資本金主要な事業の内容議決権の所有又は被所有割合(％)関係内容(連結子会社) Tekscend Photomask US Inc.(注2)米国テキサス州1USドルフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask Round Rock Inc.(注5)米国テキサス州1USドルフォトマスク事業100.0(100.0)役員の兼任製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask North America Inc.米国テキサス州10千USドルフォトマスク事業100.0役員の兼任Tekscend Photomask Germany GmbHドイツザクセン州25千ユーロフォトマスク事業100.0製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask GmbH(注4)ドイツザクセン州25千ユーロフォトマスク事業100.0―Tekscend Photomask France S.A.S.(注2)フランスエソンヌ県2,000千ユーロフォトマスク事業100.0製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask Korea Inc.(注2、5)韓国利川市500百万ウォンフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売材料等の購入Tekscend Photomask Singapore Pte. Ltd.(注2)シンガポール58,250千USドルフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売中華科盛德光罩股份有限公司(注2、5)台湾桃園市2,742百万台湾ドルフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売材料等の購入上海徐匯科盛徳半導体有限公司(注2、5)中国上海市93,434千USドルフォトマスク事業100.0役員の兼任製品等の販売材料等の購入科盛德半導体材料(上海)有限公司(注2)中国上海市40,000千USドルフォトマスク事業100.0(100.0)―Tekscend Photomask HK Company Limited(注2)中国香港特別行政区40,000千USドルフォトマスク事業100.0(100.0)―Tekscend Photomask Cayman Inc.(注2)ケイマン諸島40,000千USドルフォトマスク事業100.0―(持分法適用関連会社) Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG(注6)ドイツザクセン州6,000千ユーロフォトマスク事業50.0(50.0)製品等の販売材料等の購入Maskhouse Building Administration GmbH & Co. KG(注6)ドイツザクセン州10,000千ユーロフォトマスク事業50.0(50.0)―(その他の関係会社) TOPPANホールディングス株式会社(注7、8)東京都台東区104,986百万円情報コミュニケーション事業分野、生活・産業事業分野及びエレクトロニクス事業分野被所有46.55役員の兼任土地及び一部建物の賃貸借 (注) 1．「主要な事業の内容欄」には、セグメント情報に記載された名称を記載しております。2．特定子会社であります。3．「議決権の所有(又は被所有)割合」欄の( )内は間接所有割合で内数であります。 4．Tekscend Photomask GmbHは休眠会社であります。5．Tekscend Photomask Round Rock Inc.、Tekscend Photomask Korea Inc.、中華科盛德光罩股份有限公司及び上海徐匯科盛徳半導体有限公司については、売上収益(連結会社相互間の内部売上収益を除く。)の連結売上収益に占める割合が10％を超えております。主要な損益情報等は以下のとおりであります。なお、Tekscend Photomask Round Rock Inc.における主要な損益情報等については、米国会計基準に基づいております。 会社名売上収益(百万円)営業利益(百万円)当期利益(百万円)総資産額(百万円)純資産額(百万円)Tekscend Photomask Round Rock Inc.25,2901,5241,04125,2636,145Tekscend Photomask Korea Inc.23,0404,9934,00518,19311,780中華科盛德光罩股份有限公司39,68415,21112,74151,01941,033上海徐匯科盛徳半導体有限公司19,7011,7021,94226,94021,024 6．持分法適用関連会社の2社に関しては、GlobalFoundriesが50％の持分を保有しております。7. TOPPANホールディングス株式会社以外に有価証券届出書又は有価証券報告書を提出している会社はありません。8．TOPPANホールディングス株式会社は、当社の株式46,237千株(議決権比率50.10％)を保有する親会社でありましたが、2025年10月16日付の当社株式の東京証券取引所プライム市場への上場に伴う当社株式の募集・売出により、同社の当社株式の議決権比率が46.57％となり、当社の議決権の過半数を有しないこととなったため、同社は当社の親会社ではなくなりました。

3 【配当政策】当社は、中長期的な企業価値の増大とともに、株主の皆様に対する利益還元を重要な経営課題の一つとして位置付けております。配当方針につきましては、経営基盤の確立、成長力の維持及び競争力強化等を目的とした内部留保の充実に配慮しつつ、業績動向、財務状況及び配当性向等を総合的に勘案した上で実施していく方針であり、連結配当性向30％程度を基本方針としております。当社は、会社法第459条第1項各号に定める剰余金の配当について、法令に別段の定めのある場合を除き、取締役会の決議によって定めることができる旨を定款で定めております。剰余金の配当は、中間配当及び期末配当の年2回を基本的な方針とし、期末配当の基準日は毎年3月31日、中間配当の基準日は毎年9月30日としております。また、その他基準日を定めて剰余金の配当をすることができる旨を定款で定めております。 (2026年3月期 配当実績)2026年3月期の剰余金につきましては、先端品の受注拡大で堅調に業績が推移したこと、及びシンガポール、韓国での設備投資計画等を総合的に勘案し、2026年5月21日開催の取締役会において、期末配当を1株当たり56円とすることを決議しております。 決議年月日配当金の総額(百万円)1株当たり配当(円)2026年5月21日取締役会5,56256.00

6 【研究開発活動】当社グループの研究開発活動は、外販フォトマスク市場におけるシェアトップの地位を堅持し、市場の発展に寄与していく方針のもと、伸長する技術領域における技術開発力の強化や、次世代EUVマスク開発等の新事業領域での研究開発に加え、レガシー装置の延命、代替パーツの開発等の生産効率化、合理化による利益創出を実現する開発活動に注力しております。これらの研究開発活動については、当社朝霞工場と持分法適用会社であるAdvanced Mask Technology Center GmbH & Co. KGを中心拠点として行っており、必要に応じて販売先やベンダー、コンソーシアム等との共同開発も積極的に推進しております。また、研究開発の成果・確立した技術については、当社グループ各工場へ技術移転がなされる体制を整えております。主な研究開発とその成果は次のとおりであります。なお、当社グループはフォトマスク事業の単一セグメントであるため、セグメントごとの記載は省略しております。 (1) 次世代EUVマスク向け吸収膜開発EUVリソグラフィは従来の光学リソグラフィよりも短い波長の光を用いるため、より微細な回路パターンを形成することができます。EUVリソグラフィは反射型光学系を用いてウェハ露光されるため、EUVマスクにも反射特性が求められます(下図参照)。EUVマスクは、基板の上にEUV光を反射する多層反射膜が形成され、その上にEUV光を吸収する吸収膜が形成されております。吸収膜上に所望のパターンを描画～エッチング加工する事でマスク上にパターンが形成されておりEUVマスクに照射されたEUV光がウェハ上に反射されることで、ウェハパターンが形成されます。そのため、EUVマスクの吸収膜特性はウェハ露光に大きな影響を与えます。吸収膜の候補は大きく2つあり、1つは低屈折材料を用いた吸収膜であり、位相効果を利用する事でウェハ上に高いコントラストを得ることができ、従来よりも低露光量でウェハパターンの形成が可能となります。もう1つは、消衰係数の高い材料を用いた吸収膜であり、従来よりも吸収膜を薄膜化し、ウェハ露光で問題となる3次元効果(射影効果等)の低減が可能となります。今期はブランクスメーカーと共同開発した新材料のマスクプロセスを構築し、これを研究開発機構であるimec、及びIBM社と共同でウェハ露光試験を行い、ウェハ上で良好な特性を確認しました。 (EUVリソグラフィイメージ図) (2) EUVマスク後工程(検査、AIMS等)の技術構築、装置選定EUVマスク後工程とは、EUVマスク製造におけるパターン形成後の工程を指し、検査、修正、欠陥判定、ペリクル着脱などの工程を指します。当社グループでは顧客ニーズや技術、コストを踏まえた装置選定、EUVマスク量産に必要な装置の見極めや欠陥保証技術の開発に取り組んでおります。今期は装置メーカーと次世代フォトマスクに必要な検査機能の開発を行い、成果の一部を国際学会で報告しました。 (3) 光マスク及びEUVマスク向けの要素技術開発要素技術については、マスク上のパターンを基板上に正確に転写する位置精度向上技術の開発、マスク寸法特性(マスク上のパターンの寸法精度と形状精度)改善技術の開発に取り組んでおります。位置精度向上技術については、位置精度を悪化させる要因の調査・対策検討、膜応力や描画時の帯電、熱の影響を改善する取り組みを実施中であり、マスク寸法特性改善技術については、材料改善や新技術導入による改善手法の開発に取り組んでおります。 (4) ナノインプリントリソグラフィ(Nano-Imprint-Lithography、以下「NIL」という。)NILは、当社グループがフォトマスク事業で培った微細加工技術の強みを応用可能な技術であり、AR(拡張現実)ヘッドセット、スマートフォンや車載用センサー、医療用画像システムなど様々なアプリケーションへの展開が期待されております。メタレンズのような微細かつ特殊な形状の3Dパターンを作成する場合、従来のフォトリソグラフィ技術を用いることは困難又は非効率とされるところ、NILはナノメートルスケールの複雑な構造体を広い面積にわたって効率的に形成することができる、コストパフォーマンスに優れた量産プロセスであります。当社グループでは、NILプロセスで要求されるスランテッドやブレイズドといった3D構造マスターモールドの製造プロセスを確立するとともに、モールドのみならず当該モールドを使用したNILプロセスそのものの量産試作ラインの構築に向け、研究開発に取り組んでおります。 当連結会計年度における当社グループ全体の研究開発費は1,238百万円であります。

2 【主要な設備の状況】(1) 提出会社2026年3月31日現在事業所名(所在地)セグメントの名称設備の内容帳簿価額(百万円)従業員数(名)建物及び構築物機械装置土地(面積㎡)使用権資産建設仮勘定その他合計本社(東京都港区)フォトマスク事業事務所設備等11－－7018420396［9］朝霞工場(埼玉県新座市)フォトマスク事業生産設備等1,16414,103－64325916816,338290［25］滋賀工場(滋賀県東近江市)フォトマスク事業生産設備等5812,404262(9,998)9226083,610113［46］ (注) 1．IFRS会計基準に基づく数値を記載しております。2．帳簿価額のうち「その他」は、工具器具備品、車両運搬具、ソフトウエアの合計であります。3．従業員数は、出向社員を除き、受入出向社員を含む就業人員数であります。4．従業員数の［外書］は、臨時従業員の年間平均雇用人員数であります。5．臨時従業員は、契約社員、パートタイマー及びアルバイトであります。6．連結会社以外から賃借している土地、建物等の主要な設備は、使用権資産に含まれております。 (2) 在外子会社2026年3月31日現在会社名事業所名(所在地)セグメントの名称設備の内容帳簿価額(百万円)従業員数(名)建物及び構築物機械装置土地(面積㎡)使用権資産建設仮勘定その他合計Tekscend Photomask US Inc.本社他(米国テキサス州)フォトマスク事業事務所設備等87066354(71,905)8,96295－10,35065［4］Tekscend Photomask Round Rock Inc.本社他(米国テキサス州)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等7678,992－553,414－13,230316［11］Tekscend Photomask Germany GmbH本社(ドイツザクセン州)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等－26－1910－21871［6］Tekscend Photomask GmbH本社他(ドイツザクセン州)フォトマスク事業―－－－－－－－－Tekscend Photomask France S.A.S.本社他(フランスエソンヌ県)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等30791－82156－1,70084［4］Tekscend Photomask Korea Inc.本社他(韓国利川市)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等6126,548658(38,473)173,209－11,046202［4］Tekscend Photomask Singapore Pte. Ltd.本社他(シンガポール)フォトマスク事業事務所設備等371－1,2996,578－7,91716［2］中華科盛德光罩股份有限公司本社他(台湾桃園市)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等1,80018,9335,440(15,088)－2688726,530392［43］上海徐匯科盛徳半導体有限公司本社他(中国上海市)フォトマスク事業事務所設備、生産設備等1,1449,925－1,454671－13,196299［4］Tekscend Photomask HK Company Limited 本社(中国香港特別行政区)フォトマスク事業―－－－－－－－－Tekscend Photomask Cayman Inc.本社(ケイマン諸島)フォトマスク事業―－－－－－－－－科盛德半導体材料(上海)有限公司本社他(中国上海市)フォトマスク事業生産設備－4,892－－－－4,892－Tekscend Photomask North America Inc.本社他(米国テキサス州)フォトマスク事業―－－－－－－－－ (注) 1．IFRS会計基準に基づく数値を記載しております。2．帳簿価額のうち「その他」は、工具器具備品、車両運搬具、ソフトウエアの合計であります。3．従業員数は、出向社員を除き、受入出向社員を含む就業人員数であります。4．従業員数の［外書］は、臨時従業員の年間平均雇用人員数であります。5．臨時従業員は、契約社員、パートタイマー及びアルバイトであります。6．連結会社以外から賃借している機械装置、土地、建物等の主要な設備は、使用権資産に含まれております。

(3) 【監査の状況】① 監査役監査の状況(ⅰ)組織・人員構成2026年6月24日(有価証券報告書提出日)現在、当社の監査役会は、常勤である社外監査役1名、非常勤である社外監査役2名の計3名で構成されております。常勤社外監査役の薄井優彰氏は、公認会計士と税理士の資格を有し、税務、財務及び会計の知見並びに企業経営に関する豊富な経験を有しております。社外監査役の齊藤和子氏は、税理士として税務、財務及び会計の知見並びに企業経営に関する豊富な経験を有しております。社外監査役の本村健氏は、弁護士として法務に関する豊富な経験に加え、複数企業での社外取締役経験を有しております。また、監査役の職務遂行を補佐するため適正な能力、経験を有する専任スタッフを配置した監査役室を設置しており、監査役室スタッフの人事、業績評価等に関しては、監査役の同意を得るものとし、監査役スタッフとしての独立性を高め、監査役会の実効性を確保しております。 (ⅱ)監査役及び監査役会の活動状況監査役は、当社及び当社グループ会社の取締役会その他重要な社内会議に出席し、経営状況を把握するとともに、取締役の職務執行状況を監査し適宜意見を述べております。また、監査役会により策定された監査計画書、並びに、定められた監査業務の範囲に基づき、取締役及び従業員等から職務の執行状況についての意見聴取を実施するとともに、当社及びグループ会社への往査、必要に応じて決算書類、稟議書類、各種契約書、議事録その他業務執行に関する重要書類の閲覧等を適宜行い、管理体制が適正に機能しているか確認することにより、監査意見を形成しております。また、常勤監査役は経営監査室及び会計監査人との間において三者による協議の実施や監査計画の共有を行うなど、相互の連携による効果的かつ効率的な監査体制の構築を図っております。監査役会は、毎月1回開催するほか、必要に応じて臨時に開催し、監査の方針及び計画、コーポレート・ガバナンスの運営状況、内部統制システムの整備と運用の状況等の監査、検討を実施いたしました。また、経営監査室及び監査法人と情報交換や意見交換・協議を行う等、相互の連携を密にし、監査の実効性を高め、効果的かつ効率的な監査体制の構築を図っております。当事業年度において当社は監査役会を13回開催しており、個々の監査役の出席状況については次のとおりであります。氏名開催回数出席回数 薄井 優彰13回13回 黒部 隆 (注)6回4回 邉見 芳弘 (注)6回6回 齊藤 和子13回13回 本村 健13回13回 (注) 黒部隆氏、邉見芳弘氏は2025年9月4日開催の臨時株主総会終了をもって退任しております。 ② 内部監査の状況当社は、経営の健全性、並びに、内部統制の適切性及び有効性を高めるために、代表取締役社長が直轄する経営監査室を設置し、業務執行部門から独立した立場から、主に会計監査と業務監査の視点に基づき、当社グループを構成する各社を含む各事業所や工場への、年間の監査計画に基づいた監査を実施しております。監査に従事する者はマネージャー以下6名(当連結会計年度末時点)であり、経営監査では、経営戦略や目標との整合性やリスクコントロールが十分に担保されているかについて検証・評価しております。また、業務監査では、法令・会社諸規則の遵守状況や不正防止の仕組みについて検証・評価しております。監査の実施により、改善事項が検出された場合には、当該各部門及び各グループ会社に対して具体的な改善を求める指導や助言を行うとともに、改善状況の監視、確認を継続的に行い、すべての監査結果につきましては、代表取締役社長、監査役会に直接報告しております。なお、内部監査、監査役監査及び会計監査の相互連携については、定期的に常勤監査役との面談及び監査役会との連携、また、会計監査人を含めた三者での打ち合せの場を設けて情報を共有しております。内部統制部門との連携につきましては、必要に応じて随時、報告や意見交換を実施し共有しており、監査結果及び内部統制状況の報告や意見交換を行うことで、連携に努めております。 ③ 会計監査の状況当社は、有限責任 あずさ監査法人と監査契約を締結しております。同監査法人又は同監査法人の業務執行社員と当社との間に特別な利害関係はありません。業務を執行した公認会計士の氏名、監査業務に係る補助者の構成は以下のとおりであります。なお、当社は、2025年6月20日開催の定時株主総会において、会社機関として会計監査人を設置する旨の定款変更並びに有限責任 あずさ監査法人を会計監査人に選任する旨の議案を諮り、いずれも承認決議されております。 (ⅰ)監査法人の名称有限責任 あずさ監査法人 (ⅱ)継続監査期間4年 (ⅲ)業務を執行した公認会計士指定有限責任社員 山下 誠指定有限責任社員 関口 男也 (Ⅳ)監査業務に係る補助者の構成当社の会計監査業務に係る補助者は、公認会計士21名、その他50名であります。 (Ⅴ)監査法人の選定方針と理由当社は、監査法人を選定するにあたり、監査体制、独立性、監査品質の維持・向上、効率的な監査業務の執行状況等を総合的に判断し、有限責任 あずさ監査法人を選定しております。監査役会は、監査法人の独立性・専門性を検証し、また、当社の業務・事業環境及び会計方針に精通し、適正かつ厳格な監査業務を遂行していることを確認することにより、当社の監査法人として適切と考えております。なお、監査役会は、会計監査人の職務の執行に支障がある場合等、その必要があると判断した場合に、会計監査人の解任又は不再任に関する議案の内容を決定し、株主総会に提出いたします。また、会計監査人が会社法第340条第1項各号に定める事由に該当すると認められる場合には、監査役全員の同意により会計監査人を解任いたします。この場合、監査役会が選定した監査役は、解任後最初に招集される株主総会において、会計監査人を解任した旨及びその理由を報告いたします。 (Ⅵ)監査役及び監査役会による監査法人の評価当社の監査役及び監査役会は、監査法人から、監査計画、監査の実施状況、職務の遂行が適正に行われていることを確保するための体制・監査に関する品質管理基準等の報告を受け、監査品質、独立性及び職業倫理、職業的専門家としての専門性、監査役等とのコミュニケーション等の評価項目について審議し、総合的な評価を行っております。その結果、評価項目すべてについて特段指摘すべき問題はなく、当社グループの監査業務を担う十分な体制及び能力を有していることを確認しております。 ④ 監査報酬の内容等(ⅰ)監査公認会計士等に対する報酬の内容区分前連結会計年度当連結会計年度監査証明業務に基づく報酬(百万円)非監査業務に基づく報酬(百万円)監査証明業務に基づく報酬(百万円)非監査業務に基づく報酬(百万円)提出会社136－15637連結子会社－－－－計136－15637 当社における非監査業務の内容は、主にコンフォートレターの作成業務であります。 (ⅱ)監査公認会計士等と同一のネットワークに対する報酬((ⅰ)を除く)区分前連結会計年度当連結会計年度監査証明業務に基づく報酬(百万円)非監査業務に基づく報酬(百万円)監査証明業務に基づく報酬(百万円)非監査業務に基づく報酬(百万円)提出会社－－－－連結子会社392924917計392924917 連結子会社における非監査業務の内容は、主に税務申告及び移転価格文書作成に関する助言業務であります。 (ⅲ)その他の重要な監査証明業務に基づく報酬の内容該当事項はありません。 (Ⅳ)監査報酬の決定方針監査計画に基づく監査日数、当社の事業規模や業界特性等を勘案して、監査役会の同意を得た上で決定しております。 (Ⅴ)監査法人の報酬等に同意した理由監査役会は、日本監査役協会が公表する「会計監査人との連携に関する実務指針」を踏まえ、会計監査人の監査計画、監査の実施状況及び報酬見積りの算出根拠等を確認し、検討した結果、会計監査人の報酬等につき、会社法第399条第1項の同意を行っております。

(5) 【株式の保有状況】① 投資株式の区分の基準及び考え方当社は、保有目的が純投資目的である投資株式と純投資目的以外の目的である投資株式の区分について、株式の価値の変動又は配当の受領によって利益を得ることを目的として保有する株式を純投資目的である投資株式とし、それ以外の株式を純投資目的以外の目的である投資株式としております。 ② 保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式(ⅰ)保有方針及び保有の合理性を検証する方法並びに個別銘柄の保有の適否に関する取締役会等における検証の内容当社は、取引先との安定的な取引関係の維持・強化等が、当社の中期的な企業価値の向上に資すると判断する場合に限り、保有目的が純投資以外の目的である投資株式を保有しております。その保有については、取締役会において、個別銘柄毎に経済合理性や将来の見通しを検証しております。 (ⅱ)銘柄数及び貸借対照表計上額 銘柄数(銘柄)貸借対照表計上額の合計額(百万円)非上場株式21非上場株式以外の株式－－ (当事業年度において株式数が増加した銘柄)該当事項はありません。 (当事業年度において株式数が減少した銘柄)該当事項はありません。 (ⅲ)特定投資株式及びみなし保有株式の銘柄ごとの株式数、貸借対照表計上額等に関する情報特定投資株式該当事項はありません。 みなし保有株式該当事項はありません。 ③ 保有目的が純投資目的である投資株式該当事項はありません。 ④ 当事業年度に投資株式の保有目的を純投資目的から純投資目的以外の目的に変更したもの該当事項はありません。 ⑤ 当事業年度の前4事業年度及び当事業年度に投資株式の保有目的を純投資目的以外の目的から純投資目的に変更したもの該当事項はありません。 ⑥ 政策保有株式の発行会社との業務提携等の概要該当事項はありません。

2 【沿革】当社の前身は、凸版印刷株式会社グループ(以下「TOPPANグループ」という。)のフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業となります。2020年代に入り、半導体市場の急速な成長によってフォトマスクの市場は新たな局面を迎え、事業の継続的な拡大・成長のためには、市場環境の変化や顧客動向を見極めながら、これまで以上に迅速かつ柔軟な研究開発投資と設備投資が求められるようになりました。こうした中、TOPPANグループはフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業については独立した企業体として経営の自由度を高めることによって、半導体市場のニーズを捉えた投資をスピーディーに実行し、より一層の成長と競争力の強化を実現・継続していくことが、当事業の価値向上に資するとの判断に至りました。その結果、当社は2021年12月13日に、TOPPANグループのフォトマスク事業及びそれに付随又は関連する事業の承継会社として設立され、2022年4月1日に権利義務を承継する吸収分割に合わせ、株式会社トッパンフォトマスクとして事業を開始しました。また、2024年11月1日に商号をテクセンドフォトマスク株式会社へ変更し、2025年10月16日に東京証券取引所プライム市場に上場いたしました。 (当社設立前)年月概要1961年シリコントランジスタ製造用フォトマスクの試作成功1968年3月朝霞工場精密部品棟にクリーンルームが完成シリコントランジスタマスクの量産を開始1970年9月滋賀精密工場竣工1974年12月朝霞精密電子第一工場竣工最新鋭設備と高性能クリーンルームを完備1986年2月朝霞精密電子第二工場竣工1997年3月中華映管股份有限公司、揚博科技股份有限公司と合弁で、中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)を設立1998年8月滋賀工場でフォトマスク新棟竣工2003年2月朝霞第三工場竣工2005年4月DuPont Photomasks, Inc.の株式取得に関する手続き完了。Toppan Photomasks, Inc.(現 Tekscend Photomask US Inc.)が始動2014年5月中国科学院上海微系統与信息技術研究所が保有する上海凸版光掩模有限公司(現 上海徐匯科盛徳半導体有限公司)の持分28.5％を買取り、完全子会社化2015年3月中華映管股份有限公司が保有する中華凸版電子股份有限公司(現 中華科盛德光罩股份有限公司)の株式を取得し、子会社化2015年4月上海凸版光掩模有限公司が新工場を建設製造ラインを拡充しフォトマスクの生産能力を増強2019年8月Toppan Photomasks Round Rock, Inc.(現 Tekscend Photomask Round Rock Inc.)を設立GlobalFoundriesの内製マスクライン生産設備を購入、移設し、米国内のGlobalFoundriesウェハ工場向けにフォトマスクを供給 (当社設立後)年月概要2022年4月株式会社トッパンフォトマスクが凸版印刷株式会社よりフォトマスク事業を承継当社株式の49.9％を凸版印刷株式会社からインテグラルグループが取得2023年7月本社を汐留シティセンターに移転2024年11月商号をテクセンドフォトマスク株式会社に変更2025年10月東京証券取引所プライム市場に上場