株式会社　アルバック

３【事業の内容】 当社グループは、当社、子会社37社、関連会社８社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。 事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。 各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。事業区分主要製品真空機器事業半導体及び電子部品製造装置スパッタリング装置、真空蒸着装置、エッチング装置、イオン注入装置、アッシング装置、各種CVD装置、ウェーハ前処理（自然酸化膜除去等）装置、超高真空装置他ディスプレイ・エネルギー関連製造装置スパッタリング装置、プラズマCVD装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、真空蒸着装置、巻取式スパッタリング装置他コンポーネント真空ポンプ（ドライポンプ、メカニカルブースタポンプ、油回転ポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプ、イオンポンプ、油拡散ポンプ）、真空計、リークテスト装置、リークディテクタ、ガス分析計、成膜用電源、蒸着用蒸発源、成膜コントローラ、真空バルブ、真空搬送ロボット、極低温機器、各種真空部品他一般産業用装置真空溶解炉、真空熱処理炉、真空焼結炉、真空ろう付炉、凍結真空乾燥装置他真空応用事業材料スパッタリングターゲット材料、蒸着材料、チタン・タンタル加工品、高融点活性金属（Ta、Nb、W、Mo）、超微粒子（ナノメタルインク）、表面処理他その他Ｘ線光電子分光分析装置、走査型オージェ電子分光分析装置、飛行時間型二次イオン質量分析装置、四重極型二次イオン質量分析装置、半導体・FPD用マスクブランクス、受託成膜加工他 なお、上記の真空機器事業と真空応用事業の区分と「第５ 経理の状況 １ 連結財務諸表等（１）連結財務諸表 注記事項（セグメント情報等）」に掲げるセグメントの区分は同一であります。 また、当社企業集団の主要製品の概要は、次のとおりであります。主要製品概要スパッタリング装置真空中で金属やシリサイドなどの金属の材料に、高エネルギーのアルゴン原子をぶつけ、それに叩かれ飛び出してくる金属原子を付着させて成膜する装置。ＣＶＤ装置つくる薄膜の種類に応じて原料をガス状態で供給し、下地膜の表面における化学触媒反応によって膜を堆積させる装置。エッチング装置真空中に被エッチング材料を入れ、その材料に合わせてエッチングガスを導入しプラズマ化し、エッチング種が被エッチング材料に吸着されると表面化学反応を起こし、エッチング生成物を排気除去する装置。真空蒸着装置真空中で特定の物質を熱し、そこから蒸発する原子や分子をより温度の低い面に凝縮させて、表面に膜を形成する装置。真空熱処理炉真空中で各種金属の焼入、ろう付、焼戻、容体化、時効、磁性処理等を行う装置。 以上のような装置により、スマートフォン、PC、タブレット、スマート家電、テレビ、自動車等の最終製品を構成するエレクトロニクス部品等が生み出されております。 また、主な各々の事業区分ごとの事業の流れは以下のとおりです。

１【経営方針、経営環境及び対処すべき課題等】（1）会社の経営の基本方針当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。①顧客満足の増進複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。②生産技術の革新製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化（モジュール化、ユニット化）を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。③独創的な商品開発競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。④自由闊達な組織経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。⑤企業価値の向上株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。 （2）経営環境当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、金融資本市場の変動や通商政策動向等の影響の広がり等による海外景気の下振れリスクが意識される等、先行きに対する不透明感が高まりました。当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、生成AI活用の浸透等により中長期的な半導体需要拡大が見込まれるとともに、地政学的リスクに対応して世界各地で半導体工場の新増設計画が進められています。エレクトロニクス業界では、パワーデバイス投資がEV需要の鈍化等により短期的には設備投資が調整されていますが、社会のデジタル化に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産投資、中国における国産化投資は継続しています。フラットパネルディスプレイ（FPD）業界では、タブレットやパソコン等のIT用パネルにおいて、液晶から有機ELへ切り替えが進む中、大型基板の有機ELへの投資が続いています。また、産業電池業界では、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上を目指した量産投資が検討されています。 （3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題当社グループは、「互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念のもと、真空及びその周辺技術を、装置、材料、成膜加工、分析、カスタマーサポートといった幅広い事業領域を取扱うことで生み出されるシナジー効果を強みとした事業経営を行っております。また、このシナジー効果をより効果的に発揮できるよう、当社グループ間の連携強化や世界の多様な企業や研究所等とビジネスパートナーシップの形成を推進することで、よりグローバルに事業を展開し、更なる持続的成長と企業価値向上を実現する高い収益性を有する企業集団となることを目指しています。また、当社グループは、「真空技術及びその周辺技術の総合利用により、経済価値、社会価値、環境価値を創造する」というサステナビリティ方針に基づき、当社グループの事業活動を通して、幅広いステークホルダーとともに、産業と科学の発展に貢献し、環境負荷の低減や健康と幸せの創造により、気候危機や資源不足等地球の持続可能性を脅かす環境問題の解決に向けての取組みも推進しております。これらの経営基本理念やサステナビリティ方針を踏まえ、当社グループは、“Vision2032”「未来につながる可能性の場であり続ける」を策定しました。この“Vision2032”は、当社グループの10年後の理想像を、当社創業時から受け継がれてきた企業文化や価値観を未来志向に変換した姿として描いたものであり、当社グループは、その実現に向けて取組むべき重要課題（マテリアリティ）を念頭においた経営に、グループ一丸となって引き続き取組んでおります。 〈当社グループが取組むべき重要課題（マテリアリティ）〉・真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進・多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり・バリューチェーンにおける人権尊重・責任ある行動・持続可能な地球環境への貢献 そして、この重要課題（マテリアリティ）の実現に向けて、当社グループは、2026年６月期から2031年６月期までの６年間の新中長期経営計画「バリューアッププラン」を策定しました。経営資源を最適化し、半導体電子中心の事業ポートフォリオへの見直しを加速させ、高成長・高収益性を実現し、企業価値の向上を目指します。 新中長期経営計画「バリューアッププラン」の概要は次のとおりです。１.成長戦略①半導体電子への注力加速・半導体製造装置事業実績のあるハードマスク技術や金属成膜技術を基盤に、重要顧客のPOR（Process of Record：量産に使われる認定プロセス）数を増加させ、新工程の獲得によるシェア拡大を図り、2031年6月期に受注1,000億円以上を目指します。・電子部品製造装置事業次世代パワー半導体に対応する装置の量産化や先端パッケージング工程の獲得により、2031年6月期に受注1,000億円以上を目指します。また、化合物への薄膜エッチング技術を活用し、光電融合分野への展開も図ります。②事業間シナジーを活用した新たな半導体電子関連及び真空関連ビジネスの創出 製造プロセス高度化により分析の重要度が高まる半導体市場において、当社は研究開発向け分析機器での経験と高いシェアを有しています。これを活かし、半導体電子との事業間シナジー等により、量産ライン向け分析検査装置を本格投入し、検査装置市場におけるグローバルポジションの確立を目指します。③M&A等を活用したビジネス拡大半導体電子を中心に、成長のための開発投資強化やM&Aを実施します。２.事業改革 低採算事業等の縮小や撤退を進め、グループ会社や生産拠点の再構築とスリム化を図ります。また、人件費や販売管理費等の固定費を適正化し、コスト削減を実現します。これらの取組みにより、経営の効率化と収益基盤の強化を図り、持続的な成長の基盤を作ります。３.生産改革・従来の受注後に製造プロセスを開始する方式に対し、モジュラーデザインの推進により先行手配・計画生産等を可能とし、効率的な生産体制を構築します。これにより、大幅な製造リードタイムの短縮が可能となります。・半導体電子中心のモジュラーデザイン装置の割合を高め、顧客ニーズに迅速に対応するとともに、製造拠点集約を進めることで収益性改善を実現します。４.財務基盤及びキャッシュ・フローマネジメントの強化 当社グループの更なる成長に向けた十分な開発投資資金を確保し、当社事業をとりまく外部環境変化への迅速な対応を実現する強固な財務基盤の構築を更に進めるとともに、キャッシュ・フローマネジメントの更なる強化により、資本効率の一層の改善に努めます。 バリューアッププランに加え、重要課題（マテリアリティ）の実現に向けて、以下の取組みを推進します。（ESG経営の強化）・当社グループの事業活動におけるCO2排出の削減に継続して取組むとともに、気候危機等の社会的課題の解決に貢献する環境配慮型製品の更なる開発と拡販に努めます。・当社グループのみならず当社グループの取引先といったステークホルダーに至るまで、当社の推進する人権に配慮した事業運営についての理解を共有するとともに労働環境をはじめとする人権尊重の更なる推進に努めます。・当社グループの持続的な成長を実現するために、実効性、透明性の高い経営体制の強化に継続して取組むことにより、コーポレート・ガバナンス体制の更なる維持強化に努めます。 （人財経営の推進）当社グループにおいて多様な人財が活躍できる環境を整備することで、従業員エンゲージメントを高めるともに、次世代リーダーとなる中核人財の育成プログラムを再構築することで、当社グループの人的資本の更なる強化に努めます。 ＜数値目標（連結）＞ 新中長期経営計画の数値目標は、以下のとおりです。指 標2025年６月期実績（参考）2028年６月期中間目標2031年６月期目標売上高2,512億円2,600億円3,600億円半導体電子関連ビジネス売上高構成比 ※36％45％60％以上営業利益265億円390億円790億円営業利益率10.6％15％22％ 半導体電子関連ビジネス ※11.6％19％25％ROE（自己資本利益率）7.5％10％16％※管理会計に基づく数値（半導体電子事業及び関連事業）

３【事業等のリスク】有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、経営者が連結会社の財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況に重要な影響を与える可能性があると認識している主要なリスクは、以下のとおりです。なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①市場変動による影響当社グループは、特に半導体及び電子部品、FPD等の製造工程で使用される真空装置分野において独自技術を開発し、市場シェアを拡大してきました。しかしながら、半導体や電子部品、FPD分野等における市況変動に伴う顧客の設備投資の大幅縮小や財政状態の悪化が生じた場合、当社グループの経営成績及び財政状態に影響を及ぼす可能性があります。さらに、当社は新中長期経営計画「バリューアッププラン」に基づき、事業ポートフォリオを半導体電子分野へ集中させる方針を掲げておりますが、半導体市場は技術革新のスピードが速く、また地政学的リスクや景気変動の影響を受けやすい特性があります。今後、半導体需要の急激な変動や競争環境の変化が当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループは、半導体電子分野への集中と並行して、真空関連事業を幅広く展開しております。また、半導体電子分野の急激な市場環境の変動に対しては、技術革新への対応力を高めるための研究開発投資を行い、製品ラインアップの拡充と差別化を図っていきます。加えて、事業間シナジーを活用した新規ビジネスの創出により、収益基盤の多様化を推進し、市場環境の変動に対する耐性の強化に努めてまいります。 ②研究開発による影響当社グループは、積極的な研究開発投資を継続して行うことにより、最先端技術を使用した新製品を市場に投入し続けてまいりました。しかしながら、開発の著しい遅延を余儀なくされ、新製品の市場への投入の遅れが生じた場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。成長のために必要な開発について、投資の選択と集中によりスピードアップを図るとともに、定期的なモニタリングを実施して著しい遅延が生じないよう、その進捗を管理しております。 ③グローバルな競争環境の影響当社グループは海外売上高比率が高く、世界各国・各地域の顧客に向けて製品を提供しております。しかし、グローバルに事業を展開している既存の競合他社も数多く、新規参入も増えている中で、製品の性能のみならず価格面での競争も激化しております。このような競争環境により、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループは、顧客ニーズを的確に把握し、それを確実に反映した製品を適時投入することで、競争力を維持し、競争環境に対応してまいります。 ④人財の確保に関する影響当社グループがグローバルな事業環境の中で成長を続けるために、人財の確保は最も重要なことと位置付けております。事業の成長に必要な人財を確保し続けることができない場合、競争力の低下を招くこととなり、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループは、人材を「人財」として捉え、多様な人財が挑戦し続ける場の創出に努めております。人財の採用・育成を推進し、多様な人財が心身ともに健康で活気に満ち、個人の能力が最大限に発揮できるように、従業員のエンゲージメントとウェルビーイングを意識した活動で働く環境を整え、必要な人財を確保しております。 ⑤サプライチェーンに関する影響当社グループは、製品を生産するための部品需給の逼迫等により部品価格の高騰、供給の遅延が発生した場合や、大規模な災害などによるサプライチェーンの障害などにより生産活動の停止や遅延が発生した場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループでは、仕入先との協力体制構築や早期の部品手配などにより、必要な部品の確保等に努めております。 ⑥法令、規制に関する影響当社グループは、グローバルに事業を展開しており、各国・各地域において、輸出入規制、競争法、汚職・贈賄、労働法、環境法、移転価格税制等の様々な分野の法令や規制の適用対象となります。そこで、当社グループは、これらの法令や規制の遵守に努めております。しかしながら、これらの法令や規制への抵触が認められた場合には、当社グループの社会的信用の低下はもちろんのこと、課徴金や損害賠償責任、事業活動の制限等が発生する可能性があります。また、各国の安全保障上の政策に基づく規制、その他、将来において予期せぬ法令や規制の改正や強化が生じた際に、当社グループの対応や対応に不備が認められた場合には、是正措置に関する費用負担や事業活動の制限等が発生する可能性があります。当社グループは、企業倫理行動基準を定めて各種法規制遵守の重要性を国内外グループ会社に啓蒙するとともに、社内外の内部通報制度を活用して、法令等の違反の早期発見と対策に努めております。また、当社グループ各社に設置するコンプライアンス委員会やリスクマネジメント委員会においても、法令や規制への抵触のおそれがある行為の内容についての報告を実施し、適宜必要な対応がとれる体制をとっております。また、とりわけ重要な法令や規制への対応は当社経営会議で報告の上、当社役員の主導でグループ各社へ展開する体制をとっております。 ⑦品質に関する影響当社グループは、国際規格であるISO9001の認証取得を含む品質保証体制を確立し、高レベルの製品・サービスを提供し続けてまいりました。しかしながら、常に最先端技術を利用した製品を提供していることから開発的要素も多く、予期せぬ不良の発生等により、追加原価の発生や損害賠償、信頼低下による売上高減少を招いた場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループは、新中長期経営計画において、更なるモノづくり力強化を進めており、コストや信頼性、規格仕様を決定する上流工程を強化しております。製品の完成度を高めるバリューエンジニアリング、不適合内容の水平展開など品質向上の仕組みを盛り込むとともに、再発防止策を実施し、徹底を進めております。 ⑧資金調達に関する影響当社グループは、金融機関からの借入金等により資金調達を行っておりますが、市場環境、当社の信用力低下等により、資金調達が困難になる可能性があります。また、当社グループの借入金に係る金融機関との契約には、財務制限条項が付されているものがあり、現状、当社グループの財政状態は当該条項に照らして問題のない水準にあるものの、当該条項に抵触した場合、資金調達に支障が生じる可能性があります。資金調達が想定どおりに行えない場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループは、資金調達にあたって年度別の返済額の平準化に努めており、リファイナンスリスクの低減や返済負担の軽減を図っております。また、社会情勢や経済環境の先行きが不透明な中、不測の事態に備え、十分な手元流動性資金を確保するとともに、コミットメントラインを設定し追加資金を確保できる体制を整えており、当面資金調達リスクは極めて低い状態にあります。事業環境の急激な変化にも対応できるよう、引き続き、適時に必要資金を確保できる体制を維持してまいります。 ⑨情報セキュリティに関する影響当社グループは、事業上の重要情報及び事業の過程で入手した個人情報や取引先等の機密情報を保有しております。これらの情報が意図せず流出した場合、顧客の喪失や社会的信用の低下、損害賠償等が発生する可能性があります。また、盗難・紛失等による第三者の不正流用、サイバー攻撃、その他不測の事態によって重要データの破壊や改ざん、情報漏えいや流出、情報システムの停止等が発生する可能性があります。これらの要因により、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループは、情報システムやネットワークに対する定期的なリスクアセスメントや監視等のセキュリティ対策を講じております。また、情報管理に関する諸規程のもと、適切な情報管理体制を構築するとともに、従業員教育によりその徹底を図っております。 ⑩外国為替変動による影響当社グループは、海外売上高比率が高いものの、原則として円建取引を行っております。しかしながら、当該円建取引では、円高時に海外メーカーと比較して価格競争力の面で不利になることがあります。また、一部外貨建取引もありますが、外貨建取引においては、急激な為替変動による為替リスクが生じる可能性があります。これらの要因により、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループは、為替予約等によりリスクヘッジを行うことで、為替変動による業績への影響を低減するよう努めております。 ⑪知的財産権に関する影響当社グループは、各種真空装置・機器等に関する多数の特許を保有し、積極的に新規権利獲得にも努めております。しかしながら、第三者から不測の特許侵害訴訟が提起された場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。このようなリスクの低減を図るため、当社グループの製品・技術に関して、定期的に特許調査を行っております。 ⑫安全に関する影響当社グループの製品に関連する安全性等の問題により、顧客への損害発生や損害賠償責任の発生、売上高の減少、社会的信用の低下等につながる可能性があります。また、不測の事態により従業員や施設に影響を与える労働災害が発生し、製品の供給やサービスの提供に支障をきたす事態となった場合、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。当社グループは、「安全第一」を企業経営の基本とし、顧客に利用していただく様々な製品やサービスの安全と、私たち自身が安全で明るく元気に働くことのできる活気ある職場づくりを、リスクアセスメントを中心とした安全管理システムの運用を通じて目指していきます。 ⑬環境規制、気候変動への対応に関する影響当社グループは、地球温暖化防止、水質汚濁、大気汚染、騒音、土壌汚染、廃棄物処理、使用する有害化学物質等に関する国内外の環境法令の遵守に努めております。しかしながら、将来の環境規制への適応が困難な事象や不測の事態が発生した場合、環境対応費用の増加や事業活動停止、社会的信用の低下等、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。気候変動対応に関しては、重要な経営課題の一つととらえ「気候関連財務情報タスクフォース（TCFD）」による提言に賛同するとともに、シナリオ分析に基づくリスクと機会を予測し活動を推進しております。さらに、2030年に温室効果ガス排出量を50％削減（2023年比）、2050年の温室効果ガス排出量実質ゼロを目標とし、定期的なモニタリングと進捗管理を行っております。環境関連法令や規制を遵守するための取組み、環境理念や環境方針に基づいた環境負荷の低減、温室効果ガス排出量削減目標達成に向けた施策を継続的に推進し、環境情報の適切な開示を行ってまいります。 ⑭その他リスク当社グループはグローバルかつ広範な事業展開を行う企業として、各国・各地域における経済環境変動、自然災害、戦争、テロ、感染症等の不可抗力要因が、当社グループの経営成績や財政状態に影響を及ぼす可能性があります。

４【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】(1）経営成績等の状況の概要当連結会計年度における当社グループの財政状態、経営成績及びキャッシュ・フロー（以下「経営成績等」という。）の状況の概要は次のとおりであります。 ①財政状態及び経営成績の状況当連結会計年度における世界経済は、穏やかな回復基調で推移しましたが、金融資本市場の変動や通商政策動向等の影響の広がり等による海外景気の下振れリスクが意識される等、先行きに対する不透明感が高まりました。 当連結会計年度における当社グループを取り巻く事業環境は、半導体業界では、生成AI活用の浸透等により中長期的な半導体需要拡大が見込まれるとともに、地政学的リスクに対応して世界各地で半導体工場の新増設計画が進められています。エレクトロニクス業界では、パワーデバイス投資がEV需要の鈍化等により短期的には設備投資が調整されていますが、社会のデジタル化に向けた各種電子デバイスの技術革新や増産投資、中国における国産化投資は継続しています。フラットパネルディスプレイ（FPD）業界では、タブレットやパソコン等のIT用パネルにおいて、液晶から有機ELへ切り替えが進む中、大型基板の有機ELへの投資が続いています。また、産業電池業界では、EVバッテリーの小型大容量化や安全性向上を目指した量産投資が検討されています。このような状況において、当連結会計年度につきましては、受注高はパワーデバイスやバッテリー投資の減速を反映して前年同期を下回りましたが、売上高は高水準の受注残高の寄与等により、高い水準で着地しました。営業利益は売上高の減少及び研究開発費等の増加により前年同期を下回りましたが、売上総利益率は31.8％で着地し、収益性は確実に改善しています。 その結果、当連結会計年度につきましては、受注高は2,255億67百万円(前年同期比326億14百万円(12.6％)減)、売上高は2,511億84百万円(同99億31百万円(3.8％)減)となりました。また、損益面では、営業利益は265億23百万円(同32億47百万円(10.9％)減)、経常利益は286億５百万円(同11億81百万円(4.0％)減)となり、親会社株主に帰属する当期純利益は166億87百万円(同35億46百万円(17.5％)減)となりました。 企業集団の事業セグメント別状況は次のとおりであります。 「真空機器事業」真空機器事業を品目別に見ますと下記のとおりです。 （半導体及び電子部品製造装置）半導体及び電子部品製造装置では、先端ロジック・メモリ分野の投資が堅調に推移したことに加え、先端パッケージング分野も好調に推移しましたが、日本及び中国のパワーデバイス投資の反動減により、受注高・売上高は前年同期を下回りました。 （ディスプレイ・エネルギー関連製造装置）ITパネル用有機EL投資が本格化し始めた一方で、小型大容量化や安全性向上を実現するためのEVバッテリーの車載採用に時間を要し、投資が遅延したこと等から、受注高・売上高は前年同期を下回りました。 （コンポーネント）コンポーネント事業では、半導体電子・民生機器関連向けの真空ポンプ、計測機器、電源機器や、AIサーバー等の冷却システム用リークテスト装置が堅調に推移し、受注高は高水準を維持し、売上高は前年同期を上回りました。 （一般産業用装置）高機能磁石製造装置の需要が弱含み、受注高・売上高ともに前年同期を下回りました。 その結果、真空機器事業の受注高は1,734億30百万円、受注残高は983億50百万円、売上高は1,990億50百万円となり、218億77百万円の営業利益となりました。 「真空応用事業」真空応用事業を品目別に見ますと下記のとおりです。 （材料）ディスプレイ・半導体電子関連の工場稼働率が高水準で継続していることにより、受注高・売上高ともに前年同期を上回りました。 （その他）表面分析機器関連や高精細・高機能ディスプレイ向けマスクブランクス関連等が寄与し、受注高・売上高ともに前年同期を上回りました。 その結果、真空応用事業の受注高は521億37百万円、受注残高は174億１百万円、売上高は521億34百万円となり、45億33百万円の営業利益となりました。 また、当連結会計年度末の財政状態は以下のとおりとなりました。資産合計は、前連結会計年度末に比べ138億21百万円減少し、3,750億62百万円となりました。これは、有価証券が70億円、現金及び預金が26億17百万円それぞれ増加した一方で、受取手形、売掛金及び契約資産が185億23百万円、有形固定資産が28億24百万円それぞれ減少したことなどによります。負債合計は、前連結会計年度末に比べ169億44百万円減少し、1,439億82百万円となりました。これは、支払手形及び買掛金が74億68百万円、契約負債が36億58百万円、短期借入金が31億94百万円それぞれ減少したことなどによります。純資産合計は、前連結会計年度末に比べ31億23百万円増加し、2,310億80百万円となりました。これは、親会社株主に帰属する当期純利益の計上を主な要因として利益剰余金が95億81百万円増加した一方で、為替換算調整勘定が51億77百万円減少したことなどによります。この結果、自己資本比率は59.6％となりました。今後もキャッシュ・フローマネジメントの強化等により、財務基盤の更なる強化を目指してまいります。 ②キャッシュ・フロ－の状況当連結会計年度のキャッシュ・フローの状況は以下のとおりとなりました。営業活動によるキャッシュ・フローは、税金等調整前当期純利益、減価償却費等の計上に加え、キャッシュ・フローマネジメントの更なる強化により運転資金を圧縮したことで、348億11百万円の収入となりました。新中長期経営計画「バリューアッププラン」におけるキャピタルアロケーションの実現のために、引き続きキャッシュ・フローマネジメントの強化に努めてまいります（2031年６月期までの６か年累計で約1,950億円のキャッシュインを見込み、そのうち約85％を営業キャッシュ・フローとして獲得することを目指す）。投資活動によるキャッシュ・フローは、有形及び無形固定資産の取得による支出などにより、108億円の支出となりました。今後、半導体電子、半導体電子関連ビジネスへの投資のウェイトを高め、更なる成長に向けた研究開発投資を強化してまいります。フリー・キャッシュ・フローは240億11百万円の収入となりました。財務活動によるキャッシュ・フローは、業績連動型配当に基づいた配当金の支払などに充当し、142億15百万円の支出となりました。当社は株主還元を最重要政策の一つと位置づけ、連結配当性向35％以上を目途とした業績連動型配当を実施する方針としております。今後も持続的な成長による長期的な増配に加え、将来的には更なる株主還元の拡充を目指してまいります。以上の結果、当連結会計年度末における現金及び現金同等物の残高は、前連結会計年度末に比べ80億68百万円増加し、926億９百万円となりました。 ③生産、受注及び販売の実績a.生産実績 当連結会計年度における生産実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。セグメントの名称生産高（百万円）前年同期比（％）真空機器事業201,54193.4真空応用事業52,157106.8合計253,69795.9 （注）金額は、販売価格をもって表示しております。 b.受注実績 当連結会計年度における受注実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。セグメントの名称受注高（百万円）前年同期比（％）受注残高（百万円）前年同期比（％）真空機器事業173,43083.798,35078.1真空応用事業52,137102.217,40191.4合計225,56787.4115,75179.8 c.販売実績 当連結会計年度における販売実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。セグメントの名称販売高（百万円）前年同期比（％）真空機器事業199,05093.8真空応用事業52,134106.8合計251,18496.2 （注）１．セグメント間の取引については相殺消去しております。２．主な品目別販売実績及び当該販売実績に対する割合は次のとおりであります。セグメントの名称品目当連結会計年度販売高（百万円）割合（％）真空機器事業半導体及び電子部品製造装置89,29844.9ディスプレイ・エネルギー関連製造装置53,14826.7コンポーネント43,15021.7一般産業用装置13,4556.7計199,050100.0真空応用事業材料26,60151.0その他25,53349.0計52,134100.0 (2）経営者の視点による経営成績等の状況に関する分析・検討内容経営者の視点による当社グループの経営成績等の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりです。なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 ①財政状態及び経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容当連結会計年度における当社グループの経営成績は、売上高は2,511億84百万円（前年同期比3.8％減）となりました。半導体及び電子部品製造装置において、先端ロジック・メモリ分野の投資が堅調に推移したことに加え、先端パッケージング分野も好調に推移しましたが、日本・中国のパワーデバイス投資がEV需要の鈍化等により調整されていることや、産業電池業界におけるEVバッテリーの小型大容量化や安全性向上を目指した量産投資が、車載採用に時間を要し、投資が遅延していることなどが主な要因となります。営業利益率は10.6％（前年同期比0.8ポイント減）となりました。これは売上高の減少に加え、今後の成長に向けた研究開発費の増加を主として、販売費及び一般管理費が増加したことが要因となります。研究開発費の総額は139億91百万円となり、前年同期から６億78百万円増加しました。研究開発費の売上高に対する比率は前年同期から0.5ポイント増加し5.6％となりましたが、将来のさらなる成長に向けて、半導体電子を中心に研究開発力強化のための投資を継続してまいります。経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「１ 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等（3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載のとおり、当社グループは持続的な成長の実現を目指し、2026年６月期を初年度とする６年間の新中長期経営計画「バリューアッププラン」を策定いたしました。本計画では、経営資源の最適化を断行し、半導体電子を中心とした事業ポートフォリオへの見直しを加速させることで、高成長・高収益性の実現を図り、企業価値の向上を目指してまいります。新中長期経営計画の数値目標としては、2031年６月期の売上高3,600億円、半導体電子関連ビジネス売上高構成比60%以上（管理会計に基づく数値）、営業利益790億円、営業利益率22%、ROE16%としております。この財務目標の達成に向けて、「１ 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等（3）優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載した具体的取組みにより、中長期の視点で成長を目指してまいります。セグメントごとの経営成績の状況に関する認識及び分析・検討内容は次のとおりです。 ・真空機器事業当連結会計年度における当セグメントの事業環境は、「（1）経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。売上高は、前年同期比6.2％減の1,990億50百万円となりました。半導体及び電子部品製造装置において、先端ロジック・メモリ分野の投資が堅調に推移したことに加え、先端パッケージング分野も好調に推移しましたが、日本・中国のパワーデバイス投資がEV需要の鈍化等により調整されていることや、産業電池業界におけるEVバッテリーの小型大容量化や安全性向上を目指した量産投資が、車載採用に時間を要し、投資が遅延していることなどが主な要因となります。セグメント利益率については、当連結会計年度は11.0％と、前年同期の12.3％から悪化しました。これは売上高の減少に加え、研究開発費の増加が主な要因となります。 ・真空応用事業当連結会計年度における当セグメントの事業環境は、「（1）経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。売上高は、前年同期比6.8％増の521億34百万円となりました。ディスプレイ・半導体電子関連の工場稼働率が高水準で継続していることや、表面分析機器関連や高精細・高機能ディスプレイ向けマスクブランクス関連等の売上高が好調に推移したことが主な要因となります。セグメント利益率については、当連結会計年度は8.7％と、前年同期の7.3％から改善しました。これは、相対的に利益率の高い製品の売上高増加が主な要因となります。 財政状態の分析は「（1）経営成績等の状況の概要 ① 財政状態及び経営成績の状況」に記載のとおりであります。 ②キャッシュ・フローの状況の分析・検討内容並びに資本の財源及び資金の流動性に係る情報a.キャッシュ・フローの状況の分析・検討内容当連結会計年度のキャッシュ・フローの状況は「（1）経営成績等の状況の概要 ② キャッシュ・フローの状況」に記載のとおりであります。 b.資本の財源及び資金の流動性に係る情報当社グループの主な資金需要は、新たな成長戦略の足がかりとなる研究開発投資や設備投資、事業により生じる運転資金に基づくもので、とりわけ成長事業として強化を図っていく半導体や電子分野の開発投資を拡大する予定です。これらの資金需要につきましては、営業活動によるキャッシュ・フロー及び金融機関からの借入金などにより対応し、資金調達にあたっては、リファイナンスリスクの低減や返済負担の軽減を図るために、年度別の返済額の平準化に努めております。また、金融資本市場の変動や通商政策動向などの影響の広がり等による海外景気の下振れリスクが意識される中、十分な手元流動性資金を確保するとともに、コミットメントラインを設定し追加資金を確保できる体制を整えており、当面安定的な経営が可能な状態にあります。事業環境の急激な変化にも対応できるよう、引き続き、適時に必要資金を確保できる体制を維持してまいります。 ③重要な会計上の見積り及び当該見積りに用いた仮定当社グループの連結財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められている会計基準に基づき作成しております。この連結財務諸表を作成するにあたって、資産、負債、収益及び費用の報告額に影響を及ぼす見積り及び仮定を用いておりますが、これらの見積り及び仮定に基づく数値は実際の結果と異なる可能性があります。連結財務諸表の作成にあたって用いた会計上の見積り及び当該見積りの仮定のうち、重要なものについては、「第５ 経理の状況 １ 連結財務諸表等（１）連結財務諸表 注記事項（重要な会計上の見積り）」に記載しております。

（セグメント情報等）【セグメント情報】１．報告セグメントの概要 当社の報告セグメントは、当社の構成単位のうち分離された財務情報が入手可能であり、最高経営意思決定機関が経営資源の配分の決定及び業績を評価するために、定期的に検討を行う対象となっているものであります。 当社は、事業構成単位（ビジネスユニット）を基礎とした製品・サービス別のセグメントから構成されており、「真空機器事業」及び「真空応用事業」を報告セグメントとしております。 「真空機器事業」は、液晶ディスプレイ用スパッタリング装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、半導体製造用スパッタリング装置、真空ポンプ、計測機器などの製品から構成されており、これらの開発・製造・販売・保守サービスなどを行っております。 「真空応用事業」は、スパッタリングターゲット材料、分析機器関連などの真空を応用した製品から構成されており、これらの開発・製造・販売・保守サービスなどを行っております。 ２．報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額の算定方法 報告されている事業セグメントの会計処理の方法は、「連結財務諸表作成のための基本となる重要な事項」における記載と概ね同一であります。 報告セグメントの利益は、営業利益ベースの数値であります。 セグメント間の内部収益及び振替高は市場実勢価格に基づいております。 ３．報告セグメントごとの売上高、利益又は損失、資産その他の項目の金額に関する情報並びに収益の分解情報前連結会計年度（自 2023年７月１日 至 2024年６月30日） （単位：百万円） 報告セグメント調整額(注)１連結財務諸表計上額(注)２ 真空機器事業真空応用事業計売上高 一時点で移転される財又はサービス83,95640,899124,855－124,855一定の期間にわたり移転される財又はサービス128,3587,902136,260－136,260顧客との契約から生じる収益212,31448,801261,115－261,115外部顧客への売上高212,31448,801261,115－261,115セグメント間の内部売上高又は振替高6453,7194,364△4,364－計212,95952,520265,480△4,364261,115セグメント利益26,1463,56329,7086229,771セグメント資産319,20966,640385,8483,035388,883その他の項目 減価償却費7,2351,9489,183△29,181有形固定資産及び無形固定資産の増加額19,5801,95821,539－21,539（注）１．調整額は、以下のとおりであります。(1）売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。(2）セグメント資産の調整額は、長期投資資産（投資有価証券）等であります。２．セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。３．顧客との契約から生じる収益以外の収益の額については重要性がないことから、顧客との契約から生じる収益と区分して表示しておりません。 当連結会計年度（自 2024年７月１日 至 2025年６月30日） （単位：百万円） 報告セグメント調整額(注)１連結財務諸表計上額(注)２ 真空機器事業真空応用事業計売上高 一時点で移転される財又はサービス78,46541,628120,093－120,093一定の期間にわたり移転される財又はサービス120,58410,506131,091－131,091顧客との契約から生じる収益199,05052,134251,184－251,184外部顧客への売上高199,05052,134251,184－251,184セグメント間の内部売上高又は振替高6343,1853,820△3,820－計199,68455,319255,003△3,820251,184セグメント利益21,8774,53326,41011326,523セグメント資産309,19064,946374,136927375,062その他の項目 減価償却費8,6372,17910,816△1210,805有形固定資産及び無形固定資産の増加額13,1922,52315,715－15,715（注）１．調整額は、以下のとおりであります。(1）売上高、セグメント利益及び減価償却費の調整額は、セグメント間取引消去額であります。(2）セグメント資産の調整額は、長期投資資産（投資有価証券）等であります。２．セグメント利益は、連結損益計算書の営業利益と調整を行っております。３．顧客との契約から生じる収益以外の収益の額については重要性がないことから、顧客との契約から生じる収益と区分して表示しておりません。 【関連情報】前連結会計年度（自 2023年７月１日 至 2024年６月30日）１．製品及びサービスごとの情報 製品及びサービスの区分が報告セグメントの区分と同一のため、記載を省略しております。 ２．地域ごとの情報(1）売上高（単位：百万円）日本中国韓国台湾その他合計78,79791,15534,93521,81034,418261,115 （注）売上高は顧客の所在地を基礎とし、国又は地域に分類しております。 (2）有形固定資産（単位：百万円）日本韓国その他合計50,51712,89916,32879,745 ３．主要な顧客ごとの情報特定の顧客への売上高で、連結損益計算書の売上高の10％以上を占めるものがないため、記載を省略しております。 当連結会計年度（自 2024年７月１日 至 2025年６月30日）１．製品及びサービスごとの情報 製品及びサービスの区分が報告セグメントの区分と同一のため、記載を省略しております。 ２．地域ごとの情報(1）売上高（単位：百万円）日本中国韓国台湾その他合計78,05486,51831,47228,10927,030251,184 （注）売上高は顧客の所在地を基礎とし、国又は地域に分類しております。 （表示方法の変更） 前連結会計年度において、「その他」に含めていた「台湾」は、連結損益計算書の売上高の総額の10％を超えたため、当連結会計年度より独立掲記することとしております。この表示方法の変更を反映させるため、前連結会計年度の地域ごとの情報の組替えを行っております。 (2）有形固定資産（単位：百万円）日本韓国その他合計50,38911,23815,29376,920 （表示方法の変更） 前連結会計年度において、独立掲記していた「中国」は、金額的重要性が乏しくなったため、当連結会計年度においては「その他」に含めて表示しております。この表示方法の変更を反映させるため、前連結会計年度の地域ごとの情報の組替えを行っております。 ３．主要な顧客ごとの情報特定の顧客への売上高で、連結損益計算書の売上高の10％以上を占めるものがないため、記載を省略しております。 【報告セグメントごとの固定資産の減損損失に関する情報】前連結会計年度（自 2023年７月１日 至 2024年６月30日） （単位：百万円） 真空機器事業真空応用事業合計減損損失－217217 当連結会計年度（自 2024年７月１日 至 2025年６月30日） （単位：百万円） 真空機器事業真空応用事業合計減損損失2,886－2,886 【報告セグメントごとののれんの償却額及び未償却残高に関する情報】前連結会計年度（自 2023年７月１日 至 2024年６月30日）重要性が乏しいため、記載を省略しております。 当連結会計年度（自 2024年７月１日 至 2025年６月30日）重要性が乏しいため、記載を省略しております。 【報告セグメントごとの負ののれん発生益に関する情報】前連結会計年度（自 2023年７月１日 至 2024年６月30日）該当事項はありません。 当連結会計年度（自 2024年７月１日 至 2025年６月30日）該当事項はありません。

２【サステナビリティに関する考え方及び取組】当社グループは、サステナビリティをめぐる課題への対応が、中長期的な企業価値の向上と持続的な成長のために重要であると認識し、経営基本理念に基づきサステナビリティ方針を定め、真空技術及びその周辺技術の総合利用による経済価値、社会価値、環境価値の創造を目指しております。なお、文中の将来に関する事項は、有価証券報告書提出日現在において当社グループが判断したものです。 (1）ガバナンス当社グループは、社長直轄のサステナブル経営推進室を設置し、グループ全体でサステナビリティの取組みを推進しています。年２回開催されるサステナビリティ推進委員会では、社内取締役、社内監査役、関連部門の執行役員及び委員長が指名する部署長が参加し、サステナビリティに関する目標設定・進捗管理、方針の検討、重要テーマへの取組みなどについて討議を行っています。重要案件については、取締役会の決定した経営方針に基づいて重要な業務執行に関する事項について審議を行う機関である経営会議等で適宜報告や決議を実施しています。また、サステナブル経営推進室長は、サステナビリティ推進委員会の内容及びグループ全体のサステナビリティの取組みについて取締役会に報告し、取締役会は業務執行状況を的確に把握し、適切に監督しています。 (2）戦略当社グループでは、2050年にありたい姿「真空技術で世の中のためになる価値をパートナーとともに生み出し、人と地球の未来に貢献し続けている企業」及び“Vision2032”「未来につながる可能性の場であり続ける」の実現に向けた当社グループ固有の経営課題を「マテリアリティ」と定義し、「ステークホルダーにとっての重要度」と「事業への影響度」の２軸で評価し以下の４項目を特定しています。特定したマテリアリティに取組み、経営基盤を強化するとともに、真空技術で社会的価値を創造し人と地球の未来に貢献し続けている企業を目指します。 ①真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進当社グループの中核にある「真空技術及びその周辺技術の総合利用」を基盤に、新中長期経営計画「バリューアッププラン」に掲げる半導体電子分野を中心とした事業ポートフォリオの変革を推進し、AIやデジタル技術を活用した新たな価値創造に挑戦します。具体的には、事業間シナジーを最大限に活用し、半導体電子関連ビジネスの成長加速と新規事業の創出を目指します。また、M&Aを積極的に活用し、事業基盤の強化と高収益体質の実現に取り組みます。さらに、先端技術の研究開発や顧客・パートナーとの共創を深化させるとともに、人財育成、知的財産戦略の強化を通じて、持続的成長の基盤を確立してまいります。 ②多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり（多様性の確保に向けた人財育成方針と社内環境整備方針）当社グループは、世界の半導体メーカー・電子デバイスメーカーやパネルメーカーが集中する日本・中国・韓国・台湾など東アジアを中心に、幅広い顧客基盤、先端研究機関とのネットワーク、開発・営業・カスタマーサポート拠点、製造拠点、サプライヤー網を持っており、グローバルに事業展開する多数のグループ会社から形成されています。「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」という経営基本理念を実践・実現していくためには、当社が企業倫理行動基準の中に定めた「社員の人格・個性の尊重」「人権の尊重とあらゆる差別的取扱の禁止」を遵守し、グローバルに活躍する従業員の個性を尊重し、多様性を受け入れ活かすことが大きな原動力になります。このようなダイバーシティを尊重し、インクルージョンを推進することによりイノベーションを創出し、顧客や社会の課題を解決することで、従業員それぞれの成長につながる新しい価値を生み出し続けることを目指します。このような考えに基づき、変化の激しいビジネス環境を勝ち抜いていく上で、外部環境の変化に強くグローバルに活躍できる人財の育成を強化するため、働きがいのある職場環境や人事諸制度の整備、教育機会の創出に努めます。 ③バリューチェーンにおける人権尊重・責任ある行動「国連グローバル・コンパクト」に署名し、人権・労働・環境・腐敗防止の４分野で企業が遵守すべき普遍的原則である「国連グローバル・コンパクトの10原則」に基づき、各分野における取組みを推進しています。当社グループにおいては、「企業倫理行動基準」を定め、自らの業務が人権を侵害していないかを判断するための指針としています。さらに、国際連合の「ビジネスと人権に関する指導原則」をはじめとする国際規範を踏まえた「ULVAC人権方針」を策定し、事業に反映することで、人権に関する重要な課題を特定し、その取組みを明らかにしています。当該方針に従い、人権デューデリジェンスのプロセスを構築し、企業活動を通じて人権に与えうる影響の認識、防止、対処に向けた取組みを進めています。そして、このプロセスを通じて生じる問題に対する救済メカニズムの充実にも努めています。また、当社グループでは、エレクトロニクス業界を中心としたCSR推進団体であるRBA（Responsible Business Alliance）の行動規範の遵守に努めています。その原則を基に、主要生産拠点での調査を行っており、取引先に対してもこれらの規範の遵守を求めています。 ④持続可能な地球環境への貢献地球環境の保全が重要課題の一つとしてとらえ、環境に配慮したビジネス活動を展開し、気候変動対応や水資源の有効活用など資源循環への取組みを加速し住みよい地球と豊かな社会の発展に貢献していきます。中でも、気候変動の取組みについては、重要な経営課題の一つとして位置付けています。IEA（国際エネルギー機関）等が発表する「世界の平均気温が４℃以上上昇する」「世界の平均気温がパリ協定で合意した２℃未満の上昇に抑えられる（一部1.5℃以内）」のシナリオで、気候変動が中長期的に事業に影響を及ぼすリスク・機会を以下のとおり特定しており、「カーボンプライシング」「台風や豪雨等の異常気象による災害発生による事業継続リスク」「パワーデバイスの市場機会の拡大」「リチウムイオン電池の市場機会の拡大」について、リスクと機会を分析し事業への定量的な影響について評価しました。今後事業への影響の定量化の範囲を拡大するとともに、具体的な施策の検討を更に進めてまいります。 主なリスクカテゴリー要素施策市場顧客の行動変化による事業コストの増加事業活動における再生可能エネルギーの導入や省エネルギー施策の徹底政策及び法規制カーボンプライシング技術既存製品・サービスを排出量の少ないものに置換各分野の技術革新に貢献する製造装置等の製品・サービスの研究開発及び製品の低消費電力化の推進急性・慢性台風や豪雨等の異常気象による災害発生による事業継続リスク自然災害時における事業継続計画の策定、対策の実施 主な機会カテゴリー要素施策製品・サービス低消費電力デバイス、パワーデバイス、リチウムイオン電池に寄与する装置や技術への期待の高まり、低消費電力型製品へのニーズの拡大各分野の技術革新に貢献する製造装置等の製品・サービスの研究開発及び製品の低消費電力化の推進 責任ある社会の一員として積極的に取組んでいくため、当社グループは事業活動における中長期の温室効果ガス排出量削減目標として、2030年に50％削減（2023年比、Scope1、2）、2050年には実質ゼロを定め、国内外における省エネルギーに対する取組み努力、太陽光発電設備の設置、再生可能エネルギーの導入を積極的に推進するとともに、環境配慮型製品の開発等あらゆる活動を通じて温室効果ガス排出量抑制に努め、気候変動対策に取組んでまいります。 (3）リスク管理経営に重大なダメージを与える全てのリスクについては経営企画室を所管部署として定め、当該リスクの特定とその対策の立案を社内関係部署やグループ会社に指示しています。これにより、リスクの識別と全社的な対応の推進を行い、結果をリスクマネジメント委員会に報告しています。同委員会では、これらのリスクの詳細な洗い出しや特定、さらには事業報告や改善策の検討を行い、モニタリングを通じて早期検出や報告、対処を実施しています。また、中長期的なサステナビリティリスクについてはサステナブル経営推進室を所管部署として定め、サステナビリティに関連するリスクの特定を社内関係部署やグループ会社に指示し、その結果をサステナビリティ推進委員会に報告しています。同委員会では中長期的なリスクに対する取組みの進捗を管理しています。最終的に、取締役会はこれらの委員会からの報告を受け、リスクの管理状況を監督しています。当社グループは、これらの体制を通じて、経営の安定と持続可能な成長を目指します。 機関・組織機能・役割取締役会リスクの管理状況について、サステナビリティ推進委員会及びリスクマネジメント委員会より報告を受け、監督サステナビリティ推進委員会中長期的なサステナビリティリスクの重要性評価をマテリアリティ特定・見直しのプロセスにおいて実施、取組み進捗を管理リスクマネジメント委員会経営に重大なダメージを与える全てのリスクの洗い出し、特定、事業報告及び改善策の検討、モニタリングによる予兆・早期検出・報告・対処を実施サステナブル経営推進室社内の関係部署及びグループ会社にサステナビリティに係るリスクの特定を指示、リスクを識別し全社的な対応を推進、サステナビリティ推進委員会へ報告経営企画室社内の関係部署及びグループ会社に経営に重大なダメージを与えるリスクの特定と対策立案を指示、リスクを識別し全社的な対応を推進、リスクマネジメント委員会へ報告なお、重大なリスクの詳細については、「３ 事業等のリスク」に記載のとおりであります。 (4）指標及び目標中長期的な企業価値向上及び持続的な成長において、財務のみならず非財務における指標の達成は重要であり、今後も当社グループ全体で活動してまいります。当社グループのサステナビリティに関する主な指標及び目標は次のとおりであります。 ・環境に関する主な指標指標目標温室効果ガス排出量2030年の温室効果ガス排出量を2023年比50％削減（Scope1、2）2050年の温室効果ガス排出量実質ゼロ GHG排出量の削減実績の詳細な情報については、下記の当社ウェブサイトにおいて公開している環境データをご参照ください。https://www.ulvac.co.jp/sustainability/environment/edata/index.html 人財育成及び社内環境整備に関する方針については、「（2）戦略 ②多様な人財の育成と活躍推進・レジリエントな組織づくり」に記載のとおりであります。 ・人的資本に関する主な指標指標目標実績女性管理職比率2026年６月までにグループ全体で10％以上10.9％（2025年６月期） 「サステナビリティに関する考え方及び取組」に関する詳細な情報については、下記の当社ウェブサイトにおいて公開しているULVAC VALUE REPORTをご参照ください。2025年版については2026年２月に公開予定です。https://www.ulvac.co.jp/sustainability/index.html

（１）【コーポレート・ガバナンスの概要】①コーポレート・ガバナンスに関する基本的な考え方当社は、「アルバックグループは、互いに協力・連携し、真空技術及びその周辺技術を総合利用することにより、産業と科学の発展に貢献することを目指す」との経営基本理念のもと、企業価値を中長期的に向上させるため、コーポレート・ガバナンスの充実に努めております。このような観点から、当社は、株主のみならず、取引関係者、地域社会、従業員その他当社事業活動に関連する様々なステークホルダーの利益を尊重するとともに、企業倫理及び法令遵守を徹底させつつ競争力のある効率的な経営を行うことを重視しております。 ②企業統治の体制の概要及びその体制を採用する理由当社は、経営体制として、監査役会設置会社を採用しており、特に重要な機関として、取締役会、経営会議、監査役会、指名報酬等委員会などを設置しております。まず、経営上重要な事項についての意思決定を行う機関として、取締役会を設置し、毎月１回の定時開催に加え、機動性確保の観点から必要に応じて臨時開催を行っております。取締役会は７名で構成されており、うち４名を社外取締役とし、４名とも独立社外取締役として指定しております。このような体制により、経営上重要な事項についての迅速で効率的な判断とともに、公正中立で透明性の高い審議の実現及び業務執行の監督を実現しております。次に、執行役員制度を導入し、各執行役員が取締役会からの委任に基づき、各担当業務について一定の責任と権限を付与される形で業務執行に従事しております。また、社内取締役及び執行役員の計16名より構成される経営会議を設置しています。経営会議は、毎月１回の定時開催を行うとともに必要に応じて臨時開催を行っております。このような体制により、各業務執行役員の責任と権限の明確化のもと、変化の激しい事業環境に適応したより柔軟で迅速な業務執行を実現しております。更に、経営判断及び業務執行の監査・監督機関として監査役会を設置しております。監査役会は、４名から構成されており、うち２名を社外監査役とし、２名とも独立社外監査役として指定しております。また、監査役と独立性を保障された監査室や会計監査人との緊密な連携、取締役会や経営会議をはじめとする重要な会議への監査役の出席と意見陳述、代表取締役との定例会議などにより、監査・監督機能の実効性を確保しています。このような体制により、各監査役が十分な情報を取得しつつ、厳正かつ公正中立で透明性が確保された監査・監督機能の発揮を実現しております。加えて、取締役及び執行役員の指名、報酬等、特に客観的な判断が要求される重要事項についての議論を行う指名報酬等委員会を設置しております。指名報酬等委員会は、７名から構成されており、うち６名が独立社外取締役及び独立社外監査役、１名は代表取締役社長とし、委員長は社外取締役としております。このような取締役会の諮問機関を設置する体制により、経営上特に重要な事項についてより公正中立で透明性が高い審議を実現し、取締役会の実効性を高めております。監査役会設置会社として、取締役会による監督機能と、監査役による監査機能の双方を機能させることが、実効性と透明性の高いコーポレート・ガバナンス体制の構築や強化に最適であると判断しております。 当社のコーポレート・ガバナンス体制の模式図は、次のとおりです。 また、取締役会、監査役会、経営会議、指名報酬等委員会の構成員は次のとおりです。◎印は議長又は委員長、※印はオブザーバーをそれぞれ表示しております。役職名氏名取締役会監査役会経営会議（注）指名報酬等委員会代表取締役社長 CEO岩下 節生◎ ◎〇専務取締役 CFO青木 貞男〇 〇 専務取締役 CSO島田 鉄也〇 〇 社外取締役西 啓介〇 〇社外取締役内田 憲男〇 〇社外取締役石田 耕三〇 〇社外取締役中島 好美〇 ◎常勤監査役森尻 裕二※◎※ 常勤監査役齋藤 一也※〇※ 社外監査役宇都宮 功※〇 〇社外監査役本田 宗哉※〇 〇（注）経営会議は、上記以外に執行役員が構成員であります。執行役員の詳細につきましては、「（２）役員の状況 ① 役員一覧（注）７」をご参照ください。③コーポレート・ガバナンスに関する内部統制等の状況（内部統制システム及びリスク管理体制の整備の状況）当社は、複雑多様化するリスク要因に対して適切な対応をとることが、各種法令の要請の充足や内部統制体制の確立といったガバナンス体制の構築、ひいては中長期的企業価値の向上に繋がるものと考えております。そこで、各リスク要因に対し、識別・分類・分析・評価を通じて適切な対応ができる体制の拡充を図っており、これを経営戦略に反映させることでより一層の企業価値向上に努めております。当社におけるリスクマネジメントの取組みとしては、リスクマネジメント体制の構築と運用がその一つとしてあげられます。当該体制については、まず関連諸規定を制定し、広範なリスクを多岐に渡る視点から大分類し、それぞれの分類されたリスク毎に主管部署を設置しております。更に、この主管部署がより具体的なリスクを洗い出し、対応をすることとしております。このリスクマネジメント体制の運用においては、特に、重要な情報が効率よく主管部署に集約されるように努めております。加えて、全社的にこのリスクマネジメント体制の運用についての情報の共有化と検証を図るため、社長を委員長とし、各主管部署を中心として構成されるリスクマネジメント委員会を設置しております。このリスクマネジメント委員会は、リスクマネジメント統括組織として定時開催され、全社的な基本方針決定や管理運営状況の把握と改善等の検討を行っております。また、当社におけるかかる取組みを、当社グループ会社においても導入しております。なお、リスクマネジメントの根幹を形成するコンプライアンス体制については、役員及び社員の職務の執行が法令及び社内諸規定に適合することを確保し、企業としての社会的責任を果たすことを啓蒙するため、18項目からなる企業倫理行動基準を定め、教育とともに小冊子の配付を行っております。また、コンプライアンス委員会を設置し、内部通報制度及び外部通報制度を拡充するとともに、監査室による内部監査、そして違背事例の根源的な問題解決に努めております。 （業務の適正を確保するための体制整備の状況）a.業務の適正を確保するための体制についての決定内容の概要当社は、業務の適正を確保するための体制について取締役会において決議しております。その内容は、以下のとおりであります。イ．取締役及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保するための体制当社の取締役及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保し、企業としての社会的責任を果たすべく、反社会的勢力との関係排除をはじめとする遵法意識の啓蒙をうたう企業倫理行動基準を定め、同基準に関する教育及び小冊子の配付を行うことによりこれを周知徹底する。また、コンプライアンス委員会を設置し、通報者が通報を行ったことを理由として不利な取扱いを受けないことの保障も含むコンプライアンス通報制度その他のコンプライアンス関連規定を整備した上でその活動を行う。加えて、独立性が保障された監査室を設置し、金融商品取引法上の内部統制の評価を行うとともに、当社監査役と連携して業務の有効性や適切性の監査を行う。 ロ．取締役の職務の執行に係る情報の保存及び管理に関する体制当社取締役の職務執行に係る情報に関しては、情報管理に関する規定を整備・拡充し、各種重要会議の議事録その他文書の作成、閲覧、保存及び廃棄について適切な管理方法をとる。 ハ．損失の危険の管理に関する規程その他の体制当社における各部署の担当業務を明確に定め、各部署の部署長の責任と権限を明確化する。その上で、対象事案の性質や影響度に応じて、対象事業遂行の主たる所管部署のみならず、関連する部署も加えた綿密な審議検討を行った後、当社各種規程に則って当社取締役へ報告を行い、当該取締役が判断を行う体制をとることで、当社の企業活動遂行における損失の危険の管理を行う。これに加え、リスク管理に関する当社規程の整備・拡充により、リスクを分類の上、それぞれのリスクについての主たる管理を行う部署を定め、各部署長を責任者とする管理体制をとる。 ニ．取締役の職務の執行が効率的に行われることを確保するための体制事業計画を定めて当社全体の目標を明確化する。その上で、各部署の部署長が部署ごとの業績目標を作成し、この実績を当社各種規則に則って当社取締役がこれを評価することで業績への責任を明確にする。また、各部署の部署長の責任と権限を明確化することで意思決定プロセスを迅速化しつつ、重要事項については当社取締役を含めた合議をはかるという体制をとることによって、迅速さと慎重さを兼ね備えた臨機応変な意思決定を目指す。さらに、当該重要事項に関する当社会議への当社監査役の出席や情報の取得の機会を保障することで、適切な判断を担保する。 ホ．当社及びその子会社からなる企業集団における業務の適正を確保するための体制当社は、企業集団全体の企業価値の維持及び向上を重視する。そして、これらの実現のため、子会社ごとの自主性と独立性を尊重しつつも子会社それぞれの所在国、事業内容、事業規模などの諸般の状況を総合考慮して適切に当社が指示及び管理を実施することが最適との認識のもと、子会社の管理として最適と判断される方法を選択して実行するという責務を担う部門として経営企画室をその任にあてる。かかる方針に基づき、事業計画については、まず、当社にて当社企業集団全体の目標を明確化し、当該目標を考慮して各子会社が事業計画を策定する体制をとっている。また、企業価値の維持及び向上のため、各子会社においてコンプライアンスの啓蒙、コンプライアンス体制の構築及び運用を講じることとしている。また、各子会社の取締役及びこれに相当する者の職務の執行に係る当社への報告については、子会社も参加する当社の重要会議、事業計画の策定過程や実績報告における協議や確認、及び各子会社において実施される重要会議に関する報告など多種多様な機会を利用するよう努める。次に、各子会社の損失の危険の管理及び各子会社の取締役などの職務の執行の効率をはかるという観点からは、各子会社にリスク管理に関する規定や体制の構築及び運用を実現するよう努める。さらに、当該規定や体制の構築のみならず、実際に重大な損失の発生もしくは発生のおそれが生じた際に、当社がこの事実を速やかに把握できるよう、当社からの取締役や監査役の派遣、複数子会社が参加する重要会議の運営、事業計画の策定の補助と実績評価及び計画と実績の差異の照会などによって、対象子会社の管理として最適と判断される方法と密度を選択し、これを実行する。そして、子会社の取締役、取締役に相当する地位にある者及び使用人の職務の執行が法令及び定款に適合することを確保するための体制として、当社が策定した企業倫理行動基準を子会社各社に配付してコンプライアンス意識の啓蒙に努めるとともに、当社コンプライアンス委員会への内部通報の機会も保障し、通報に対する対処も適切に行うこととする。なお、これらに加えて、当社監査役や当社監査室が、各種諸法令に従い、監査業務遂行上最適と判断される方法で子会社各社の監査活動を行い、業務の適正を確保できるよう努める。 ヘ．監査役がその職務を補助すべき使用人を置くことを求めた場合における当該使用人に関する事項、並びに当該使用人の取締役からの独立性及び監査役の当該使用人に対する指示の実効性の確保に関する事項当社監査役がその職務を補助すべき使用人の当社における設置を当社に要請した場合、当社取締役はこれを応諾し、必要な協力を行う。そして、当該監査役の職務を補助すべき使用人の人事異動、人事評価、懲戒に関しては、当社監査役会の事前の同意を得る。また、当社監査役は、必要に応じ、最適と思われる部署に所属する使用人に対して監査業務に必要な事項を指示できるものとし、当社は当該指示を受けた使用人が当該指示に従って対応することを認める。 ト．取締役及び使用人が監査役に報告をするための体制、子会社の取締役、監査役及び使用人またはこれらの者から報告を受けた者が監査役に報告するための体制並びにこれらの報告をした者が当該報告をしたことを理由として不利な取扱いを受けないことを確保するための体制当社取締役及び使用人は、当社及び子会社に重大な損失を与える事項の発生又は発生のおそれがあることを覚知した場合、あるいは当社及び子会社の取締役、取締役に相当する地位にある者及び使用人による違法又は不正な行為の発生を覚知した場合には、諸法令及び社内規定に従ってこれを当社監査役に報告する。特にリスク管理体制については、各リスク管理部門が、諸法令及び社内規定に従い、責任をもって定期及び臨時にこれを当社監査役に報告する。また、当社は、当社監査役に対しこれらの重要事項に関する当社会議への出席並びに情報の取得及び意見を述べる機会を付与することを保障する。加えて、当社監査役にこれらの報告を行った者は、当該報告を行ったことを理由として不利な取扱いを受けないことも保障する。 チ．監査役の職務の執行について生ずる費用の前払いまたは償還の手続きその他の当該職務の執行について生ずる費用または債務の処理に係る方針に関する事項当社監査役が、その監査業務遂行のために必要となる費用の負担に関する要求を当社に行った場合、当社は、当該要求内容が当該監査役の監査業務遂行のために必要なものではないと合理的に認められる場合を除き、速やかにこれを負担するための措置を講ずる。 リ．その他監査役の監査が実効的に行われることを確保するための体制当社は、当社監査役に対し、監査のために必要となる会議への出席及び情報の取得の機会を保障する。その上で、当社監査役は、当社社外監査役の知見も得ながら、会計監査人や当社監査室と連携して監査業務を遂行する。また、当社監査役は、当社取締役とも定期的な意見交換を行うことで監査役監査に関する啓蒙を行うと同時に監査の充実及び監査環境の整備に繋げ、実効的かつ機動的な監査を実現するよう努める。b.業務の適正を確保するための体制の運用状況の概要業務の適正を確保するための体制の運用状況の概要は、以下のとおりであります。イ．

（４）【役員の報酬等】①役員の報酬等の額又はその算定方法の決定に関する方針に係る事項当社の各取締役の報酬の決定方針としては、各取締役の当社単体の単年度の業績に対する職責のみならず、当社グループの企業価値の持続的な向上に対する職責を考慮するとともに、それぞれの職責に応じた寄与度も適切に反映するべく、複数の報酬要素を組み合わせて評価することとしており、各取締役の報酬が客観的に適正な水準となるようにしています。取締役の報酬等の決定に際しては、社外取締役、社外監査役及び取締役会議長から構成される、経営の透明性、公正性、報酬等の妥当性を確保するために設置している指名報酬等委員会において、当社と同等の事業規模、業種などの他社における報酬水準の分析を行った上で、取締役の職責や寄与度を多角的に評価検証し、取締役の報酬等が適正な水準になるよう検討しています。指名報酬等委員会での答申を踏まえ、取締役会において、株主総会で決議（※）した取締役の報酬等の総額の範囲内で、取締役の報酬等を決定しています。監査役の報酬は、基本報酬のみであり、株主総会で決議した監査役全員の報酬等の総額の範囲内で、監査役会の協議によって決定しております。取締役の個人別の報酬等は、上述のように、その報酬基準や社内取締役の個々の評価について、指名報酬等委員会が、取締役会より諮問される原案を、当社取締役の個人別の報酬等の内容に係る決定方針に照らして総合的に検証及び検討した上で取締役会に答申しており、取締役会がその答申内容を尊重して決定していることから、決定方針に沿うものであると判断しております。（※） 取締役の報酬限度は、2021年９月29日開催の第117回定時株主総会において、年額500百万円以内（うち社外取締役分90百万円以内）と決議しており、当該株主総会終結時の取締役の員数は、７名（うち社外取締役４名）です。監査役の報酬限度額は、2006年９月28日開催の第102回定時株主総会において、年額100百万円以内と決議しており、当該株主総会終結時の監査役の員数は、５名（うち社外監査役３名）です。また、上記取締役の報酬限度額とは別枠で（社外取締役を除く）、2016年９月29日開催の第112回定時株主総会において株式給付信託（BBT）の導入について決議され、2025年９月26日開催の第121回定時株主総会において、当社が信託に拠出する金銭について金額の上限を設けないことを決議されております。つきましては、「１ 株式等の状況（８）役員・従業員株式所有制度の内容」をご参照ください。当該株主総会終結時の取締役（社外取締役を除く）の員数は、３名です。なお、役員退職慰労金制度については、2006年９月28日開催の第102回定時株主総会において廃止が決議されております。社内取締役の報酬等については、役位毎の報酬基準に従って毎月定額で支給される固定報酬としての基本報酬、当該事業年度の経営成績等に連動する年次業績連動報酬及び年次業績目標の達成度に応じた業績連動型の株式報酬制度である株式給付信託による株式報酬等で構成されています。また、年次の業績連動報酬に反映される取締役の個人評価を実施し、同評価についても指名報酬等委員会に諮問の上、決定しております。当事業年度における年次業績連動報酬に反映される取締役の個人評価については、2025年９月８日開催の指名報酬等委員会で決定しております。社外取締役については固定報酬としての基本報酬のみで構成されております。なお、取締役の報酬等を構成する基本報酬、年次業績連動報酬、株式報酬等の報酬割合については、それぞれの報酬を評価する体制をとっていることから、設定していません。 ②業績連動報酬に係る指標の目標及び実績業績連動報酬については、業績及び企業価値向上と適切に連動させるため、単体営業利益率等の実績及び連結営業利益の業績目標の達成度を指標として採用しております。イ．年次業績連動報酬毎事業年度の業績向上に努める意識を高めることを主な目的として、単体営業利益率等の実績を算定指標として各取締役の寄与度や職責達成度の評価を加味して決定しております。当事業年度における算定指標の実績は、単体営業利益率4.9％等であります。ロ．株式報酬当社グループの中長期的な業績と企業価値増大に貢献する意識を高めることを主な目的として、中期経営計画における一事業年度の連結営業利益額の業績目標に対する実績の達成度を算定指標として役位毎に設定される基準に基づいております。当事業年度における算定指標の実績は、129.4％であります（連結営業利益額の目標23,000百万円、実績29,771百万円）。 ③役員区分ごとの報酬等の総額、報酬等の種類別の総額及び対象となる役員の員数役員区分報酬等の総額（百万円）報酬等の種類別の総額（百万円）対象となる役員の員数（人）基本報酬業績連動報酬（賞与）非金銭報酬等（株式報酬）取締役（社外取締役を除く。）22412382193監査役（社外監査役を除く。）6060－－2社外役員101101－－6（注）１．当事業年度末現在の取締役は６名（うち社外取締役は４名）、監査役は４名（うち社外監査役は２名）であります。２．取締役の人員及び報酬の額につきましては、2024年９月27日付で退任いたしました取締役１名を含めております。３．非金銭報酬等（株式報酬）には、株式給付信託（BBT）制度による当年度の費用計上額であります。 ④報酬等の総額が１億円以上である者の報酬等の総額等氏名報酬等の総額（百万円）役員区分会社区分報酬等の種類別の総額（百万円）基本報酬業績連動報酬（賞与）非金銭報酬等（株式報酬）岩下 節生114取締役提出会社643713（注）連結子会社の役員としての報酬はありません。 ⑤使用人兼務役員の使用人分給与のうち重要なもの重要なものはありません。

５【従業員の状況】(1)連結会社の状況 （2025年６月30日現在）セグメントの名称従業員数（名）真空機器事業4,505真空応用事業936全社（共通）691合計6,132 （注）１．従業員数は、当社グループから当社グループ外への出向者を除き、当社グループ外から当社グループへの出向者を含む就業人員であります。２．全社（共通）として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (2)提出会社の状況 （2025年６月30日現在）従業員数（名）平均年齢（歳）平均勤続年数（年）平均年間給与（円）1,64844.617.58,881,993 セグメントの名称従業員数（名）真空機器事業1,329真空応用事業156全社（共通）163合計1,648 （注）１．従業員数は、当社から他社への出向者を除き、他社から当社への出向者を含む就業人員であります。２．平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。３．全社（共通）として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。 (3)労働組合の状況当社グループの労働組合は、主としてアルバック労働組合であります。なお、労使関係については良好であり、特記すべき事項はありません。 (4)管理職に占める女性労働者の割合、男性労働者の育児休暇取得率及び労働者の男女の賃金の差異①提出会社当事業年度管理職に占める女性労働者の割合（％） （注）１男性労働者の育児休業取得率（％） （注）２労働者の男女の賃金の差異（％）（注）３全労働者正規雇用労働者パート・有期労働者5.569.663.183.056.2 （注）１．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（2015年法律第64号）の規定に基づき2025年６月30日を基準に算出したものであります。２．「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」（1991年法律第76号）の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」（1991年労働省令第25号）第71条の６第１号における育児休業等と育児目的休暇の取得割合を2024年７月１日から2025年６月30日の期間で算出したものであります。３．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（2015年法律第64号）の規定に基づき算出したものであります。なお、制度上の賃金格差は無く、主に上位職層における女性比率が低いことによるものであります。 ②連結子会社当事業年度名称管理職に占める女性労働者の割合（％） （注）１男性労働者の育児休業取得率 （％） （注）２労働者の男女の賃金の差異（％）（注）３全労働者正規雇用労働者パート・有期労働者アルバックテクノ株式会社1.542.955.673.10.0アルバック機工株式会社0.066.7－－－アルバック販売株式会社9.150.0－－－アルバック・クライオ株式会社21.4100.0－－－アルバック・ファイ株式会社7.7100.0－－－アルバック成膜株式会社0.00.0－－－タイゴールド株式会社0.00.0－－－ （注）１．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（2015年法律第64号）の規定に基づき常時雇用する労働者が101名以上の国内子会社を対象に、2025年６月30日を基準に算出したものであります。２．「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律」（1991年法律第76号）の規定に基づき、「育児休業、介護休業等育児又は家族介護を行う労働者の福祉に関する法律施行規則」（1991年労働省令第25号）第71条の６第１号における育児休業等と育児目的休暇の取得割合を算出したものであります。なお、常時雇用する労働者が101名以上の国内子会社を対象に、2024年７月１日から2025年６月30日の期間で集計した数値を記載しております。また、「0.0」は取得対象者のうち、実際に取得した労働者が無いことを示しています。３．「女性の職業生活における活躍の推進に関する法律」（2015年法律第64号）の規定に基づき常時雇用する労働者が301名以上の国内子会社を対象に算出しております。なお、制度上の賃金格差は無く、主に上位職層における女性比率が低いことによるものです。また、「－」は、常時雇用する労働者が300人以下の国内子会社であり、情報公表の対象外としております。

４【関係会社の状況】会社名住所資本金又は出資金主要な事業議決権の所有割合（％）関係内容営業上の取引役員の兼任等資金援助設備の賃貸借(連結子会社) アルバックテクノ㈱神奈川県茅ヶ崎市百万円125真空機器事業100.0当社製品の販売・カスタマーサポートありありありアルバック機工㈱（注）５宮崎県西都市百万円280真空機器事業100.0同社製品の仕入ありありありアルバック販売㈱（注）５東京都港区百万円90真空機器事業真空応用事業100.0(33.0)当社製品の販売ありなしありULVAC Technologies,Inc.（注）５米国マサチューセッツ州千US$17,580真空機器事業100.0当社製品の販売ありなしなしULVAC KOREA,Ltd.（注）５韓国平澤市千WON8,144,460真空機器事業100.0(17.5)当社製品の製造・販売・カスタマーサポートありありなしULVAC TAIWAN INC.台湾新竹市千NT$498,000真空機器事業100.0(10.0)当社製品の製造・販売・カスタマーサポートありなしなしアルバック・クライオ㈱（注）３神奈川県茅ヶ崎市百万円50真空機器事業50.0同社製品の仕入ありありありアルバック・ファイ㈱神奈川県茅ヶ崎市百万円100真空応用事業100.0当社からの製品の仕入ありありありULVAC SINGAPORE PTE LTDシンガポール千SG$8,300真空機器事業92.8(37.8)当社製品の販売・カスタマーサポートありなしなし愛発科真空技術(蘇州)有限公司（注）５中国蘇州市千RMB246,521真空機器事業100.0(69.4)当社が販売する真空装置の製造委託等ありなしなし愛発科東方真空(成都)有限公司中国成都市千RMB85,009真空機器事業74.7(30.6)当社製品の製造・販売ありなしなし愛発科東方検測技術(成都)有限公司中国成都市千RMB100,000真空機器事業74.7(74.7)同社製品の仕入ありなしなし愛発科自動化科技(上海)有限公司中国上海市千RMB25,817真空応用事業57.5(45.0)同社製品の仕入なしなしなし愛発科天馬電機(靖江)有限公司中国靖江市千RMB24,830真空機器事業60.0(20.0)同社製品の仕入ありなしなし愛発科真空技術(沈陽)有限公司中国沈陽市千RMB129,319真空機器事業100.0(67.1)当社製品の製造・販売ありなしなしPhysical Electronics USA,Inc.米国ミネソタ州US$1,000真空応用事業100.0(100.0)－ありなしなしULVAC MALAYSIA SDN.BHD.マレーシア千RM25,000真空機器事業96.0(59.0)当社製品の販売・カスタマーサポートありありなし愛発科(中国)投資有限公司（注）５中国上海市千RMB573,000真空応用事業100.0中国事業の管理業務の委託ありなしなしタイゴールド㈱神奈川県茅ヶ崎市百万円99真空応用事業100.0同社製品の仕入ありなしありPure Surface Technology,Ltd.（注）５韓国平澤市千WON26,794,990真空機器事業真空応用事業100.0(56.2)当社からの製品の仕入ありありなしULVAC CRYOGENICS KOREAINCORPORATED（注）３韓国平澤市千WON6,145,000真空機器事業50.0(50.0)当社からの製品の仕入ありなしなし 会社名住所資本金又は出資金主要な事業議決権の所有割合（％）関係内容営業上の取引役員の兼任等資金援助設備の賃貸借ULTRA CLEAN PRECISIONTECHNOLOGIES CORP.台湾台南市千NT$341,000真空機器事業100.0(100.0)当社からの製品の仕入ありなしなしアルバック成膜㈱埼玉県秩父市百万円100真空応用事業65.0当社からの製品の仕入ありありなしULCOAT TAIWAN,Inc.台湾台南市千NT$512,000真空応用事業65.0(65.0)当社からの製品の仕入ありなしなし愛発科商貿(上海)有限公司中国上海市千RMB15,940真空機器事業真空応用事業100.0(100.0)当社製品の販売・カスタマーサポートありなしなし愛発科真空設備(上海)有限公司中国上海市千RMB5,000真空機器事業100.0(100.0)当社製品の販売ありなしなし愛発科電子材料(蘇州)有限公司（注）５中国蘇州市千RMB165,251真空応用事業100.0(77.9)当社製品の製造・販売ありなしなし愛発科成膜技術(合肥)有限公司中国合肥市千RMB80,267真空応用事業67.7(67.7)当社からの製品の仕入ありなしなし愛発科費恩斯(南京)儀器有限公司中国南京市千RMB1,500真空応用事業100.0(100.0)－ありなしなし(持分法適用関連会社) ㈱昭和真空（注）４相模原市中央区百万円2,177真空機器事業21.6当社からの製品の仕入ありなしなしULVAC AUTOMATION TAIWAN Inc.台湾新北市千NT$80,000真空応用事業40.0同社製品の仕入ありなしなし寧波愛発科真空技術有限公司中国寧波市千RMB192,493真空機器事業49.0当社からの製品の仕入ありなしなし （注）１．「主要な事業」欄には、セグメントの名称を記載しております。２．「議決権の所有割合」欄の（ ）内数字は、間接所有割合で内数であります。３．持分は50％以下でありますが、実質的に支配しているため子会社としております。４．有価証券報告書を提出している会社であります。５．特定子会社に該当しております。

３【配当政策】 当社は株主の皆様への利益配分を最も重要な政策の一つと認識しております。一方で、当社は設備投資動向の変動・技術革新の著しい業界にあり、成長領域への十分な研究開発投資資金を確保し安定的財務基盤を構築することも勘案した結果、株主の皆様への利益還元につきましては、連結配当性向35％以上を目途とした業績連動型配当を実施する方針としております。 当社は、期末配当による年１回の剰余金の配当を行うことを基本方針としております。この剰余金の配当の決定機関は株主総会であります。 当期（2025年６月期）の配当につきましては、上記の方針に基づき、１株につき164円と決定いたしました。 （注）基準日が当事業年度に属する剰余金の配当は、以下のとおりであります。決議年月日株式の種類配当金の総額（百万円）１株当たり配当額（円）2025年９月26日定時株主総会普通株式8,094164

６【研究開発活動】当社グループは、真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進を経営の重要な柱に位置付けるとともに、持続可能な社会の実現に向けた技術開発を進めております。気候変動や環境問題などといった社会課題に対応するためには、半導体や高機能な電子デバイスが貢献すると認識しており、当社グループの持つ真空薄膜形成技術がこれらのデバイスを製造するための核心技術となっております。当連結会計年度においては、先端デバイス及び材料、エネルギー・環境、ヘルスケア領域に注力した研究開発活動を以下のとおり実施しております。当社グループの開発体制は、グローバルに展開する各開発拠点において顧客密着型の開発を実施し、競合他社に先駆けた独創的な新技術の開発、積極的な応用技術の開発を行っております。真空技術をコアとした製品のうち、主力である半導体、電子部品などの真空薄膜製造用スパッタリング装置に加え、装置を支えるソリューションやソフトの基盤技術、スパッタリングターゲット材料の開発などシナジー効果を生かした開発を重点的に行っております。さらに、顧客の近くで製品・技術開発を加速し、コラボレーションと技術サポートを強化するため、韓国平澤市に設立したTechnology Center PYEONGTAEKの開所式を開催し、パートナー企業・地元自治体の方々をお招きしました。「真空技術をコアとしたイノベーションの創出・共創の推進」として、大阪大学においては産業科学研究所と大学院工学研究科が開催する第６回産・工定例記者発表にて、大学院工学研究科と共にアルバック未来技術協働研究所を開設している当社から、医工学分野の未来技術や、なぜ産学共創、博士人材育成に取り組むのか等、企業視点での産学共創について発表しました。東京科学大学においては、当社と共同で開発を行っているチップレット集積技術に関して、世界最大規模の半導体実装国際学会「The 2025 IEEE 75th Electronic Components and Technology Conference」にて最新のプラズマエッチング技術を複数発表しました。また、当社が1990年代に製作した「パルスレーザーデポジション（PLD）酸化物薄膜作製装置」が、独立行政法人国立科学博物館の「重要科学技術史資料（未来技術遺産）」（*）に登録されました。 （*）日本の科学技術史資料のうち、「科学技術の発達上重要な成果を示し、次世代に継承していく上で重要な意義を持つもの」や「国民生活、経済、社会、文化の在り方に顕著な影響を与えたもの」に該当する資料を選定し登録するものです。2008年より実施されております。 当連結会計年度における研究開発費の総額は13,991百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。 （真空機器事業）当社の事業の柱である、半導体や高機能電子デバイス、FPDなどの電子デバイス製造装置の各分野に開発投資を行い、新商品や新技術を創出し、高度なお客様のご要求にお応えしております。また、真空ポンプや真空計測機器等各種のコンポーネント分野へも開発投資を行い、真空装置と機器を合わせて開発するシナジー効果を発揮しております。当セグメントに係る研究開発費は12,698百万円となり、代表的な成果は次のとおりであります。 （１）半導体及び電子部品など真空薄膜製造装置半導体製造装置においては、最先端ロジック分野におけるメタルハードマスク工程の実績をもとに他工程参入を実現するための装置及び成膜プロセス性能向上の開発を行っております。また、メモリ分野においても微細化、高積層化の進むDRAM及び３次元NANDフラッシュメモリでの他工程参入を目指した装置及び成膜プロセス開発も進めております。新モデル「ENTRON-EXX」の受注受付を開始しました。本装置は、高度化・複雑化する半導体製造工程のニーズに対応するためデータ収集・解析能力が強化されており、加えて拡張性に優れた装置設計を採用して工場スペースの効率を最大化することが可能であります。電子部品製造装置においては、パワーデバイス、通信デバイス、オプトデバイス、電子部品（MEMS等）及びパッケージングの製造に適した装置及びプロセス開発を行っております。ディスプレイ製造装置においては、有機ELディスプレイの大型化と高精細化に向け、歩留まり改善のための低発塵機構や新ユニットの開発を行っております。 （２）コンポーネント真空装置を構成する主要な機器として、真空ポンプや真空計測機器の他、直流（DC）電源、真空搬送ロボット、真空バルブ等の開発を行っております。さらに、主に有機ELディスプレイ製造装置に搭載されるクライオポンプ、量子コンピュータや医療関連に使用する極低温冷凍機の開発も進めており、次世代半導体やヘルスケア分野などの幅広い分野に真空機器が貢献しております。 （真空応用事業）スパッタリングターゲット材料をはじめとする先端材料、表面分析装置やマスクブランクスの開発を行っており、当セグメントに係る研究開発費は1,294百万円となりました。主に、半導体及び電子部品などの高性能化に貢献するスパッタリングターゲット材料等の先端材料、先進的な表面分析装置の開発を行っております。また、半導体やFPDのリソグラフィ工程の重要部材であるマスクブランクスなどの開発を行っております。

２【主要な設備の状況】(1）提出会社（2025年６月30日現在） 事業所名（所在地）セグメントの名称設備の内容帳簿価額（百万円）従業員数(名)建物及び構築物機械装置及び運搬具土地(面積千㎡)リース資産その他合計本社工場(神奈川県茅ヶ崎市)真空機器事業全社管理業務研究開発業務ディスプレイ・エネルギー関連製造装置電子部品製造装置一般産業用装置コンポーネント上記に関わる設備6,2477,3641,210(53)16234615,329903富士裾野工場(静岡県裾野市)半導体製造装置研究開発業務上記に関わる設備8619,3253,028(106)015313,366212千葉富里工場(千葉県富里市)研究開発業務に関わる設備712601363(25)－511,72819東北工場(青森県八戸市)ディスプレイ・エネルギー関連製造装置電子部品製造装置上記に関わる設備93439414(83)6411,435184九州工場(鹿児島県霧島市)ディスプレイ・エネルギー関連製造装置半導体製造装置電子部品製造装置上記に関わる設備1,54412213(96)5251,800157千葉富里工場(千葉県富里市)真空応用事業ターゲット製造設備41325258(18)－069518東北工場(青森県八戸市)477538190(38)－171,22261九州工場(鹿児島県霧島市)940764102(46)－201,82564 (2）国内子会社（2025年６月30日現在） 会社名事業所名（所在地）セグメントの名称設備の内容帳簿価額（百万円）従業員数(名)建物及び構築物機械装置及び運搬具土地(面積 千㎡)リース資産その他合計アルバックテクノ株式会社本社工場他(神奈川県茅ヶ崎市他)真空機器事業メンテナンス等サービス設備1,2152131,090(24)731222,713350アルバック機工株式会社本社工場他(宮崎県西都市他)真空機器事業小型真空ポンプ等生産設備42831651(50)2051771,177177アルバック・ファイ株式会社本社工場(神奈川県茅ヶ崎市）真空応用事業表面分析装置に関わる設備901－(－)0468560133アルバック成膜株式会社本社工場(埼玉県秩父市)真空応用事業真空薄膜製品生産設備950298844(56)554702,715187 (3）在外子会社（2025年６月30日現在） 会社名事業所名（所在地）セグメントの名称設備の内容帳簿価額（百万円）従業員数(名)建物及び構築物機械装置及び運搬具土地(面積 千㎡)リース資産その他合計ULVAC KOREA,Ltd.平澤工場他(韓国平澤市他)真空機器事業真空装置生産工場研究開発業務に関わる設備6,36529010(0)1281026,895507愛発科真空技術(蘇州)有限公司本社工場(中国蘇州市)真空機器事業真空装置生産工場1,172120－(－)－711,363178愛発科東方真空(成都)有限公司本社工場(中国成都市)真空機器事業真空装置生産工場443419－(－)－46908184愛発科東方検測技術(成都)有限公司本社工場(中国成都市)真空機器事業工場棟他2,196132－(－)－272,355261Pure Surface Technology,Ltd.本社工場(韓国平澤市)真空機器事業工場棟他1,77492136(26)5411113,383119ULVAC CRYOGENICS KOREAINCORPORATED本社工場(韓国平澤市)真空機器事業工場棟他488160－(－)152268576愛発科商貿(上海)有限公司本社他(中国上海市他)真空機器事業メンテナンス等サービス設備158143－(－)20137538364ULVAC TAIWAN INC.台南工場他(台湾台南市他)真空機器事業真空装置生産工場他1,410645727(2)984593,824304Physical Electronics USA, Inc.本社工場(米国ミネソタ州)真空応用事業工場棟他139212－(－)3261469194ULTRA CLEAN PRECISIONTECHNOLOGIES CORP.台南工場他(台湾台南市他)真空機器事業工場棟他78117－(－)46028683138ULCOAT TAIWAN,Inc.本社工場(台湾台南市)真空応用事業工場棟他7891,023277(13)－672,156137愛発科電子材料(蘇州)有限公司本社工場(中国蘇州市)真空応用事業ターゲット製造工場473332－(－)541621,021101 （注）１．帳簿価額には、建設仮勘定の金額は含まれておりません。２．現在休止中の主要な設備はありません。

（３）【監査の状況】①監査役監査の状況監査役監査体制につきましては、４名から構成される監査役会を設置し、うち半数の２名を社外監査役とすることにより、監査機能及びその公平中立性と透明性を確保しております。なお、常勤監査役森尻裕二氏は、他社における長年の財務・経理部門での経験があり、社外監査役宇都宮功氏は税理士の資格を有しており、いずれも財務及び会計に関する十分な知見を有しております。当事業年度においては監査役会を23回開催しており、各監査役の出席状況は次のとおりであります。氏 名出席回数森尻 裕二（常勤）23回齋藤 一也（常勤）23回宇都宮 功（社外）23回本田 宗哉（社外）23回 監査役は取締役会に出席し（当事業年度において各監査役は在任中のその全てに出席）、議事運営や決議内容等を監査し、必要に応じて意見表明を行うほか、社長及び社外取締役と定期的あるいは随時に情報交換を行っております。また、会計監査人とは相互の監査計画の共有及び監査講評などにより意見交換を行っております。常勤監査役はこれらに加えて、監査役会で決定した監査の方針及び監査計画に基づき、経営会議及びサステナビリティ推進委員会等の重要な会議に積極的に出席し、意見を述べるほか、重要な決裁書類の内容確認等を通じて会社の現況の把握及び適切な事業運営の確認を行い、これらの内容を監査役会に報告することで、社外監査役とも情報を共有しております。さらに、監査室とも緊密な連携を取り、コーポレート・ガバナンス体制の監視、各部署（事業部を含む。）や子会社への往査等の実施により、取締役の業務執行を厳正に監視しております。 ②内部監査の状況当社グループにおける内部監査は、７名からなる監査室が担当しております。内部監査は各部署（事業部を含む。）及び連結子会社を対象とし、年間の内部監査計画に基づき実施しております。また、経営者からの個別の要請事項を踏まえ、適宜臨時監査を実施しております。これらの内部監査の結果につきましては、社長、監査役に加え、対象となる部署長及び連結子会社の社長にも報告し必要に応じて改善を督励しており、取締役会等に対しても定期的に直接報告を行う体制を整備しております。また、監査役監査、会計監査人監査、内部監査がそれぞれ独立した公正な監査を実施しつつ、各監査間での監査結果の報告、意見交換、監査立会等緊密な相互連携を強化することで、相互補完的に監査の質的向上及び効率化に努めております。具体的には、監査役と会計監査人においては、監査計画策定時、四半期毎に会合を持ち、監査役と会計監査人双方の年間監査計画の確認、監査結果の報告、意見交換を行うとともに監査立会等を実施しているほか、必要に応じて随時打合せを行い、緊密な連携に努めております。監査役と監査室においては、監査計画及び監査結果等の情報の相互報告や意見交換等を随時行っております。また、グループ会社の監査役より構成されるグループ監査役会を年２回開催し、意思疎通、情報交換を図る等相互連携に努めております。 ③会計監査の状況業務を執行した公認会計士、補助者の状況は以下のとおりであります。監査法人名継続監査期間業務を執行した公認会計士の氏名等監査業務に係る補助者の構成PwC Japan有限責任監査法人1990年以降指定有限責任社員業務執行社員田邊 晴康公認会計士 ９名その他 39名及川 貴裕（注）当社は2007年６月期以降、継続してPwC Japan有限責任監査法人による監査を受けており、継続監査期間にはPwC Japan有限責任監査法人の前身の監査法人に係る期間を含みます。また、継続監査期間は、当社において調査可能な範囲で記載しており、実際には上記期間を超えている可能性があります。 イ．監査公認会計士等の選定方針と理由当社監査役会は、会計監査人評価に関する手順書を策定しており、監査法人の品質管理体制・独立性・専門性・グループ監査体制・欠格事由の有無、監査報酬等の評価項目を定め、それに適合することを条件としております。評価の過程においては、監査法人との接点が多い内部監査部門及び財務経理部門からの意見聴取も行った上で、当該監査法人を再任することが適当であると判断いたしました。また、監査役会は、会計監査人が会社法第340条第１項各号に定める事由に該当すると認められる場合は、監査役全員の同意に基づき、会計監査人を解任いたします。また、監査役会は、会計監査人の職務遂行状況等を総合的に判断し、監査の適正性及び信頼性が確保できないと認められる場合には、会計監査人の解任又は不再任に関する議案を株主総会に提出することを検討いたします。 ロ．監査役及び監査役会による会計監査人の評価当社監査役会は、日本監査役協会が公表する「会計監査人の評価及び選定基準に関する監査役等の実務指針」に基づき、会計監査人評価に関する手順書を策定しております。その上で、会計監査人の監査実施状況につき、監査役の協議において総合的に評価した結果、当該監査法人を再任することが適当であると判断いたしました。 ④監査報酬の内容等イ．監査公認会計士等に対する報酬区分前連結会計年度当連結会計年度監査証明業務に基づく報酬（百万円）非監査業務に基づく報酬（百万円）監査証明業務に基づく報酬（百万円）非監査業務に基づく報酬（百万円）提出会社90－94－連結子会社12－13－計102－107－ ロ．監査公認会計士等と同一のネットワーク（プライスウォーターハウスクーパース）に対する報酬（イ．を除く）区分前連結会計年度当連結会計年度監査証明業務に基づく報酬（百万円）非監査業務に基づく報酬（百万円）監査証明業務に基づく報酬（百万円）非監査業務に基づく報酬（百万円）提出会社69366821連結子会社1206511232計18910018152（前連結会計年度）当社における非監査業務の内容は、税務に関するアドバイザリー業務等であります。また、連結子会社における非監査業務の内容は、税務に関する支援業務等であります。上記の他に、当社の非連結子会社が支払った又は支払うべき報酬があります。上記の金額に、当該非連結子会社に係る報酬を加えると、監査公認会計士等と同一のネットワークに属する者に対する、当連結会計年度の当社及び当社の子会社の監査証明業務に基づく報酬の額は199百万円、非監査業務に基づく報酬の額は104百万円になります。 （当連結会計年度）当社における非監査業務の内容は、税務に関するアドバイザリー業務等であります。また、連結子会社における非監査業務の内容は、税務に関する支援業務等であります。上記の他に、当社の非連結子会社が支払った又は支払うべき報酬があります。上記の金額に、当該非連結子会社に係る報酬を加えると、監査公認会計士等と同一のネットワークに属する者に対する、当連結会計年度の当社及び当社の子会社の監査証明業務に基づく報酬の額は190百万円、非監査業務に基づく報酬の額は52百万円になります。 ハ．その他の重要な監査証明業務に基づく報酬の内容該当事項はありません。 ニ．監査報酬の決定方針該当事項はありませんが、監査日数等を勘案したうえで決定しております。 ホ．監査役会が会計監査人の報酬等に同意した理由当社監査役会は、社内関係部署及び会計監査人からの必要な資料の入手や報告の聴取を通じて、会計監査人の監査計画の内容、従前の事業年度における職務遂行状況や報酬見積りの算出根拠などを検討した結果、会計監査人の報酬等につき、監査品質を維持向上していくために合理的な水準であると判断し、会社法第399条第１項の同意を行っております。

（５）【株式の保有状況】①投資株式の区分の基準及び考え方 当社は、保有目的が純投資目的である投資株式と純投資目的以外の目的である投資株式の区分について、純投資目的の株式には、専ら株式価値の変動又は株式に係る配当によって利益を受けることを目的として保有する株式を区分し、純投資目的以外の株式には、それ以外の目的で保有する株式（政策保有株式）を区分しております。 ②保有目的が純投資目的以外の目的である投資株式イ．保有方針及び保有の合理性を検証する方法並びに個別銘柄の保有の適否に関する取締役会等における検証の内容 当社は、取引先上場企業との事業上の関係の維持及び強化という観点から、当該取引先の株式を取得することが当社の持続的成長と中長期的な企業価値を向上させることに資すると判断した場合に限り、当該取引先の株式を取得することがあります。 政策保有株式については、保有目的の適切性、保有することによるメリット・リスク、資本コスト等の観点から保有の適否を検証し、毎年取締役会において報告することとしております。その結果、保有の意義が希薄と判断したものについては、縮減を検討していくこととしております。 なお、当事業年度においては、当社保有の政策保有株式のうち２銘柄の売却を実施しました（売却金額1,668百万円）。 ロ．銘柄数及び貸借対照表計上額 銘柄数（銘柄）貸借対照表計上額の合計額（百万円）非上場株式526非上場株式以外の株式3810 （当事業年度において株式数が増加した銘柄）該当事項はありません。 （当事業年度において株式数が減少した銘柄） 銘柄数（銘柄）株式数の減少に係る売却価額の合計額（百万円）非上場株式－－非上場株式以外の株式21,668 ハ．特定投資株式及びみなし保有株式の銘柄ごとの株式数、貸借対照表計上額等に関する情報 特定投資株式銘柄当事業年度前事業年度保有目的、業務提携等の概要、定量的な保有効果及び株式数が増加した理由当社の株式の保有の有無株式数（株）株式数（株）貸借対照表計上額（百万円）貸借対照表計上額（百万円）㈱三井住友フィナンシャルグループ136,17945,393資金調達などの財務面の安定化等のため。2024年10月１日付で１株につき３株の割合をもって株式分割を実施していることから、株式分割後の株式数を記載しております。無※495487㈱みずほフィナンシャルグループ69,00869,008資金調達などの財務面の安定化等のため無※276232三井住友トラストグループ㈱10,20010,200資金調達などの財務面の安定化等のため無※3937㈱オプトラン－1,038,000当社事業活動における取引関係維持のため保有しておりましたが、当事業年度に保有株式の全てを売却しております。無－2,097㈱プロクレアホールディングス－47資金調達などの財務面の安定化等のため保有しておりましたが、当事業年度に保有株式の全てを売却しております。無－0（注）１．「－」は当該銘柄を保有していないことを示しております。２．保有株式に関する定量的な保有効果の算出は困難であり、保有の合理性の検証方法については次のとおりです。 当社は、政策保有株式については、保有目的の適切性、保有することによるメリット・リスク、資本コスト等の観点から保有の適否を検証し、毎年取締役会において報告することとしております。３．当社の株式の保有の有無が「無※」の会社は、銘柄に記載の会社自身は当社株式を保有しておりませんが、同社の子会社が当社株式を保有しております。 みなし保有株式 該当事項はありません。 ③保有目的が純投資目的である投資株式 該当事項はありません。

２【沿革】 当社は、1952年米国NRC Equipment Corporationと技術提携を前提とした総代理店契約を結び各種真空装置の輸入販売を目的として創業いたしました。 創業後の主要事項は次のとおりであります。年月主要事項1952年８月各種真空装置の輸入販売を目的として、日本真空技術株式会社（資本金６百万円）を創業。1955年４月大森工場を新設し、国産装置の製造に着手。1956年11月株式会社東洋精機真空研究所を合併し、尼崎工場として真空化学装置及び真空ポンプ等の規格品の製造に着手。1959年４月本社及び大森工場を横浜市に移転。1961年７月真空技術の基本を応用し、真空冶金事業を開始。1962年９月真空材料株式会社（商号変更 アルバックマテリアル㈱）を設立、耐火材料の販売を開始。1962年10月熱分析機器の専門メーカーとして真空理工株式会社（現・アドバンス理工㈱）を設立。1963年10月新生産業株式会社（1929年９月20日創立）に吸収合併されると共に、同日社名を日本真空技術株式会社と改称し、旧日本真空技術株式会社の事業内容を継続。1964年１月外国事業部リライアンス部を分離し、米国Reliance Electric and Engineering Co.と共同出資で日本リライアンス株式会社（現・㈱ＲＥＪ）を設立。1964年７月香港万豊有限公司と共同出資で合弁会社Hong Kong ULVAC Co.,Ltd.を設立。1966年４月真空冶金事業部を分離し、真空冶金株式会社を設立。1968年５月本社及び横浜工場を茅ヶ崎市に移転。1970年７月専売特約店の三和アルバック販売株式会社（商号変更 アルバック東日本㈱）を設立。1971年７月小型真空ポンプの専門メーカーとして真空機工株式会社（現・アルバック機工㈱）を設立。1972年７月超材料研究所を千葉県に新設。1975年12月対米輸出の拠点として北米に現地法人ULVAC North America Corp.(現・ULVAC Technologies, Inc.)を設立。1977年１月九州地区の営業活動の拡大のために九州アルバック株式会社（商号変更 アルバック九州㈱）を設立。1979年１月サービス事業部を分離し、アルバックサービス株式会社を設立。SI事業部を分離し、アルバック成膜株式会社を設立。1981年10月米国Helix Technology Corp.と共同出資でアルバック・クライオ株式会社を設立。1982年１月台湾台北市にULVAC TAIWAN Co.,Ltd.（現・ ULVAC TAIWAN INC.）を設立。1982年11月米国The Perkin Elmer Corp.と共同出資でアルバック・ファイ株式会社を設立。1982年12月茨城県筑波学園都市（現つくば市）市内に筑波超材料研究所を設立。1983年２月中国北京市に北京事務所を開設。1985年３月核融合臨界プラズマ実験装置「JT-60」の真空排気系を納入。1985年４月関西の拠点工場としてアルバック精機株式会社を設立。1987年１月大型装置の生産体制強化のため、青森県八戸市に東北真空技術株式会社（商号変更 アルバック東北㈱）を設立。1987年２月欧州地区のサービス体制強化のため、西独にULVAC GmbHを設立。1987年５月グループ会社支援のため、株式会社アルバック・コーポレートセンターを設立。1987年９月英文社名をULVAC JAPAN,Ltd.と変更。1988年10月真空ポンプの量産体制確立のため、鹿児島に九州真空技術株式会社を設立。1990年５月半導体製造装置の生産体制強化のため静岡県裾野市に富士裾野工場を新設。1991年12月九州真空技術㈱がアルバック精機㈱を合併し、アルバック精機㈱に商号変更。1992年４月資本金12億10百万円より38億30百万円に増資。1992年６月資本金38億50百万円に増資。1994年10月アルバックサービス㈱がアルバックマテリアル㈱を合併し、アルバックテクノ㈱に商号変更。1995年５月韓国ソウル市に、ULVAC KOREA,Ltd.を設立。1995年９月中国に寧波中策動力機電集団有限公司と合弁で寧波愛発科真空技術有限公司を設立。1996年11月真空装置の生産能力拡充のため、東北真空技術㈱、アルバック九州㈱鹿児島事業所にクリーン工場を増設。 年月主要事項1998年１月シンガポールCSセンター、台湾新竹R&Dセンターを開設し、アジアのネットワークを拡大。2000年４月台北五股サービスセンターを開設。2000年８月ULVAC KOREA,Ltd.に生産工場として平澤工場を設置。2001年５月寧波愛発科真空技術有限公司に新工場を設置。2001年７月株式会社アルバック（英文社名ULVAC,Inc.）に商号変更。2001年11月カスタマーサポート強化のためULVAC TAIWAN INC.桃園CIP工場を設置。2002年１月カスタマーサポート体制の充実のためULVAC SINGAPORE PTE LTDを設立。2002年７月アルバック東日本㈱が高山アルバック㈱を合併し、アルバック イーエス㈱（現・アルバック販売㈱）に商号変更。2002年12月米国Physical Electronics USA,Inc.が保有するアルバック・ファイ㈱株式（50％）を取得し、100％子会社化。2003年３月米国RELIANCE ELECTRIC COMPANYより日本リライアンス㈱株式（31％）を取得し、持分を81％に引き上げ。2003年５月アルバック東北㈱、アルバックテクノ㈱、UMAT㈱による機械加工、表面処理、精密洗浄の一貫工場を東北に設置。2003年７月中国における本格的生産工場とCSソリューション工場として愛発科真空技術（蘇州）有限公司を設立。2003年８月工業用インクジェット装置を製造・販売しているLitrex Corporationの株式50％を取得。2004年４月東京証券取引所市場第１部に株式を上場。資本金38億50百万円より81億円に増資。2004年５月資本金81億円より89億50百万円に増資。2004年７月韓国にULVAC KOREA,Ltd.とアルバック東北㈱が共同出資で大型基板真空用部品の製造を目的としたUlvac Korea Precision,Ltd.を設立。韓国にULVAC KOREA,Ltd.と真空冶金㈱が共同出資で成膜装置用部品の表面処理を目的としたPure Surface Technology,Ltd.を設立。2004年８月中国に日本リライアンス㈱、啓電実業股份有限公司と共同出資で制御盤及び自動制御駆動装置の製造、販売を目的とした愛発科啓電科技（上海）有限公司（現・愛発科自動化科技（上海）有限公司）を設立。2004年12月資本金89億50百万円より134億68百万円に増資。2005年１月中国にアルバック機工㈱と江蘇宝驪集団公司と共同出資で真空ポンプ用部品の製造、販売を目的とした愛発科天馬電機（靖江）有限公司を設立。中国に沈陽中北真空技術有限公司と共同出資で真空炉の製造、販売を目的とした愛発科中北真空（沈陽）有限公司を設立。成都東方愛発科真空技術有限公司を子会社化し、愛発科東方真空（成都）有限公司に商号変更。2005年４月真空冶金㈱がUMAT㈱を合併し、アルバックマテリアル㈱に商号変更。フラットパネルディスプレイ事業拡大のため、富士通ヴィエルエスアイ㈱より設備事業譲受。2005年６月ULVAC KOREA,Ltd.に生産拡大のため玄谷工場を増設。アルバック機工㈱宮崎事業所に小型真空ポンプの評価、検証を目的とした信頼性評価センターを設置。2005年11月英国Cambridge Display Technology Limitedが保有するLitrex Corporation株式（50％）を取得し100％子会社化。タイに販売やフィールドサポートを目的としたULVAC (THAILAND) LTD.を設立。2005年12月台湾にフラットパネルディスプレイ製造装置などの製造を目的としたULVAC TaiwanManufacturing Corporationと、部品加工や部品洗浄などフィールドサポートを目的としたULTRA CLEAN PRECISION TECHNOLOGIES CORP.を設立。2006年３月中国における子会社の管理統括等を目的とした愛発科（中国）投資有限公司を設立。2006年４月台湾に制御盤等の製造を目的としたULVAC AUTOMATION TAIWAN Inc.を設立。2006年７月韓国に研究開発を目的としたULVAC Research Center KOREA，Ltd.を設立。 台湾に研究開発を目的としたULVAC Research Center TAIWAN，Inc.を設立。2006年８月精密ステージを製造・販売しているシグマテクノス㈱の株式（70％）を取得。 マレーシアに販売やフィールドサポートを目的としたULVAC MALAYSIA SDN.BHD.を設立。 年月主要事項2006年９月神奈川県茅ヶ崎市に真空装置部品の表面処理を目的とした、アルバックテクノ㈱ケミカルセンターを新設。 宮崎県西都市に小型真空ポンプの生産集約化を目的として、アルバック機工㈱宮崎事業所を増 設。2006年11月愛知県春日井市にフラットパネルディスプレイ製造装置の生産能力拡充のため、愛知工場を新設。2007年６月インドビジネス拡大のため、ULVAC,Inc.India Branch.を設立。20